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题名阴极电沉积法制备高氮含量氮化碳薄膜
被引量：7
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作者
李超
曹传宝
朱鹤孙
吕强
黄福林
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机构
北京理工大学材料科学研究中心
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出处
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第1期36-40,共5页
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基金
国家自然科学基金 (2 0 1710 0 7)
博士点基金 (19990 0 0 718)资助项目
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文摘
用双氰胺在乙腈中的溶液作沉积液 ,以镀有铟锡氧化物 (ITO)的导电玻璃为衬底 ,在阴极上制备了高氮含量的CNx 薄膜。XPS分析表明 ,薄膜最高氮碳原子比N/C为 1 2 2 (接近C3 N4中氮碳计量比 ) ,碳和氮主要以C—N、CN的形式成键。FTIR支持XPS的分析结果。拉曼光谱与大多数报道的氮化碳的拉曼光谱不同 ,在 10 98和 195 0cm -1处有 2个明显的峰 ,前者可归属为C—N ,后者可归属为 CN 。在 5 0℃、12 5 0V下得到的样品薄膜的纳米硬度为 11 31GPa ,弹性模量为 86GPa。提出了极化竞争反应机制 ,简要的解释了CNx
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关键词
氮化碳膜
电化学沉积
硬度
模量
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Keywords
carbon nitride film,electrodeposition,hardness,young′s modulus
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分类号
O646
[理学—物理化学]
O484
[理学—固体物理]
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