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相变光盘介电层ZnS-SiO_2薄膜的性能研究
被引量：
3
1
作者
刘波
阮昊
干福熹
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期190-194,共5页
利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO2薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO2薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2-10nm的微小晶粒;ZnS-SiO2薄膜的...
利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO2薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO2薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2-10nm的微小晶粒;ZnS-SiO2薄膜的透过率比较大,消光系数很小,这可以减少入射激光能量的损失;ZnS-SiO2薄膜拥有比较高的折射率,能够对记录层起到很好的保护作用.
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关键词
zns-sio2
薄膜
性能
介电层
相变光盘
硫化锌
二氧化硅
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职称材料
题名
相变光盘介电层ZnS-SiO_2薄膜的性能研究
被引量：
3
1
作者
刘波
阮昊
干福熹
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期190-194,共5页
基金
上海应用物理中心和国家自然科学基金(59832060)
文摘
利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO2薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO2薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2-10nm的微小晶粒;ZnS-SiO2薄膜的透过率比较大,消光系数很小,这可以减少入射激光能量的损失;ZnS-SiO2薄膜拥有比较高的折射率,能够对记录层起到很好的保护作用.
关键词
zns-sio2
薄膜
性能
介电层
相变光盘
硫化锌
二氧化硅
Keywords
zns-sio2
dielectric layer
phase-change optical disk
分类号
TQ594 [化学工程—精细化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
相变光盘介电层ZnS-SiO_2薄膜的性能研究
刘波
阮昊
干福熹
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
3
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