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压强对HfO_(2)薄膜表面石墨烯合成的影响研究
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作者 武海进 王伟 +1 位作者 杨玉帅 樊瑞祥 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期75-81,共7页
采用真空电子束蒸镀工艺制备HfO_(2)高K介质薄膜,并在HfO_(2)衬底表面使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺无转移制备石墨烯。通过GIXRD、AFM、阻抗分析仪和激光拉曼光谱仪等,研究了生长温度对HfO_(2)薄膜微观结构、表面形貌和介... 采用真空电子束蒸镀工艺制备HfO_(2)高K介质薄膜,并在HfO_(2)衬底表面使用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺无转移制备石墨烯。通过GIXRD、AFM、阻抗分析仪和激光拉曼光谱仪等,研究了生长温度对HfO_(2)薄膜微观结构、表面形貌和介电性能的影响,以及反应总压强对HfO_(2)衬底表面石墨烯生长的影响。结果表明,生长温度为250℃时HfO_(2)薄膜具有最优的表面形貌(RMS=0.232nm),为非晶态且相对介电常数最高(22.34)。适当的反应总压强能够平衡碳物种的传输与石墨烯的生长速率,促进反应物的均匀分布,从而改善石墨烯薄膜的质量。随着反应总压强的升高,石墨烯薄膜的质量先提高后降低,在150Pa压强条件下可获得表面光滑、缺陷水平最低的少层石墨烯薄膜。 展开更多
关键词 HfO_(2) 石墨烯 薄膜 高K介质 真空电子束蒸镀 等离子体增强化学气相沉积 生长温度 压强
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纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究 被引量:3
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作者 夏磊 周荃 +1 位作者 徐金洲 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期117-121,共5页
采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下... 采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用. 展开更多
关键词 常压等离子体化学气相沉积(apecvd) 多孔硅基薄膜 负偏压 荧光(PL)
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常压等离子体化学气相沉积制备UHMWPE/SiO_xC_yH_z锂离子杂化隔膜 被引量:5
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作者 王超梁 彭释 +2 位作者 戴协 石建军 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期179-184,共6页
采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)方法裂解六甲基二硅氧烷(HMDSO),在高强高模聚乙烯(UHMWPE)隔膜表面进行沉积,形成双面微纳米颗粒膜涂覆的UHMWPE/SiO_xC_yH_z杂化隔膜,并分别通过扫描电子显微镜(SEM)、衰减全反射傅里叶变换红外光... 采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)方法裂解六甲基二硅氧烷(HMDSO),在高强高模聚乙烯(UHMWPE)隔膜表面进行沉积,形成双面微纳米颗粒膜涂覆的UHMWPE/SiO_xC_yH_z杂化隔膜,并分别通过扫描电子显微镜(SEM)、衰减全反射傅里叶变换红外光谱(ATR-FTIR)、热性能测试方法等,研究了不同O2/HMDSO流量比对杂化隔膜结构与热性能的影响.研究结果表明,沉积薄膜为具有一定结晶特性的SiO_xC_yH_z微纳米颗粒薄膜,具有较好的多孔特性及与UHMWPE隔膜纤维的黏结.随着O2/HMDSO流量比的增加,在颗粒薄膜的亲水性、透气率及对隔膜的覆盖率提高的同时,明显地改善了杂化隔膜的耐热收缩性能,120℃下热处理30 min,热收缩率仅为2%左右,在具有较高耐热性要求的锂离子动力电池隔膜方面具有很好的应用前景. 展开更多
关键词 常压等离子体化学气相沉积(apecvd) SiOxCyHz多孔纳米颗粒薄膜 高强高模聚乙烯(UHMWPE) 锂离子电池隔膜 热收缩
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射频PECVD高速沉积微晶硅薄膜 被引量:3
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作者 杨根 谷锦华 +5 位作者 卢景霄 陈永生 张丽伟 吴芳 汪昌州 李红菊 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期250-253,共4页
本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术高速沉积微晶硅薄膜。系统研究了射频功率、气体总流量、沉积气压、硅烷浓度等沉积参数对薄膜沉积速率和晶化率的影响。通过沉积参数的优化,使微晶硅薄膜沉积速率达到了3/s左右。
关键词 等离子体增强化学气相沉积 微晶硅薄膜 高压耗尽法 高速沉积
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大气压射频等离子体化学气相沉积TiO_2体系的发射光谱诊断 被引量:5
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作者 常大磊 李小松 +1 位作者 赵天亮 朱爱民 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第3期625-630,共6页
开展了大气压射频(RF)等离子体化学气相沉积(PCVD)TiO2放电体系的发射光谱诊断研究,分别考察了氧气分压、钛酸四异丙酯(TTIP)分压和输入功率对氧原子谱线相对强度、氩原子激发温度、OH振动温度以及转动温度的影响.结果表明:随着氧气分... 开展了大气压射频(RF)等离子体化学气相沉积(PCVD)TiO2放电体系的发射光谱诊断研究,分别考察了氧气分压、钛酸四异丙酯(TTIP)分压和输入功率对氧原子谱线相对强度、氩原子激发温度、OH振动温度以及转动温度的影响.结果表明:随着氧气分压的增加,氧原子谱线相对强度先迅速增加至峰值后缓慢下降,OH振动温度缓慢增加,而氩原子激发温度和OH转动温度基本不变.随着TTIP分压的增加,氧原子谱线相对强度下降,氩原子激发温度没有明显变化,而OH振动温度和转动温度增加.随着输入功率的增加,氧原子谱线相对强度下降,氩原子激发温度、OH振动温度和转动温度升高. 展开更多
关键词 大气压射频等离子体 介质阻挡放电 等离子体化学气相沉积 发射光谱诊断 TIO2
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常压连续等离子体制备长效亲水锂离子电池隔膜 被引量:3
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作者 李妍 王超梁 +2 位作者 覃思成 周贵树 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2022年第6期29-35,共7页
基于常压连续等离子体增强化学气相沉积法,在聚乙烯隔膜上沉积含Si杂化纳米颗粒膜。采用扫描电子显微镜、红外光谱仪、X射线光电子能谱仪和光学接触角测量仪等仪器对隔膜的表面形貌、化学结构和亲水性等性能进行表征;使用电化学工作站... 基于常压连续等离子体增强化学气相沉积法,在聚乙烯隔膜上沉积含Si杂化纳米颗粒膜。采用扫描电子显微镜、红外光谱仪、X射线光电子能谱仪和光学接触角测量仪等仪器对隔膜的表面形貌、化学结构和亲水性等性能进行表征;使用电化学工作站对组装电池进行阻抗测试。结果表明:隔膜表面有杂化纳米颗粒紧密黏附,其成分为SiO_(3.5)C_(1.1)H_(x);涂层样的水接触角从121°降至22°左右,该接触角保持30 d无明显变化;经120℃热处理1 h后,透气性基本保持不变,符合锂离子电池组装过程对隔膜的要求;原样组装电池的电荷转移阻抗值为81.69Ω,而涂层样组装电池的阻抗为64.51Ω,说明电荷的传导性能得到提高。常压连续等离子体增强化学气相沉积方法可有效应用于长效亲水聚乙烯电池隔膜制备,在高性能锂离子电池方面拥有巨大的应用前景。 展开更多
关键词 锂离子电池隔膜 等离子体增强化学气相沉积 SiO_(3.5)C_(1.1)H_(x)纳米颗粒 亲水性 时效性 电化学阻抗
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连续硅基杂化隔膜涂层对锂离子电池性能的影响
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作者 王明 覃思成 +2 位作者 王超梁 吴状春 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2019年第6期966-972,共7页
通过卷对卷连续常压等离子体增强化学气相沉积(atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition,AP-PECVD)法,对锂离子电池聚乙烯(PE)隔膜进行涂层,制备了硅基杂化纳米颗粒涂层隔膜。通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱... 通过卷对卷连续常压等离子体增强化学气相沉积(atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition,AP-PECVD)法,对锂离子电池聚乙烯(PE)隔膜进行涂层,制备了硅基杂化纳米颗粒涂层隔膜。通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱仪(ATR-FTIR)、扫描电子显微镜(SEM)和光学接触角测量仪对不同功率密度下涂层隔膜的物化性能进行表征,组装了LiFePO4/Li扣式电池并对其电化学性能进行测试,研究了100次循环后隔膜的表面特性。结果表明:纳米颗粒涂层隔膜含有-COOH、-OH、Si-O-Si、Si-OH等极性亲水基团,可显著降低电解液的接触角,提高润湿性;涂层隔膜的欧姆阻抗(Rs)和电荷迁移阻抗(Rct)显著降低,电导率增加。不同功率密度下的涂层隔膜能显著提高隔膜的物化性能和电池的电化学性能,但涂层隔膜的性能和功率密度之间并不呈正相关的关系,0.83 W/cm2功率密度下的涂层隔膜展示出更优的物化性能和电化学性。1C倍率100次循环后,未处理隔膜和涂层隔膜表面的孔隙都有一定程度的减小且Rs有所增加,但相对未处理的PE,涂层隔膜的颗粒与隔膜表面结合较好,孔径的减小和Rct的增加较少。 展开更多
关键词 常压等离子体增强化学气相沉积 功率密度 硅基杂化隔膜 在线涂层 电化学性能
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