期刊文献+
共找到5篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
ZnO透明电极
1
《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期277-277,共1页
日本高知工科大学利用住友重机械与该校联合研制的反应等离子蒸发设备在200mm×200mm玻璃基板上蒸镀氧化锌膜,其膜厚度为30nm,电阻率为4.4νΩ·m,达到ITO电阻率水准。现已研发1m。大面积氧化锌膜的蒸镀技术。因氧化锌膜导... 日本高知工科大学利用住友重机械与该校联合研制的反应等离子蒸发设备在200mm×200mm玻璃基板上蒸镀氧化锌膜,其膜厚度为30nm,电阻率为4.4νΩ·m,达到ITO电阻率水准。现已研发1m。大面积氧化锌膜的蒸镀技术。因氧化锌膜导电膜具有性能优异,制造成本低等优势,将替代ITO膜。 展开更多
关键词 透明电极 zno 氧化锌膜 ITO膜 玻璃基板 蒸发设备 工科大学 性能优异
在线阅读 下载PDF
透明导电ZnO薄膜的电化学制备及性能研究 被引量:2
2
作者 孙芳芳 贺蕴秋 +3 位作者 李一鸣 李乐 储晓菲 黄河洲 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期218-224,共7页
以修饰的ITO玻璃为衬底,以不同浓度Zn(NO3)2.6H2O作为电解质溶液,采用阴极恒流沉积法制备了不同纳米结构的ZnO薄膜。用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、四探针仪(RTS-8)、紫外-可见(UV-Vis)光谱仪、循环伏安等分别表征薄膜的... 以修饰的ITO玻璃为衬底,以不同浓度Zn(NO3)2.6H2O作为电解质溶液,采用阴极恒流沉积法制备了不同纳米结构的ZnO薄膜。用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、四探针仪(RTS-8)、紫外-可见(UV-Vis)光谱仪、循环伏安等分别表征薄膜的晶相、形貌和厚度、方块电阻、紫外-可见光透过率和氧化还原电位。结果表明:低浓度溶液沉积得到的c轴取向1D ZnO纳米柱和高浓度溶液沉积得到的致密2D六方ZnO纳米片在可见光范围(400~900 nm)的透过率均可高达85%以上,方块电阻约为14.5Ω/□。两种结构的氧化还原电位有显著区别,纳米柱的为-0.54 V(vs.SCE),而纳米片的为-0.72 V(vs.SCE),说明纳米片状的ZnO薄膜具有更为良好的化学稳定性。 展开更多
关键词 zno薄膜 恒电流 修饰 透明电极
在线阅读 下载PDF
表面化学处理和退火对p-GaN/ZnO:Ga接触特性的影响 被引量:5
3
作者 王书方 李喜峰 张建华 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期848-853,共6页
ZnO∶Ga(GZO)透明电极沉积在p-GaN表面,用作透明电流扩展层。直接沉积在p-GaN上的p-GaN/GZO存在较大的势垒,容易形成肖特基接触,而良好的欧姆接触对功率LED器件至关重要。为了降低接触势垒,采用盐酸和氢氧化钠溶液对GaN表面进行去氧化... ZnO∶Ga(GZO)透明电极沉积在p-GaN表面,用作透明电流扩展层。直接沉积在p-GaN上的p-GaN/GZO存在较大的势垒,容易形成肖特基接触,而良好的欧姆接触对功率LED器件至关重要。为了降低接触势垒,采用盐酸和氢氧化钠溶液对GaN表面进行去氧化层处理,并对p-GaN/GZO进行退火处理,研究表面处理和退火对p-GaN/GZO接触特性的影响。研究表明:碱性溶液处理有利于降低接触势垒;退火处理后,接触势垒略有增加。 展开更多
关键词 P-gaN zno:ga透明电极 表面化学处理 接触特性
在线阅读 下载PDF
射频功率和工作压强对Ga、Al共掺杂ZnO薄膜性能的影响 被引量:1
4
作者 罗国平 张漫虹 +4 位作者 梁铨斌 陈冬 陈星源 李天乐 朱伟玲 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第12期12020-12024,共5页
室温下采用射频(RF)磁控溅射在玻璃衬底上制备镓铝共掺杂氧化锌(GAZO)薄膜。采用X射线衍射仪、紫外-可见-近红外分光光度计、四探针测试仪和紫外光电子能谱等表征方法研究射频功率和工作压强与薄膜结构、光学和电学性能之间的关联。结... 室温下采用射频(RF)磁控溅射在玻璃衬底上制备镓铝共掺杂氧化锌(GAZO)薄膜。采用X射线衍射仪、紫外-可见-近红外分光光度计、四探针测试仪和紫外光电子能谱等表征方法研究射频功率和工作压强与薄膜结构、光学和电学性能之间的关联。结果表明:不同条件下制备的GAZO薄膜均具有六方纤锌矿晶体结构,沿垂直衬底的(002)方向择优取向,在可见光波段(400~700 nm)的平均透射率均高于90%;在射频功率和工作压强分别为200 W和0.20 Pa条件下制备的GAZO薄膜具有最低的电阻率(1.40×10^-3Ω·cm)和最高的品质因子(8.10×10^-3Ω^-1)。GAZO薄膜优良的光电性能使其有很大潜力作为透明电极应用于光电器件。 展开更多
关键词 射频功率 透明电极 zno薄膜 溅射沉积 透射率 电阻率
在线阅读 下载PDF
GZO厚度对非晶硅电池中复合背电极的影响
5
作者 辛艳青 孙珲 +3 位作者 郑小龙 魏丛丛 吕英波 宋淑梅 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期73-77,共5页
在非晶硅太阳能电池中加入复合背电极是提高非晶硅太阳能电池光电转换效率和稳定性的有效手段.本文利用磁控溅射技术在非晶硅薄膜太阳能电池上制备了ZnO∶Ga(GZO)/Al复合背电极,研究了GZO厚度对GZO薄膜光电性质及非晶硅电池中GZO/Al复... 在非晶硅太阳能电池中加入复合背电极是提高非晶硅太阳能电池光电转换效率和稳定性的有效手段.本文利用磁控溅射技术在非晶硅薄膜太阳能电池上制备了ZnO∶Ga(GZO)/Al复合背电极,研究了GZO厚度对GZO薄膜光电性质及非晶硅电池中GZO/Al复合背电极性能的影响.研究表明:随着GZO层厚度的增加,GZO薄膜的光电性质均表现出较高水平,适合制备GZO/Al复合背电极;相较于单层Al背电极的非晶硅太阳能电池,具有GZO/Al复合背电极的太阳能电池性能大幅提高.当GZO层厚度为100 nm时,太阳能电池的短路电流(ISC)、开路电压(VOC)和填充因子(FF)分别达到8.66 mA,1.62 V和54.7%. 展开更多
关键词 复合背电极 非晶硅太阳能电池 znoga 磁控溅射 填充因子
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部