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基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究
被引量：
12
1
作者
肖华
王华
任鸣放
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期158-164,共7页
阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势。介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性。由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3...
阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势。介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性。由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3%的溅射靶材可制备电阻率达4.7×10-4Ω·cm、透射率超过90%的ZAO薄膜)而具有广泛的应用前景。并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析讨论。
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关键词
磁控溅射
zao透明导电薄膜
溅射靶材
光电特性
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职称材料
题名
基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究
被引量：
12
1
作者
肖华
王华
任鸣放
机构
桂林电子工业学院通信与信息工程系
桂林电子工业学院信息材料科学与工程系
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期158-164,共7页
文摘
阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势。介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性。由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3%的溅射靶材可制备电阻率达4.7×10-4Ω·cm、透射率超过90%的ZAO薄膜)而具有广泛的应用前景。并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析讨论。
关键词
磁控溅射
zao透明导电薄膜
溅射靶材
光电特性
Keywords
magnetron-sputtering
zao
thin films
sputtering target
optical and electrical characteristics
分类号
O484 [理学—固体物理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究
肖华
王华
任鸣放
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2006
12
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