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复配表面活性剂对氧化锌单晶衬底后清洗效果的影响
1
作者
鲍冬赟
潘新花
+2 位作者
王宁
黄靖云
叶志镇
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第3期347-353,共7页
在ZnO单晶衬底的制造加工过程中,不可避免会引入二氧化硅磨料粒子、有机物等污染物,这会严重影响衬底上所生长薄膜的质量,从而影响半导体器件的性能和可靠性,因此后清洗工艺对外延薄膜的质量至关重要。本研究采用控制变量法研究了复配...
在ZnO单晶衬底的制造加工过程中,不可避免会引入二氧化硅磨料粒子、有机物等污染物,这会严重影响衬底上所生长薄膜的质量,从而影响半导体器件的性能和可靠性,因此后清洗工艺对外延薄膜的质量至关重要。本研究采用控制变量法研究了复配表面活性剂O-20和JFC的质量比及总质量对超声法后清洗效果的影响。研究发现,复配表面活性剂较单一表面活性剂对衬底表面污染的去除效果更好;不同质量比的复配表面活性剂的清洗效果不同,当O-20和JFC的质量比为2∶1时,对衬底表面污染的去除效果最好;当O-20和JFC的质量比固定为2∶1,增加复配表面活性剂的总质量,对衬底表面污染的去除效果更好;但当总质量增加到一定程度后,清洗效果不再提升,反而会增加表面活性剂的清除难度。
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关键词
复配表面活性剂
zno单晶衬底
后清洗
SIO2颗粒
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职称材料
题名
复配表面活性剂对氧化锌单晶衬底后清洗效果的影响
1
作者
鲍冬赟
潘新花
王宁
黄靖云
叶志镇
机构
浙江大学材料科学与工程学院
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第3期347-353,共7页
基金
浙江省重点研发计划资助项目(2021C01030)。
文摘
在ZnO单晶衬底的制造加工过程中,不可避免会引入二氧化硅磨料粒子、有机物等污染物,这会严重影响衬底上所生长薄膜的质量,从而影响半导体器件的性能和可靠性,因此后清洗工艺对外延薄膜的质量至关重要。本研究采用控制变量法研究了复配表面活性剂O-20和JFC的质量比及总质量对超声法后清洗效果的影响。研究发现,复配表面活性剂较单一表面活性剂对衬底表面污染的去除效果更好;不同质量比的复配表面活性剂的清洗效果不同,当O-20和JFC的质量比为2∶1时,对衬底表面污染的去除效果最好;当O-20和JFC的质量比固定为2∶1,增加复配表面活性剂的总质量,对衬底表面污染的去除效果更好;但当总质量增加到一定程度后,清洗效果不再提升,反而会增加表面活性剂的清除难度。
关键词
复配表面活性剂
zno单晶衬底
后清洗
SIO2颗粒
Keywords
Mixed surfactants
zno
single crystal substrates
Post cleaning
Silica abrasive particles
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
复配表面活性剂对氧化锌单晶衬底后清洗效果的影响
鲍冬赟
潘新花
王宁
黄靖云
叶志镇
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2023
0
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