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Ni-P非晶镀层的电刷镀制备工艺及其性能的研究 被引量:3
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作者 揭晓华 程秀 +2 位作者 陈元迪 卢国辉 胡社军 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2004年第2期29-31,共3页
在不同刷镀工艺参数下制备了Ni-P合金非晶电刷镀镀层,研究了工艺参数对镀层沉积速率、镀层组织与性能的影响,最佳工艺条件下镀层的耐磨性以及热处理后镀层性能的变化等。结果表明,在电刷电压为12V,阳极运动速度为10m/min条件下,镀层可... 在不同刷镀工艺参数下制备了Ni-P合金非晶电刷镀镀层,研究了工艺参数对镀层沉积速率、镀层组织与性能的影响,最佳工艺条件下镀层的耐磨性以及热处理后镀层性能的变化等。结果表明,在电刷电压为12V,阳极运动速度为10m/min条件下,镀层可获得最佳的组织与性能,Ni-P非晶电刷镀层经热处理后由于Ni3P的析出,使镀层硬度提高,从而提高了镀层的耐磨性。 展开更多
关键词 Ni-P非晶镀层 电刷镀 性能
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电化学方法制备非晶态铬工艺的研究 被引量:11
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作者 王先友 蒋汉瀛 《材料科学与工程》 CSCD 1995年第4期35-37,共3页
本文研究了从三价铬电镀溶液中获得非晶态铬镀层的工艺,用EDX和WDX测定了镀层的组成,表明镀层是由铬和少量的碳组成:用X—射线衍射测定了镀层的结构;发现镀层在2θ为43°时,有非晶态的特征峰“BrondGausi... 本文研究了从三价铬电镀溶液中获得非晶态铬镀层的工艺,用EDX和WDX测定了镀层的组成,表明镀层是由铬和少量的碳组成:用X—射线衍射测定了镀层的结构;发现镀层在2θ为43°时,有非晶态的特征峰“BrondGausionPeak”;并且用EG&GPARC电化学软件研究了电镀溶液的电化学行为。 展开更多
关键词 非晶态镀层 电镀 电化学方法 镀铬
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TiAlN/CrN多层膜的组织结构及耐蚀性机理 被引量:11
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作者 王丽君 文广 +2 位作者 李明昆 王梦超 陈辉 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第8期268-274,共7页
目的研究TiAlN/CrN多层膜及TiAlN、CrN单一膜层的微观组织和电化学性能区别,分析不同结构薄膜材料的耐腐蚀性影响因素。基于电化学参数、组织结构和腐蚀形貌特征,为开发新型腐蚀性薄膜提供理论依据。方法采用多弧离子镀方法,在316不锈... 目的研究TiAlN/CrN多层膜及TiAlN、CrN单一膜层的微观组织和电化学性能区别,分析不同结构薄膜材料的耐腐蚀性影响因素。基于电化学参数、组织结构和腐蚀形貌特征,为开发新型腐蚀性薄膜提供理论依据。方法采用多弧离子镀方法,在316不锈钢基底上先沉积150 nm Cr薄膜作为过渡层,然后交替沉积CrN薄膜和TiAlN薄膜,制备单层厚度为10 nm的TiAlN/CrN多层膜。作为对比,制备单一TiAlN、CrN薄膜。通过SEM、XRD表征薄膜断面形貌、组织结构,并分析耐蚀机理,结合极化曲线和阻抗谱对三种涂层进行电化学性能分析,最后对涂层进行浸泡腐蚀试验。结果TiAlN/CrN纳米多层膜为面心立方结构,呈现共格外延生长,且呈(200)择优取向。纳米多层膜的动电位极化曲线测量结果与不锈钢基体和单层薄膜相比,其腐蚀电位正移为−0.36 V,腐蚀电流密度降低为0.501μA/cm^2,极化电阻为120 kΩ·cm^2。阻抗谱试验结果表明,相比较于单层膜和基体,TiAlN/CrN多层膜的CPE值最低,为29.83×10^−6Ω^−1·cm^−2·sn,n值为0.922,电阻为1.50×10^6Ω·cm^2。腐蚀形貌分析可得出,多层薄膜腐蚀后表面形貌与沉积态涂层形貌最为接近,认为其具有较高的耐腐蚀性。结论纳米层状结构改变了单一薄膜的原始生长模式,抑制了粗大柱状晶的生长,减小了薄膜的固有缺陷、晶粒尺寸,对薄膜的耐蚀性有正面积极的作用。 展开更多
关键词 TiAlN/CrN多层膜 TIALN涂层 CRN涂层 多弧离子镀 耐腐蚀性 电化学性能
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