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Fabrication of GaN films through reactive reconstruction of magnetron sputtered ZnO/Ga_2O_3 被引量:1
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作者 高海永 庄惠照 +5 位作者 薛成山 董志华 何建廷 刘亦安 吴玉新 田德恒 《Journal of Central South University of Technology》 SCIE EI CAS 2005年第1期9-12,共4页
A simple and easily operated technique was developed to fabricate GaN films. GaN films possessing hexagonal wurtzite structure were fabricated on Si(111) substrates with ZnO buffer layers through nitriding Ga2O3 films... A simple and easily operated technique was developed to fabricate GaN films. GaN films possessing hexagonal wurtzite structure were fabricated on Si(111) substrates with ZnO buffer layers through nitriding Ga2O3 films in the tube quartz furnace. ZnO buffer layers and Ga3O3 films were deposited on Si substrates in turn by using radio frequency magnetron sputtering system before the nitriding process. The structure and composition of GaN films were studied by X-ray diffraction, selected area electron diffraction and Fourier transform infrared spectrophotometer. The morphologies of GaN films were studied by scanning electron microscopy. The results show that ZnO buffer layer improves the crystalline quality and the surface morphology of the films relative to the films grown directly on silicon substrates. The measurement result of room-temperature photoluminescence spectrum indicates that the photoluminescence peaks locate at 365 nm and 422 nm. 展开更多
关键词 FABRICATION Ga2O3 film ZnO buffer layer radio frequency magnetron sputtering NITRIDING
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Resistive Switching of BN-based Films Accompanied with the Modulation of Ferromagnetism
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作者 FAN Huan SHI Yana +2 位作者 LI Jiale ZHAO Juanjuan LI Xiaoli 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第S02期63-66,共4页
Nanostructured BN and BN-Co films with Cu,Co,Au as the top electrodes,and Pt as the bottom electrodes were grown by magnetron sputtering.Both BN samples and BN-Co ones show bipolar resistive switching behaviors.For th... Nanostructured BN and BN-Co films with Cu,Co,Au as the top electrodes,and Pt as the bottom electrodes were grown by magnetron sputtering.Both BN samples and BN-Co ones show bipolar resistive switching behaviors.For the sample with active Cu as the top electrode,the formation and rupture of metallic Cu conductive filaments can explain the resistive switching behavior;for the other samples,the generation and annihilation of nitrogen vacancies under the electric stimuli may contribute to the occurrence of resistive switching.Taking advantage of the formed and broken Co-N bonds during resistive switching,the saturation magnetization of the BN-Co films can be modulated.Thus,it investigated the resistive switching behavior of BN and BN-Co materials in this work.Similar to that of oxide materials,the resistive switching behaviors of the nitrides may be attributed to the movement of cations or anions within the dielectric or electrodes during the application of voltage.Additionally,ion migration may lead to the formation or breaking of Co-N bonds,which can effectively regulate the magnetism of BN-Co materials.This study extends resistive switching materials to nitrides,enabling the regulation of magnetism along with resistance changes,thus providing insights for the design of novel voltage-controlled magnetic devices and achieving multi-functionality. 展开更多
关键词 BN-based thin film magnetron sputtering resistive switching saturation magnetization
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钴铬钼基高熵合金薄膜的耐腐蚀性与耐磨性
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作者 王波 戴铭成 +2 位作者 张丽霞 齐艳飞 汤云晖 《北京工业大学学报》 北大核心 2025年第9期1024-1032,共9页
钴铬钼合金在作为人工关节应用于人体时会产生磨粒降低使用寿命以及影响人体健康的金属离子,为了寻找性能更为优异的医用材料,延长人工关节的使用寿命,采用扇形复合靶,通过磁控溅射技术在硅片上制备了钴铬钼基高熵合金薄膜,并对其微观... 钴铬钼合金在作为人工关节应用于人体时会产生磨粒降低使用寿命以及影响人体健康的金属离子,为了寻找性能更为优异的医用材料,延长人工关节的使用寿命,采用扇形复合靶,通过磁控溅射技术在硅片上制备了钴铬钼基高熵合金薄膜,并对其微观结构以及耐腐蚀性和耐磨性进行了深入研究。结果表明:随着组成元素的增加,混合熵与原子半径相对标准差呈增大趋势,混合焓一直处于较低水平,其中七元高熵合金薄膜具有最优的耐磨性和耐腐蚀性。混合熵的增加降低了合金的吉布斯自由能,提高了合金薄膜的化学稳定性,导致更强的非晶倾向、更低的体系自由能,所以合金薄膜表现出更优良的耐腐蚀性、耐磨性以及相关力学性质。另外,添加的Zr、Nb元素有助于减小晶体颗粒尺度,降低表面的粗糙度,从而增强了合金薄膜的耐腐蚀性与耐磨性。该研究可为高熵合金薄膜在人工关节领域的应用提供参考。 展开更多
关键词 磁控溅射 高熵合金 薄膜 非晶 耐腐蚀性 耐磨性
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N_(2)/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的影响
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作者 魏永强 张华森 +5 位作者 张晓晓 顾艳阳 刘畅 吕怿东 韦春贝 钟素娟 《表面技术》 北大核心 2025年第14期92-104,共13页
目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,... 目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,分别在M2高速钢和单晶硅片(100)上制备TiZrN/TiN纳米多层薄膜。研究N2/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜形貌结构、元素成分、相结构、纳米硬度、膜基结合力、摩擦磨损性能和耐腐蚀性能的影响。结果在N2/Ar流量比为35/65时,薄膜表面粗糙度最低达到0.298μm;在N2/Ar流量比为40/60时,薄膜总厚度最高达574 nm;TiZrN/TiN纳米多层薄膜均以(111)晶面为择优取向,硬度在22.95~27.15 GPa。在N2/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜离子轰击作用最强,Zr/(Ti+Zr)的值较大(0.088),硬度和弹性模量最高分别达到27.15 GPa和271.14 GPa。在N_(2)/Ar流量比为25/75和30/70时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的膜基结合力最好,达到HF1等级。TiZrN/TiN纳米多层薄膜稳定摩擦系数均在0.8左右,磨损率先增大后减小。N_(2)/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的自腐蚀电位和自腐蚀电流密度分别为-0.546 V和1.167μA/cm^(2),薄膜对M2高速钢基体的保护率最高达到87.9%。结论采用电弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射复合方法,大幅改善了薄膜表面质量;N_(2)/Ar流量比可改变离子轰击强度的强弱,随着N_(2)/Ar流量比的增加,沉积离子轰击强度逐渐减弱,薄膜硬度和耐腐蚀性能逐渐下降;在N_(2)/Ar流量比为25/75时,薄膜综合性能最优。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 电弧离子镀 TiZrN/TiN纳米多层薄膜 N_(2)/Ar流量比 纳米硬度 耐磨性
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纯铜靶材的微观结构调控与成膜特性
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作者 彭海 陈天天 +4 位作者 闻明 沈月 巢云秀 施晨琦 王传军 《机械工程材料》 北大核心 2025年第6期43-51,共9页
采用真空感应熔炼、均匀化退火、锻造、温轧和退火工艺制备纯铜靶材,研究了温轧态和不同温度(400,500,600,700℃)退火态纯铜靶材的微观结构;利用微观结构最优的退火态纯铜靶材和温轧态纯铜靶材,采用磁控溅射工艺制备纯铜薄膜,并对薄膜... 采用真空感应熔炼、均匀化退火、锻造、温轧和退火工艺制备纯铜靶材,研究了温轧态和不同温度(400,500,600,700℃)退火态纯铜靶材的微观结构;利用微观结构最优的退火态纯铜靶材和温轧态纯铜靶材,采用磁控溅射工艺制备纯铜薄膜,并对薄膜进行不同温度(300,400,500℃)的退火处理,研究了沉积态和退火态薄膜的微观结构和电学性能。结果表明:温轧态纯铜靶材的晶粒尺寸分布不均匀,退火后纯铜靶材发生回复与再结晶,随着退火温度的升高,回复与再结晶程度增加,晶粒尺寸分布逐渐均匀;当回火温度为600℃时,晶粒接近等轴晶,平均晶粒尺寸约为39.30μm,但当退火温度升高到700℃时,晶粒明显长大,平均晶粒尺寸增加到53.64μm;温轧态和退火态纯铜靶材表面均出现较高程度的(111)晶面择优取向,中心则出现较高程度的(220)晶面择优取向;600℃退火态纯铜靶材的微观结构最优。与采用温轧态纯铜靶材制备的退火态薄膜相比,采用退火态纯铜靶材制备的退火态薄膜的氧化程度、颗粒尺寸、表面粗糙度、电阻率均更小,(111)晶面择优取向程度更大。随着退火温度的升高,薄膜表面粗糙度先减小后增大,电阻率降低;当退火温度高于300℃时,薄膜出现颗粒团聚氧化现象。600℃退火态纯铜靶材制备的纯铜薄膜在300℃退火后具有最优异的微观结构和性能。 展开更多
关键词 磁控溅射 纯铜靶材 铜薄膜 温轧 退火 微观结构
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高功率脉冲磁控溅射制备不同氮含量CN_(x)薄膜的摩擦学行为
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作者 邢朝阳 王新飞 +2 位作者 杨攀峰 张斌 王欣 《中国表面工程》 北大核心 2025年第3期272-284,共13页
氮化碳薄膜因其低摩擦因数低磨损的优异摩擦学性能,被认为是一种理想的固体润滑材料,但其超低摩擦起源尚未得到充分探讨,使其在润滑领域的工程应用受到限制。利用高功率脉冲磁控溅射法(HiPIMS)在Si基底上制备系列不同氮含量的CN_(x)薄膜... 氮化碳薄膜因其低摩擦因数低磨损的优异摩擦学性能,被认为是一种理想的固体润滑材料,但其超低摩擦起源尚未得到充分探讨,使其在润滑领域的工程应用受到限制。利用高功率脉冲磁控溅射法(HiPIMS)在Si基底上制备系列不同氮含量的CN_(x)薄膜,与直径为6.0 mm的440C摩擦对偶球组成摩擦配副体系,使用旋转模式CSM TRB3摩擦机研究惰性气体环境下CN_(x)薄膜的摩擦学特性,在相同摩擦学条件下(1 N,200 rpm,RH<3%),引入预磨合的方法进行摩擦学研究。利用纳米硬度、X射线光电子能谱、激光共聚焦拉曼光谱、场发射扫描电镜及CSM摩擦试验机等,分别评价CN_(x)薄膜的结构、表面形貌、力学及摩擦学等性能。结果表明N元素的引入对CN_(x)力学性能的影响复杂,N含量的不同直接导致对应CN_(x)薄膜力学性能和结合力的提高或降低。CN_(x)薄膜在预磨合后获得更低的摩擦因数和磨损率,证明预磨合是行之有效的减磨降损手段,结合对球斑和磨痕的物理化学分析推断,预磨合过程中潮湿大气中的水、氧以氢氧类基团吸附在DLC薄膜表面终止悬键,以及摩薄膜表面C、N网络重构,偶球面上的碳氮转移膜和重构后形成的低剪切顶层富sp^(2)磨痕的协同作用实现了超润滑状态。研究为不同氮含量的CN_(x)薄膜摩擦学行为及其超低摩擦工程应用提供了参考。 展开更多
关键词 超润滑 N元素掺杂 CN_(x)薄膜 高功率脉冲磁控溅射 预磨合
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激光刻蚀对磁控溅射ZnO气敏性能的影响
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作者 李东明 黄良宇 +1 位作者 祝小杰 孙士斌 《传感器与微系统》 北大核心 2025年第9期107-111,共5页
通过激光刻蚀技术对磁控溅射法制备的氧化锌(ZnO)纳米薄膜进行表面调控,分析不同激光功率对薄膜气敏性能的影响,并确定传感器在最佳性能时的激光功率。结果表明,以0.15 W的激光功率对ZnO薄膜进行刻蚀处理后,传感器在320℃工作温度下对... 通过激光刻蚀技术对磁控溅射法制备的氧化锌(ZnO)纳米薄膜进行表面调控,分析不同激光功率对薄膜气敏性能的影响,并确定传感器在最佳性能时的激光功率。结果表明,以0.15 W的激光功率对ZnO薄膜进行刻蚀处理后,传感器在320℃工作温度下对乙醇的灵敏度达到13.6,即便在95%高相对湿度环境下,其灵敏度仍为7.01。此外,该传感器具有良好的选择性、重复性、长期稳定性、抗湿性以及快速的响应/恢复时间。 展开更多
关键词 磁控溅射 氧化锌薄膜 激光刻蚀 气体传感器 抗湿性
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极紫外多层膜氮化物和氧化物保护层的工艺研究
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作者 王佳兴 韩伟明 +1 位作者 张晗 匡尚奇 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第2期37-45,共9页
极紫外(EUV)反射镜在高能、高功率极紫外光辐照的过程中,其表面易形成碳沉积和氧化,从而影响其反射率,进而缩短其使用寿命。针对这一问题,分别实验研究了在极紫外多层膜表面镀制氮化物和氧化物保护层的制备工艺,并进行了表征。在制备过... 极紫外(EUV)反射镜在高能、高功率极紫外光辐照的过程中,其表面易形成碳沉积和氧化,从而影响其反射率,进而缩短其使用寿命。针对这一问题,分别实验研究了在极紫外多层膜表面镀制氮化物和氧化物保护层的制备工艺,并进行了表征。在制备过程中,基于直流反应磁控溅射技术,研究了工艺气体流量与溅射电压之间的“双曲线”关系,以此优化控制反应气体量,进而降低反应溅射过程中反应气体对Mo/Si多层膜的影响。基于这一方法,分别在Mo/Si多层膜表面镀制TiN、 ZrN和TiO_(2)保护层,应用掠入射X射线反射(GIXR)、X射线光电子能谱(XPS)和透射电子显微成像(TEM)对其进行了表征,并通过对比分析,验证了氮化物保护层具有一定的性能优势。 展开更多
关键词 极紫外多层膜 反应磁控溅射 表面保护层 氮化物/氧化物薄膜
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用于特殊环境的薄膜应变计的制备与表征
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作者 张丛春 康志鹏 +1 位作者 雷鹏 闫博 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期589-596,共8页
使用磁控溅射制备了卡玛合金薄膜应变计,研究了退火温度对薄膜微观结构的影响,测试了薄膜的电学性能以及压阻响应特性,并进行了环境实验。结果表明,随着退火温度升高,薄膜的电阻率逐渐下降,电阻温度系数则逐渐升高,在室温下有最小的电... 使用磁控溅射制备了卡玛合金薄膜应变计,研究了退火温度对薄膜微观结构的影响,测试了薄膜的电学性能以及压阻响应特性,并进行了环境实验。结果表明,随着退火温度升高,薄膜的电阻率逐渐下降,电阻温度系数则逐渐升高,在室温下有最小的电阻温度系数(TCR),约为59.9×10^(-6)/℃,经过200℃退火处理的薄膜应变计的应变灵敏度系数(GF)为2.2,TCR为64.4×10^(-6)/℃。经历温湿循环、盐雾、霉菌试验后,薄膜的压阻特性变化不大,能耐受海洋特殊环境。 展开更多
关键词 磁控溅射 薄膜应变计 电阻温度系数 应变因子 环境实验
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基于磁控溅射的氮化物薄膜摩擦与腐蚀性能研究 被引量:2
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作者 刘凡 林诗翔 +2 位作者 张明权 杨秀杰 唐正强 《热加工工艺》 北大核心 2024年第10期16-21,共6页
通过磁控溅射法在Ti45Nb合金表面溅射了TiN、ZrN和ZrTiN无毒陶瓷薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射对样品的微观以及相结构进行了表征。样品的摩擦磨损性能通过往复式摩擦试验机进行评价,而其腐蚀性能通过Tafel极化和电化学阻抗谱测量来评... 通过磁控溅射法在Ti45Nb合金表面溅射了TiN、ZrN和ZrTiN无毒陶瓷薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射对样品的微观以及相结构进行了表征。样品的摩擦磨损性能通过往复式摩擦试验机进行评价,而其腐蚀性能通过Tafel极化和电化学阻抗谱测量来评价。结果表明:薄膜的结构都为面心立方结构,且都沿(200)方向择优生长。相比于TiN和ZrN薄膜,ZrTiN薄膜为合金化复合薄膜,改变了TiN、ZrN薄膜柱状晶生长模式,由柱状晶生长转变为小单晶聚合生长为多晶,形成更加致密的薄膜。此外,与Ti45Nb合金相比,不同氮化物薄膜改性的Ti45Nb合金的磨损率降低了两个数量级,其中ZrTiN薄膜具有最低的磨损率。在模拟体液中,ZrTiN薄膜改性的Ti45Nb合金的耐腐蚀性得到了一定的提高。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化物薄膜 摩擦磨损 电化学腐蚀
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多种方法制备SiO_(2)薄膜及其性能研究 被引量:1
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作者 何亮 王祥宇 +5 位作者 田浩生 杨海林 乐景胜 杨帆 梁佳伟 刘利芹 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第S01期38-41,共4页
二氧化硅(SiO_(2))薄膜因出色的光学、介电、抗刻蚀和优异力学性能等特点,在光学和微电子等多个领域中有着广泛的应用。制备SiO_(2)薄膜的工艺方法及工艺条件都会影响其性能,但目前对其系统性研究仍有欠缺。本工作探讨了磁控溅射和热氧... 二氧化硅(SiO_(2))薄膜因出色的光学、介电、抗刻蚀和优异力学性能等特点,在光学和微电子等多个领域中有着广泛的应用。制备SiO_(2)薄膜的工艺方法及工艺条件都会影响其性能,但目前对其系统性研究仍有欠缺。本工作探讨了磁控溅射和热氧化两种制备方法,以及各种工艺条件对SiO_(2)薄膜性能的影响。首先,研究了磁控溅射过程中溅射功率对沉积速率和膜层粗糙度的影响。结果表明随着溅射功率的增加,沉积速率和膜层粗糙度均增大。其次,创新地利用马弗炉在空气氛围下进行热氧化,并与标准氧化炉的干氧和湿氧氧化进行了比较。结果表明:氧化温度要大于800℃;在900~1100℃氧化速率线性增加;在1200℃时速率增加变缓,由于空气中氧气供应略不足。基于低价位的马弗炉设备成功制备出高质量的SiO_(2)薄膜。随后,对磁控溅射与不同氛围下热氧化制得的SiO_(2)薄膜进行了折射率和抗刻蚀性的表征与对比分析。结果表明热氧化制备的SiO_(2)薄膜具有更高的折射率和更好的抗刻蚀特性。本研究不仅丰富了SiO_(2)薄膜制备的理论基础,还为不同制备方法和不同工艺条件下制得的SiO_(2)薄膜的性能提供了参考,具有较好的理论价值和实践意义。 展开更多
关键词 SiO_(2)薄膜 磁控溅射 热氧化 折射率 抗刻蚀特性
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双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究
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作者 朱治坤 陈婉婷 +2 位作者 陈静 朱常青 刘荣梅 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第24期188-196,共9页
目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的... 目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的作用。方法利用磁控溅射法在TN玻璃基板上沉积生成SiO_(2)薄膜,然后再沉积氧化铟锡(ITO)薄膜,制备ITO/SiO_(2)薄膜样品。利用X射线衍射仪(XRD)、ST-21L型薄膜膜电阻测试仪、原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)等仪器,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜样品的物相结构、表面形貌、截面膜层结构、元素分布与有膜电阻均匀性的关系,探讨了SiO_(2)薄膜结构与晶粒尺寸效应可能发挥的作用。结果(1)磁控溅射优化条件下,磁场强度为780~820 Gs,镀膜工件移动速度为1.2 m/min,镀膜功率为2.5 kW(A21)和3 kW(A23)时,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻极差最小为10~11Ω/sq,平均值为75~76Ω/sq,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻的均匀性最好。(2)ITO/SiO_(2)薄膜表现出晶体谱线和非晶谱线的叠加,In_(2)O_(3)和SnO_(2)特征峰发生轻微左偏移现象,SiO_(2)特征峰较宽,说明薄膜中的SiO_(2)处于非晶态结构,且可能部分发生晶粒尺寸效应,以微晶或纳米晶的形式存在。(3)ITO/SiO_(2)薄膜表面形貌比起SiO_(2)薄膜更均匀、连续、平滑且较致密,且具有明显的双膜层结构,其中ITO薄膜表面均匀平整且膜厚均匀,这与膜电阻均匀性一致;SiO_(2)薄膜与ITO薄膜和玻璃基底都形成了界面层,应该也是ITO薄膜结合力较好的原因;In元素的流失受到一定阻隔,应该与薄膜中的SiO_(2)的非晶态结构或发生晶粒尺寸效应,以及多晶ITO结构有关。结论通过优化控制靶面磁场强度、镀膜工件移动速度和镀膜功率等工艺因素,可以提高ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性,同时通过控制SiO_(2)薄膜成膜质量可以改善ITO薄膜质量,并起到阻隔In元素流失的作用。 展开更多
关键词 磁控溅射法 ITO/SiO_(2)双膜层 微观结构 膜电阻均匀性
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直流、射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及电学性能分析 被引量:1
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作者 沈月 张以棚 +4 位作者 许彦亭 巢云秀 唐可 王传军 闻明 《贵金属》 CAS 北大核心 2024年第1期1-9,14,共10页
为了探索直流和射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及性能差异,进而指导薄膜制备工艺优化。采用直流和射频磁控溅射法在SiO_(2)/Si(100)衬底上沉积不同时间和温度的钌薄膜;通过高分辨场发射扫描电镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针... 为了探索直流和射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及性能差异,进而指导薄膜制备工艺优化。采用直流和射频磁控溅射法在SiO_(2)/Si(100)衬底上沉积不同时间和温度的钌薄膜;通过高分辨场发射扫描电镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、四探针等方法研究不同溅射电源下制备的钌薄膜的微观结构和电学性能。结果表明,在相同溅射条件下,DC-Ru薄膜的结晶性优于RF-Ru薄膜;其厚度大于RF-Ru薄膜,满足tDC≈2tRF;其沉积速率高于RF-Ru薄膜,满足vDC≈2vRF。然而,其电阻率却高于RF-Ru薄膜,这主要得益于RF-Ru薄膜的致密度较高,从而降低了电子对缺陷的散射效应。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 射频磁控溅射 钌薄膜 微观结构 电阻率
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非平衡磁控溅射沉积Ta-N薄膜的结构与电学性能研究 被引量:11
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作者 杨文茂 张琦 +2 位作者 陶涛 冷永祥 黄楠 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1593-1595,1602,共4页
采用直流反应非平衡磁控溅射技术在单晶Si(100)和玻璃表面沉积氮化钽(Ta-N)薄膜。分别测试了薄膜的结构、成分、电阻率和吸收光谱,研究了氯氩流量比(N2:Ar)变化对Ta—N薄膜的结构和电学性能的影响。研究结果表明随N2:Ar增加,... 采用直流反应非平衡磁控溅射技术在单晶Si(100)和玻璃表面沉积氮化钽(Ta-N)薄膜。分别测试了薄膜的结构、成分、电阻率和吸收光谱,研究了氯氩流量比(N2:Ar)变化对Ta—N薄膜的结构和电学性能的影响。研究结果表明随N2:Ar增加,依次生成六方结构的γ-Ta2N、面心立方结构(fcc)的δ-TaNx体心四方结构(bct)的TaNx;N2:Ar在0.2~0.8的范围内,Ta—N薄膜中只存在着fcc δ-TaNx;当N2:Ar〉1之后,Ta—N薄膜中fCC δ-TaN,和bct TaNx共存。Ta—N薄膜电阻率随N2:Ar流量比增加持续增加,当N2:Ar为1.2时,薄膜变为绝缘体,光学禁带宽度为1.51eV。 展开更多
关键词 Ta-N 薄膜 非平衡磁控溅射 反应溅射 XRD 电阻率
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两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究 被引量:32
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作者 韩修训 阎鹏勋 +4 位作者 阎逢元 刘维民 余画洋 徐建伟 吴志国 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-179,共5页
分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦... 分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 .结果表明 :与采用直流磁控溅射法在 40 0℃基底上制备的 Ti N涂层相比 ,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 Ti N涂层更加致密 ,表面平滑 ,最大硬度达 3 5 GPa,摩擦系数明显较小 ( 0 .1~ 0 .4) 。 展开更多
关键词 物理气相沉积 氮化钛涂层 结构 摩擦性能 纳米压入 PVD
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非平衡磁控溅射氮化钛薄膜及其性能研究 被引量:17
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作者 张琦 陶涛 +3 位作者 齐峰 刘艳文 冷永祥 黄楠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期163-167,共5页
采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜。通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、原子力显微镜、PS-168型电化学测量系统、CSEM球盘摩擦磨损实验机... 采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜。通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、原子力显微镜、PS-168型电化学测量系统、CSEM球盘摩擦磨损实验机、HXD-1000 knoop显微硬度仪等研究了薄膜的结构、表面形貌、耐腐蚀性能与机械性能。结果表明,采用非平衡磁控溅射技术制备出了致密的氮化钛薄膜。当PN/PAr较小时,氮化钛薄膜中存在Ti2N时,Ti2N相可以有效提高薄膜的硬度和耐磨损性能;当PN/PAr增加到0.1时,薄膜硬度达到最大,耐磨损性能最优;随着PN/PAr的继续增大,氮化钛薄膜中主要存在TiN相,氮化钛薄膜的复合硬度和耐磨损性能降低。在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜可以显著提高其在Hanks类体液中的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 氮化钛 非平衡磁控溅射 耐磨性 抗腐蚀性能
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工作气压对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响 被引量:21
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作者 付恩刚 庄大明 +2 位作者 张弓 杨伟方 赵明 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期543-545,共3页
 工作气压在ZnO∶Al(ZAO)薄膜制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能。本文利用中频交流磁控溅射方法,采用氧化锌铝(ZnO与Al2O3的质量比为98∶2)陶瓷靶材,在基体温度为250℃,工作气压范围为0.2~8.0Pa条件下,制备了ZAO...  工作气压在ZnO∶Al(ZAO)薄膜制备过程中是一个重要的工艺参数,直接决定着薄膜的性能。本文利用中频交流磁控溅射方法,采用氧化锌铝(ZnO与Al2O3的质量比为98∶2)陶瓷靶材,在基体温度为250℃,工作气压范围为0.2~8.0Pa条件下,制备了ZAO薄膜。利用X射线衍射仪和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了分析和观察,利用分光光度计和霍尔测试仪测量了薄膜的光学和电学性能,研究了制备薄膜时不同的工作气压(氩气压力PAr)对薄膜的结构、形貌、光学性能和电学性能的影响。结果表明:随着工作气压的增加,薄膜的电阻率先略有下降然后上升,相应地,载流子浓度和迁移率先略有上升然后下降,而可见光谱平均透过率保持在80%以上。当基体温度为250℃,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率最低,为4.6×10-4Ω·cm,方块电阻为32Ω时,在范围为490~600nm的可见光谱内的平均透过率可达90.0%。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 性能 磁控溅射 工作气压 工艺参数 电阻率 透过率
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钛合金表面非平衡磁控溅射制备氮化钛薄膜性能研究 被引量:10
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作者 齐峰 王志浩 +3 位作者 张琦 杨文茂 冷永祥 黄楠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期368-371,共4页
本文利用非平衡磁控溅射技术,通过改变薄膜沉积时氮气和氩气分压比(PN/PAr)和靶基距,在Si(100)和钛合金(Ti6A14V)基体上制备了氮化钛薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、HXD^1000显微硬度仪和(CSEM)销盘摩擦磨损实验机对... 本文利用非平衡磁控溅射技术,通过改变薄膜沉积时氮气和氩气分压比(PN/PAr)和靶基距,在Si(100)和钛合金(Ti6A14V)基体上制备了氮化钛薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、HXD^1000显微硬度仪和(CSEM)销盘摩擦磨损实验机对氮化钛薄膜的晶体结构、断面形貌、显微硬度和耐磨性进行了表征。研究发现,利用非平衡磁控溅射制备出致密的氮化钛薄膜,PN/PAr较小时,氮化钛薄膜中存在Ti2N相,Ti2N能够提高薄膜的硬度与耐磨性,随着N2/Ar的提高,薄膜硬度、耐磨性提高,当PN/PAr达到0.1时,随着N2/Ar的提高,薄膜硬度、耐磨性降低。结果表明,在钛合金表面制备氮化钛薄膜可以显著提高钛合金表面硬度与耐磨性,在改善用于人工心脏瓣膜的力学性能,提高人工心脏瓣膜的瓣架耐磨性,提高人工心脏瓣膜的寿命方面有较广阔的应用前景。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 氮化钛 结构 显微硬度 耐磨性
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磁控反应溅射SiN_x薄膜的研究 被引量:15
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作者 朱勇 沈伟东 +1 位作者 叶辉 顾培夫 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期154-157,共4页
用磁控反应溅射 (RF)的方法制备了SiNx 薄膜 分析了以硅为靶材 ,用N2 /Ar做溅射气体条件下不同的气流比率、总气压以及沉积速率对薄膜光学常数和表面结构形态的影响 ,得出较低总气压下气流比率对薄膜光学常数的影响是最关键的 ,而总气... 用磁控反应溅射 (RF)的方法制备了SiNx 薄膜 分析了以硅为靶材 ,用N2 /Ar做溅射气体条件下不同的气流比率、总气压以及沉积速率对薄膜光学常数和表面结构形态的影响 ,得出较低总气压下气流比率对薄膜光学常数的影响是最关键的 ,而总气压较大的时候 ,水汽影响增大 ,气流比率的影响反而不明显 最后提出了合适的工艺条件来制备符合要求的SiNx 展开更多
关键词 SiNx薄膜 磁控反应溅射 光学常数
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(Al,Zr)共掺杂ZnO透明导电薄膜的结构以及光电性能研究 被引量:10
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作者 薛建设 林炜 +2 位作者 马瑞新 康勃 吴中亮 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期560-564,共5页
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上氩气气氛中制备出(Al,Zr)共掺杂的ZnO透明导电薄膜,研究了不同Zr掺杂浓度和薄膜厚度ZnO薄膜的结构、电学和光学特性。结果表明,在最佳沉积条件下我们制备出了具有(002)单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,... 用射频磁控溅射法在玻璃衬底上氩气气氛中制备出(Al,Zr)共掺杂的ZnO透明导电薄膜,研究了不同Zr掺杂浓度和薄膜厚度ZnO薄膜的结构、电学和光学特性。结果表明,在最佳沉积条件下我们制备出了具有(002)单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,电阻率为2.2×10-2Ω.cm,且可见光段(320~800nm)平均透过率达到85%的ZnO透明导电薄膜。在150℃的条件下对(Al,Zr)共掺杂的ZnO薄膜进行1h的退火处理,薄膜电阻率降低至8.4×10-3Ω.cm。Zr杂质的掺入改善了薄膜的可见光透光性。 展开更多
关键词 氧化锌 透明导电薄膜 电阻率 透光率 射频磁控溅射
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