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反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究
被引量:
2
1
作者
谢挺
祝柏林
+3 位作者
杨玉婷
张俊峰
龙晓阳
吴隽
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期711-717,共7页
利用Zn/Zn O复合靶材,通过射频磁控溅射技术,在衬底温度为150℃时分别在Ar+O2和Ar+H2的混合气氛中制备Zn O薄膜,通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果发现,...
利用Zn/Zn O复合靶材,通过射频磁控溅射技术,在衬底温度为150℃时分别在Ar+O2和Ar+H2的混合气氛中制备Zn O薄膜,通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果发现,薄膜厚度随O2流量增加而明显增加而随H2流量增加呈下降趋势。只有通入合适流量的O_2或H_2,薄膜才能保持(002)择优取向、较高的结晶度以及较小的压应力,同时在薄膜中形成高浓度VO和/或Hi等缺陷,因此有效降低Zn O薄膜的电阻率,并保持高的透光率,从而改善Zn O薄膜透明导电性能。当前研究中,当O_2和H_2流量分别为0.4 sccm和2.0 sccm时,得到的最低电阻率分别为6.33×10-3和2.51×10-3Ω·cm,平均透光率均大约为81.5%,相应的最高品质因子分别为1.04×10-3和1.29×10-3Ω-1。
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关键词
zn/zno复合靶
反应溅射
气体流量
zno
薄膜
结晶度
透明导电性
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职称材料
题名
反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究
被引量:
2
1
作者
谢挺
祝柏林
杨玉婷
张俊峰
龙晓阳
吴隽
机构
武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室
华中科技大学材料成形与模具技术国家重点实验室
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第3期711-717,共7页
基金
材料成形与模具技术国家重点实验室开放基金课题(P2014-06)
文摘
利用Zn/Zn O复合靶材,通过射频磁控溅射技术,在衬底温度为150℃时分别在Ar+O2和Ar+H2的混合气氛中制备Zn O薄膜,通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响。结果发现,薄膜厚度随O2流量增加而明显增加而随H2流量增加呈下降趋势。只有通入合适流量的O_2或H_2,薄膜才能保持(002)择优取向、较高的结晶度以及较小的压应力,同时在薄膜中形成高浓度VO和/或Hi等缺陷,因此有效降低Zn O薄膜的电阻率,并保持高的透光率,从而改善Zn O薄膜透明导电性能。当前研究中,当O_2和H_2流量分别为0.4 sccm和2.0 sccm时,得到的最低电阻率分别为6.33×10-3和2.51×10-3Ω·cm,平均透光率均大约为81.5%,相应的最高品质因子分别为1.04×10-3和1.29×10-3Ω-1。
关键词
zn/zno复合靶
反应溅射
气体流量
zno
薄膜
结晶度
透明导电性
Keywords
zn
/zno
composite target
reactive sputtering
gas flux
zno
thin film
crystallinity
transparent conductive properties
分类号
TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究
谢挺
祝柏林
杨玉婷
张俊峰
龙晓阳
吴隽
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
2
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