期刊文献+
共找到4篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
(CdZnTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱中的超快速激子衰减
1
作者 张振中 申德振 +6 位作者 张吉英 单崇新 张立功 杨春雷 吕有明 刘益春 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期257-260,共4页
为了研究低维半导体结构中的激子过程,并进一步实现超快速的激子衰减,设计了一种新型的(CdZnTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱结构,并用低压金属有机化学气相沉积方法(LPMOCVD)制备出来。用泵浦 探测方法,采用反射式光路测量了该复合结构中CdZ... 为了研究低维半导体结构中的激子过程,并进一步实现超快速的激子衰减,设计了一种新型的(CdZnTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱结构,并用低压金属有机化学气相沉积方法(LPMOCVD)制备出来。用泵浦 探测方法,采用反射式光路测量了该复合结构中CdZnTe/ZnTe量子阱的激子衰减,单指数衰减拟合给出690fs的下降沿时间。 展开更多
关键词 低维半导体结构 超快速激子衰减 (CdZnTe znsete)/ZnTe复合量子阱 泵浦-探测 光开关 全光计算机
在线阅读 下载PDF
ZnSeTe/ZnSe量子阱中Te等电子陷阱的静压光子发光谱研究
2
作者 方再利 李国华 +4 位作者 韩和相 丁琨 陈晔 彭中灵 袁诗鑫 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期28-32,共5页
测量了ZnSe0 .92 Te0 .0 8 ZnSe超晶格量子阱材料在 77K时 0~ 7.8GPa静压下的光致发光谱 .观察到ZnSe0 .92Te0 .0 8阱层中Te等电子陷阱上的束缚激子发光 ,发现它的压力系数比ZnSe带边发光的压力系数小约 5 0 % ,表明Te等电子陷阱对激... 测量了ZnSe0 .92 Te0 .0 8 ZnSe超晶格量子阱材料在 77K时 0~ 7.8GPa静压下的光致发光谱 .观察到ZnSe0 .92Te0 .0 8阱层中Te等电子陷阱上的束缚激子发光 ,发现它的压力系数比ZnSe带边发光的压力系数小约 5 0 % ,表明Te等电子陷阱对激子的束缚势是相当局域的 .还观察到了激子在ZnSe0 .92 Te0 .0 8阱层中的Te等电子陷阱能级与相邻 (CdSe) 1 (ZnSe) 3 展开更多
关键词 TE 等电子陷阱 光致发光谱 锌硒碲三元化合物 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体 静压 znsete/ZnSe ZNSE 硒化锌 量子阱
在线阅读 下载PDF
LP-MOCVD生长(ZnCdTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱的激子发光研究
3
作者 王晓华 单崇新 +5 位作者 张振中 张吉英 范希武 吕有明 刘益春 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期371-374,共4页
用低压金属有机化学气相沉积(LP MOCVD)的方法在GaAs(100)衬底上生长了(ZnCdTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱结构。测量了生长样品的光致发光(PL)谱,得到两个发光峰(记为I1,I2),分析认为高能侧的峰为Zn0 9Cd0 1Te浅阱峰,而低能侧的峰为ZnSe0 ... 用低压金属有机化学气相沉积(LP MOCVD)的方法在GaAs(100)衬底上生长了(ZnCdTe,ZnSeTe)/ZnTe复合量子阱结构。测量了生长样品的光致发光(PL)谱,得到两个发光峰(记为I1,I2),分析认为高能侧的峰为Zn0 9Cd0 1Te浅阱峰,而低能侧的峰为ZnSe0 2Te0 8深阱层的发射。对样品进行了变激发强度的PL谱测量,当激发强度增加时,PL谱中两个发光峰的比值(I2/I1)开始时迅速增加,然后缓慢减小。这是由于浅阱中的电子和空穴隧穿入深阱中导致空间电荷的分离,从而在复合量子阱结构中产生了一个内建电场所引起的。 展开更多
关键词 LP-MOCVD 复合量子阱 低压金属有机化学气相沉积 光致发光谱 激子发光 半导体材料 (ZnCdTe znsete)/ZnTe 隧穿几率
在线阅读 下载PDF
ZnSeTe薄膜的分子束外延生长 被引量:1
4
作者 任敬川 刘超 +1 位作者 崔利杰 曾一平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期461-466,共6页
研究了用分子束外延设备在GaAs(001)衬底上异质外延生长ZnSeTe单晶薄膜材料的工艺技术。在VI族元素富集条件下,通过调节Se/Zn束流比,制备了全组分分布(x=0-1)的Zn SexTe1-x单晶薄膜样品。XRD分析结果显示外延生长的ZnSeTe薄膜样品... 研究了用分子束外延设备在GaAs(001)衬底上异质外延生长ZnSeTe单晶薄膜材料的工艺技术。在VI族元素富集条件下,通过调节Se/Zn束流比,制备了全组分分布(x=0-1)的Zn SexTe1-x单晶薄膜样品。XRD分析结果显示外延生长的ZnSeTe薄膜样品呈现出单一的闪锌矿晶体结构。在450和550℃氮气氛保护下对Zn Se0.70Te0.30样品做了快速热退火处理,退火后发现其晶体质量和表面形貌都得到了明显改善:双晶X射线摇摆曲线(DCXRC)(004)衍射峰的半峰宽(FWHM)从0.707 7°降低至0.571 9°,表面均方根粗糙度从2.44 nm降低至1.34 nm。采用点In电极做室温Hall测试的结果显示,本征ZnSeTe薄膜表面In电极之间的电阻值很高,外延薄膜呈现载流子浓度很低的高阻状态。 展开更多
关键词 znsete 分子束外延(MBE) II-VI族半导体 晶体质量 电学性能
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部