期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到469篇文章
< 1 2 … 24 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
SiO2嵌入分离层制备高性能薄膜复合膜 被引量：1
1
作者 胡小杰 丰桂珍 +2 位作者 方圳生 张火梅 陈俊 《水处理技术》 北大核心 2025年第3期44-48,共5页
为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO_(2))作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO_(2)),研究SiO_(2)... 为提高传统纳滤膜的分离性与抗污染性,以聚砜超滤膜(PSF)为基膜,以哌嗪(PIP)、均苯三甲酰氯(TMC)分别为水、有机相单体,引入二氧化硅(SiO_(2))作为水相添加材料,通过界面聚合(IP)反应制备二氧化硅薄膜复合膜(TFN-SiO_(2)),研究SiO_(2)的添加对膜表面特性、分离性能及抗污染性能的影响。结果表明:SiO_(2)的嵌入对膜的表面粗糙度、亲水性和负电性都有较大增强;当SiO_(2)添加质量比为0.02%时,TFN-SiO_(2)膜的水通量达到35.5 L/(m^(2)·h),对Na_(2)SO_(4)的截留维持在95%以上,在30 h的脱盐试验中保持良好的稳定性,同时对腐殖酸(HA)、牛血清蛋白(BSA)、海藻酸钠(SA)三种模型污染物的抗污染性能有所提升。 展开更多
关键词 界面聚合 sio2 薄膜复合膜 抗污染性
在线阅读 下载PDF
ZrO_2/SiO_2多层膜的化学法制备研究 被引量：4
2
作者 杨帆 沈军 +4 位作者 吴广明 孙骐 付甜 张志华 王珏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期326-330,共5页
　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层... 　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题。应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外 可见、红外光谱进行了分析。用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激光系统产生的强激光进行了单层膜的辐照实验,结果发现溶剂替换后激光损伤阈值有所提高。 展开更多
关键词 zro2/sio2多层膜 氧化锆 二氧化硅 化学法制备 溶胶-凝胶工艺 紫外光处理 激光损伤阈值 旋转镀膜法
在线阅读 下载PDF
双膜层ITO/SiO_(2)薄膜制备及其膜电阻均匀性研究
3
作者 朱治坤 陈婉婷 +2 位作者 陈静 朱常青 刘荣梅 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第24期188-196,共9页
目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的... 目的通过双膜层结构设计制备ITO/SiO_(2)薄膜,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜物相、形貌和结构,并通过元素分布分析探讨了SiO_(2)薄膜的作用。方法利用磁控溅射法在TN玻璃基板上沉积生成SiO_(2)薄膜,然后再沉积氧化铟锡(ITO)薄膜,制备ITO/SiO_(2)薄膜样品。利用X射线衍射仪(XRD)、ST-21L型薄膜膜电阻测试仪、原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)等仪器,研究了靶面磁场强度、镀膜工件移动速度、镀膜功率对ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性的影响,并研究了优化条件制备的ITO/SiO_(2)薄膜样品的物相结构、表面形貌、截面膜层结构、元素分布与有膜电阻均匀性的关系,探讨了SiO_(2)薄膜结构与晶粒尺寸效应可能发挥的作用。结果(1)磁控溅射优化条件下,磁场强度为780~820 Gs,镀膜工件移动速度为1.2 m/min,镀膜功率为2.5 kW(A21)和3 kW(A23)时,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻极差最小为10~11Ω/sq,平均值为75~76Ω/sq,ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻的均匀性最好。(2)ITO/SiO_(2)薄膜表现出晶体谱线和非晶谱线的叠加,In_(2)O_(3)和SnO_(2)特征峰发生轻微左偏移现象,SiO_(2)特征峰较宽,说明薄膜中的SiO_(2)处于非晶态结构,且可能部分发生晶粒尺寸效应,以微晶或纳米晶的形式存在。(3)ITO/SiO_(2)薄膜表面形貌比起SiO_(2)薄膜更均匀、连续、平滑且较致密,且具有明显的双膜层结构,其中ITO薄膜表面均匀平整且膜厚均匀,这与膜电阻均匀性一致;SiO_(2)薄膜与ITO薄膜和玻璃基底都形成了界面层,应该也是ITO薄膜结合力较好的原因;In元素的流失受到一定阻隔,应该与薄膜中的SiO_(2)的非晶态结构或发生晶粒尺寸效应,以及多晶ITO结构有关。结论通过优化控制靶面磁场强度、镀膜工件移动速度和镀膜功率等工艺因素,可以提高ITO/SiO_(2)薄膜膜电阻均匀性,同时通过控制SiO_(2)薄膜成膜质量可以改善ITO薄膜质量,并起到阻隔In元素流失的作用。 展开更多
关键词 磁控溅射法 ITO/sio_(2)双膜层 微观结构 膜电阻均匀性
在线阅读 下载PDF
层间热处理对SiO_2/ZrO_2双层膜的影响 被引量：1
4
作者 章春来 蒋晓东 +5 位作者 袁晓东 向霞 祖小涛 王毕艺 吕海兵 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1469-1473,共5页
以正硅酸乙酯和丙醇锆为前驱体,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜。采用不同实验步骤制备了2个样品,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经热处理后再镀ZrO2。采用原子力显微镜、椭偏仪、紫外-可见分光光度计对薄... 以正硅酸乙酯和丙醇锆为前驱体,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜。采用不同实验步骤制备了2个样品,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经热处理后再镀ZrO2。采用原子力显微镜、椭偏仪、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征。针对SiO2/ZrO2双层膜,考虑到膜间渗透的影响,采用3层Cauchy模型进行椭偏模拟,椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现热处理可以使SiO2/ZrO2双层膜之间的渗透减少近23 nm,从而提高其峰值透射率。利用输出波长1.064μm,脉宽8.1 ns的激光束对样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为13.6 J/cm2和14.18 J/cm2,均为膜的本征损伤。 展开更多
关键词 sio2/zro2双层膜 溶胶-凝胶 热处理 椭偏模拟 膜间渗透 激光损伤阈值
在线阅读 下载PDF
单层SiO_2和ZrO_2薄膜激光辐照损伤的对比 被引量：1
5
作者 章春来 郭袁俊 +3 位作者 吕海兵 袁晓东 蒋晓东 祖小涛 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2011年第1期115-118,122,共5页
分别采用物理气相沉积和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了4块光学厚度相近的Si O2和ZrO2单层膜。分别采用椭偏仪、透射式光热透镜和原子力显微镜对两类薄膜的孔隙率、热吸收和微观表面形貌进行了表征;利用Nd∶YAG激光器测试了样品的激光... 分别采用物理气相沉积和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了4块光学厚度相近的Si O2和ZrO2单层膜。分别采用椭偏仪、透射式光热透镜和原子力显微镜对两类薄膜的孔隙率、热吸收和微观表面形貌进行了表征;利用Nd∶YAG激光器测试了样品的激光损伤阈值(LIDT;1 064 nm/8.1 ns),并用光学显微镜观察了两类薄膜的损伤形貌。结果表明,化学膜的孔隙率和表面粗糙度均大于相应的物理膜;对同一类薄膜而言,Si O2化学膜的孔隙率和表面粗糙度都比ZrO2化学膜大,物理膜则相反。化学膜有更小的热吸收,其损伤阈值普遍比物理膜高出1倍,其损伤形貌多为热熔型,而物理膜多为应力型。 展开更多
关键词 sio2/zro2薄膜 孔隙率 热吸收 激光损伤阈值 损伤形貌
在线阅读 下载PDF
ZrO_2-SiO_2膜的制备和结构研究 被引量：13
6
作者 黄永前 郑昌琼 +1 位作者 胡英 张育林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期204-206,共3页
以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO... 以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO2 ,但在 5 0 0℃和 12 0 0℃热处理后的主晶相均为四方ZrO2 ,显然SiO2 的存在阻碍了四方相ZrO2 向单斜相ZrO2 转变的过程 ,ZrO2 -SiO2 膜具有比ZrO2 膜更高的热稳定性 ,在95 0℃烧结的无支撑ZrO2 -SiO2 膜孔径稍呈双峰分布 ,其最可几孔径为 3 .3 5nm。 展开更多
关键词 zro2-sio2膜 溶胶-凝胶 制备 结构 热稳定性
在线阅读 下载PDF
含SiO_2,ZrO_2微粒复合镀镍层抗高温氧化性能 被引量：8
7
作者 杜岩滨 朱立群 +1 位作者 刘慧丛 白真权 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1003-1007,共5页
通过对含有SiO2 ,ZrO2 微粒复合电沉积的研究 ,在Cu合金表面分别获得了含量 (原子数分数 )为 1 1 .3%SiO2 ,5 .31 %ZrO2 微粒的Ni基复合镀层 .通过在 80 0℃、90 0℃条件下的高温氧化和热震循环试验 ,研究了这种复合镀镍层的高温氧化性... 通过对含有SiO2 ,ZrO2 微粒复合电沉积的研究 ,在Cu合金表面分别获得了含量 (原子数分数 )为 1 1 .3%SiO2 ,5 .31 %ZrO2 微粒的Ni基复合镀层 .通过在 80 0℃、90 0℃条件下的高温氧化和热震循环试验 ,研究了这种复合镀镍层的高温氧化性能和界面结合特性 .结果表明 :经过 40h的高温氧化 ,2种复合镀镍层的抗氧化性能均达到抗氧化级 ,而且含SiO2 微粒的复合镀镍层的抗氧化性能优于含ZrO2 微粒的复合镀镍层 ;经过 5 5次冷热循环 ,含SiO2 展开更多
关键词 复合材料 高温抗氧化涂层 sio2 zro2微粒
在线阅读 下载PDF
不同后处理方法对溶胶-凝胶SiO_2膜层抗污染能力的影响 被引量：5
8
作者 赵松楠 晏良宏 +5 位作者 吕海兵 章春来 王海军 王韬 袁晓东 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期240-244,共5页
以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探... 以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪、椭偏仪等分析了薄膜的特性,通过真空环境加速污染实验对处理前后的膜层进行抗污染能力对比,结果表明:在碱性SiO2膜层上加镀一层酸性SiO2膜的复合膜层整体透过率仍保持在99%以上,疏水角达到128°,膜层真空抗污染能力大大加强。 展开更多
关键词 溶胶凝胶 sio2 加速污染 化学膜 膜层后处理
在线阅读 下载PDF
溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2多层增透膜 被引量：7
9
作者 王永强 胡晓云 +3 位作者 苗仲海 周引穗 黄亚娜 马一平 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1165-1168,共4页
在酸催化体系中以钛酸丁酯为前驱体制得TiO2溶胶，以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体制得SiO2溶胶，采用提拉法在普通载玻片上镀膜．辅助MASS膜系设计软件进行模拟计算，得到了透射比为99％的膜片．根据理论模拟结果，实验采用交叉镀膜，制... 在酸催化体系中以钛酸丁酯为前驱体制得TiO2溶胶，以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体制得SiO2溶胶，采用提拉法在普通载玻片上镀膜．辅助MASS膜系设计软件进行模拟计算，得到了透射比为99％的膜片．根据理论模拟结果，实验采用交叉镀膜，制备出了宽带增透TiO2-SiO2多层膜．用紫外可见分光光度计测量了样品的透射光谱．实验发现，样品具有明显的宽带增透效果：在400～700nm波段，当光线垂直入射时，增透5．5％左右；45°角入射时，可增透10％． 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 增透膜 膜系设计 透射光谱 TiO2-sio2多层膜
在线阅读 下载PDF
Sol-Gel法制备Al_2O_3-SiO_2-TiO_2-ZrO_2复合陶瓷膜的研究 被引量：4
10
作者 徐晓虹 吴建锋 +1 位作者 白占良 张英 《中国陶瓷》 CAS CSCD 2003年第6期21-23,共3页
将Sol-Gel法应用于无机膜的制备,成功的研制出一种新型的膜面平整、膜厚均匀且无宏观缺陷的Al2O3-SiO2-TiO2-ZrO2复合陶瓷膜,复合膜含有γ-Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2和Al2SiO5等晶相,改变体系组成含量,晶相组成和含量随之变化,从而引起... 将Sol-Gel法应用于无机膜的制备,成功的研制出一种新型的膜面平整、膜厚均匀且无宏观缺陷的Al2O3-SiO2-TiO2-ZrO2复合陶瓷膜,复合膜含有γ-Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2和Al2SiO5等晶相,改变体系组成含量,晶相组成和含量随之变化,从而引起膜的显微结构的变化。利用XRD、SEM、AFM、EPMA等测试手段重点研究了膜的表面形貌和显微结构,并分析了添加剂、热处理方式等对膜的表面形貌和显微结构影响。 展开更多
关键词 溶胶—凝胶法 Al2O3—sio2—TiO2—zro2复合陶瓷膜 表面形貌 显微结构
在线阅读 下载PDF
SiO_2半波覆盖层对HfO_2/SiO_2高反射膜激光损伤的影响 被引量：11
11
作者 胡建平 邱服民 +1 位作者 付雄鹰 曾勋 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期137-141,共5页
研究了 Si O2 半波覆盖层对 Hf O2 /Si O2 高反射膜 1 0 64nm激光损伤的影响 ,分析薄膜的激光损伤特性及图貌得出 ,对于单脉冲 ( 1 -ON-1 )激光损伤 ,Si O2 半波覆盖层能提高 Hf O2 /Si O2 高反射膜的激光损伤阈值 ;可显著降低激光损伤... 研究了 Si O2 半波覆盖层对 Hf O2 /Si O2 高反射膜 1 0 64nm激光损伤的影响 ,分析薄膜的激光损伤特性及图貌得出 ,对于单脉冲 ( 1 -ON-1 )激光损伤 ,Si O2 半波覆盖层能提高 Hf O2 /Si O2 高反射膜的激光损伤阈值 ;可显著降低激光损伤程度 ,减小灾难性损伤发生的概率 ;可大幅度提高 Hf O2 /Si O2 展开更多
关键词 sio2半波覆盖层 激光损伤阈值 损伤图貌 高反射膜
在线阅读 下载PDF
SiON/SiO_2复合膜层对太阳能电池阵板间电缆的表面改性及其耐空间环境性能 被引量：4
12
作者 曹章轶 吴敏 +3 位作者 马聚沙 陈萌炯 王训春 张宗波 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期55-62,共8页
在空间站工作的太阳电池阵板间电缆上下表面为聚酰亚胺薄膜,在低轨运行时会受到原子氧的强烈侵蚀,需要采取措施对其进行保护。采用射频磁控溅射法在电缆表面制备了颗粒尺寸均匀、排列致密的SiO_2膜层。通过表征空间环境试验前后样品发... 在空间站工作的太阳电池阵板间电缆上下表面为聚酰亚胺薄膜,在低轨运行时会受到原子氧的强烈侵蚀,需要采取措施对其进行保护。采用射频磁控溅射法在电缆表面制备了颗粒尺寸均匀、排列致密的SiO_2膜层。通过表征空间环境试验前后样品发现由于电缆表面的凸起颗粒等缺陷无法完全被SiO_2膜层覆盖,导致原子氧会对缺陷位置产生侵蚀作用。采用全氢聚硅氮烷溶液对板间电缆基底进行表面改性处理,制备的聚硅氧氮烷涂层(SiON)可以有效地覆盖电缆基底表面的凸起颗粒等缺陷,使得其上溅射的SiO_2膜层表面光滑平整。经原子氧暴露试验,SiON/SiO_2层内部没有受到其侵蚀作用,可以防止原子氧对电缆基底的破坏。经多次冷热循环试验,SiON/SiO_2复合膜层仍然具备良好的结构特性与结合性能。 展开更多
关键词 聚硅氧氮烷 sio2 复合膜层 表面改性 板间电缆
在线阅读 下载PDF
溶胶-凝胶法制备SiO_2/ZrO_2无机复合膜的研究 被引量：7
13
作者 张克铮 邱春阳 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期251-254,共4页
以硅酸乙酯和氧氯化锆为先驱体,用乙醇为溶剂,采用溶胶——凝胶法于室温下在Al2O3基体上制备了ZrO2/SiO2无机复合膜.重点考察了涂膜温度、ZrOCl2摩尔百分含量、溶胶浓度及添加剂对膜性能的影响.结果表明:在较高的温度下涂膜可以提高膜... 以硅酸乙酯和氧氯化锆为先驱体,用乙醇为溶剂,采用溶胶——凝胶法于室温下在Al2O3基体上制备了ZrO2/SiO2无机复合膜.重点考察了涂膜温度、ZrOCl2摩尔百分含量、溶胶浓度及添加剂对膜性能的影响.结果表明:在较高的温度下涂膜可以提高膜的性能;ZrOCl2的存在对渗透比的影响不大,但能够提高溶胶的交联度,从而提高制膜效率,同时也有利于渗透通量的提高;采用浓溶胶和稀溶胶结合的方式涂膜不但可以提高制膜效率,还可以提高膜的性能.添加剂TEABr能够均化膜孔径,提高膜的性能. 展开更多
关键词 溶胶——凝胶法 zro2/sio2 渗透比 渗透通量 无机复合膜
在线阅读 下载PDF
Si／SiNx／SiO2多层膜的光致发光 被引量：3
14
作者 陈青云 段满益 +6 位作者 周海平 董成军 魏屹 纪红萱 黄劲松 陈卫东 徐明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期363-370,共8页
采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分... 采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分别来自于缺陷态≡Si-到价带顶和从导带底到缺陷态≡Si-的辐射跃迁而产生的光致激发辐射复合发光。PL谱中只有370nm(3.4eV)处发光峰的峰位会受退火温度的影响,结合FTIR谱认为370nm发光与低价氧化物—SiOx(x<2.0)结合体有密不可分的关系。当SiO2层的厚度增大时,发光强度有所增强,800℃退火后出现最强发光,认为具有较大SiO2层厚度的Si/SiNx/SiO2结构多层膜更有利于退火后形成Si—N网络,能够得到更高效的光致发光。用量子限制-发光中心(QCLC)模型解释了可能的发光机制,并建立了发光的能隙态(EGS)模型。 展开更多
关键词 Si/SiNx/sio2多层膜 红外吸收 光致发光
在线阅读 下载PDF
切削刀具测温传感器SiO_2多层复合绝缘薄膜的制备及其性能表征 被引量：3
15
作者 崔云先 杨德顺 +2 位作者 孙宝元 贾颖 徐军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1850-1852,1856,共4页
利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术成功制备了切削刀具测温传感器的SiO2多层复合绝缘薄膜,研究了SiO2多层复合绝缘薄膜的制备工艺。通过扫描电镜、原子力显微镜、台阶仪和XPS对SiO2功能薄膜的表面形貌、膜厚及成分进... 利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术成功制备了切削刀具测温传感器的SiO2多层复合绝缘薄膜,研究了SiO2多层复合绝缘薄膜的制备工艺。通过扫描电镜、原子力显微镜、台阶仪和XPS对SiO2功能薄膜的表面形貌、膜厚及成分进行了观测,结果表明,制备的多层复合SiO2薄膜厚度小、绝缘性好,绝缘电阻达到9.5×1012Ω。其与金属基体结合力可达16.7N,满足制作切削刀具测温传感器的要求。 展开更多
关键词 切削刀具 测温传感器 sio2绝缘薄膜 多层复合 磁控溅射
在线阅读 下载PDF
CoFeB-SiO_2磁性不连续多层颗粒膜微波电磁特性 被引量：3
16
作者 江建军 马强 +3 位作者 别少伟 杜刚 梁培 何华辉 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期277-280,共4页
采用直流/射频磁控溅射方法和不连续多层交替溅射工艺,制备了CoFeB-SiO_2系列纳米不连续多层磁性颗粒膜,并对制备的薄膜样品进行了不同温度下的退火处理.实验结果表明,通过调整SiO_2绝缘介质相含量及磁场退火温度可有效地调控薄膜微结... 采用直流/射频磁控溅射方法和不连续多层交替溅射工艺,制备了CoFeB-SiO_2系列纳米不连续多层磁性颗粒膜,并对制备的薄膜样品进行了不同温度下的退火处理.实验结果表明,通过调整SiO_2绝缘介质相含量及磁场退火温度可有效地调控薄膜微结构和微波电磁特性.制备的薄膜样品在GHz微波频段同时具有高磁导率和高磁损耗,1.5GHz处薄膜复相对磁导率实部和虚部均大于260,同时电阻率高达1.38mΩ.cm.该薄膜样品可应用于微波吸收材料和抗电磁干扰的设计中. 展开更多
关键词 CoFeB-sio2 不连续多层膜 微波电磁特性 复磁导率
在线阅读 下载PDF
快速热退火对a_Si:H/SiO_2多层膜光致发光的影响 被引量：2
17
作者 马忠元 韩培高 +6 位作者 黄信凡 隋妍萍 陈三钱波 李伟 徐岭 徐骏 陈坤基 《南京大学学报（自然科学版）》 CSCD 北大核心 2005年第1期55-60,共6页
采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影... 采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影响 .研究发现对a_Si:H/SiO2 多层膜作快速热退火处理 ,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰 .研究了不同退火条件下发光峰的变化 .通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析 ,探讨了a_Si:H/SiO2 多层膜在不同退火温度下的光致发光机理 . 展开更多
关键词 a-Si:H/sio2多层膜 光致发光 快速热退火
在线阅读 下载PDF
氨处理抑制SiO_2/ZrO_2薄膜膜间渗透 被引量：1
18
作者 章春来 尹伟 +6 位作者 祖小涛 王毕艺 向霞 袁晓东 蒋晓东 吕海兵 郑万国 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期711-715,共5页
以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2。研究表明,ψ和Δ两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理... 以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2。研究表明,ψ和Δ两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理可有效抑制SiO2/ZrO2双层膜之间的渗透,氨处理后渗透层减少近45 nm。利用激光束对两种样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为14.8和15.03 J/cm2,损伤形貌均为熔融型。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 sio2/zro2 氨处理 椭偏模拟 膜间渗透 激光损伤阈值
在线阅读 下载PDF
HfO_2/SiO_2多层高反膜脉冲YAG激光预处理机理的研究 被引量：2
19
作者 周业为 谢建 +1 位作者 李育德 曾传相 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期13-13,16,共2页
本文研究了HfO2 /SiO2 多层高反膜脉冲YAG激光预处理提高抗激光损伤阈值的机理。通过分析和计算 ,我们提出了一种物理模型 ,即热扩散模型。由于扩散结果 ,导致HfO2 膜层的折射率增加 ,致使HfO2 、SiO2 膜层交界处光驻波波峰降低 。
关键词 HFO2/sio2 多层高反膜 激光预处理 YAG激光
在线阅读 下载PDF
SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响 被引量：2
20
作者 于爱芳 范飞镝 +2 位作者 刘中星 朱镛 陈创天 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期603-606,共4页
利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层... 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 LiB3O5 sio2内保护层 倍频增透膜 激光损伤阈值 损伤形貌
在线阅读 下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 24 下一页 到第 页
关于我们 | 版权声明 | 联系我们 | 帮助中心| 意见反馈
主办单位：上海市教育委员会
技术支持：重庆维普资讯有限公司
渝公网安备 50019002500403号
使用帮助 返回顶部