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衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响
被引量：
15
1
作者
刘汉法
张化福
+2 位作者
郭美霞
史晓菲
周爱萍
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期95-99,共5页
利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化锌(ZnO∶Ti,TZO)透明导电薄膜。研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影响。结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响。TZO...
利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化锌(ZnO∶Ti,TZO)透明导电薄膜。研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影响。结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响。TZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在衬底温度为100℃时,实验获得的TZO薄膜电阻率具有最小值2.95×10-4Ω.cm,400℃时薄膜出现孪晶,随着温度的升高,薄膜应力具有减小的趋势。实验制备的TZO薄膜附着性能良好,可见光区平均透过率都超过91%。
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关键词
zno∶ti薄膜
透明导电
薄膜
衬底温度
磁控溅射
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职称材料
题名
衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响
被引量：
15
1
作者
刘汉法
张化福
郭美霞
史晓菲
周爱萍
机构
山东理工大学理学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期95-99,共5页
基金
山东省自然科学基金资助项目(No.ZR2009GL015)
文摘
利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化锌(ZnO∶Ti,TZO)透明导电薄膜。研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影响。结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响。TZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜。在衬底温度为100℃时,实验获得的TZO薄膜电阻率具有最小值2.95×10-4Ω.cm,400℃时薄膜出现孪晶,随着温度的升高,薄膜应力具有减小的趋势。实验制备的TZO薄膜附着性能良好,可见光区平均透过率都超过91%。
关键词
zno∶ti薄膜
透明导电
薄膜
衬底温度
磁控溅射
Keywords
ti
tanium-doped zinc oxide films
Transparent conduc
ti
ng films
Substrate temperature
Magnetron sputtering
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO∶Ti薄膜性能的影响
刘汉法
张化福
郭美霞
史晓菲
周爱萍
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
15
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