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大高宽比、高线密度X射线透射光栅的制作
被引量：
7
1
作者
柳龙华
刘刚
+5 位作者
熊瑛
黄新龙
陈洁
李文杰
田金萍
田扬超
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期72-77,共6页
利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为1 mm×1 mm,周期为300 nm,金吸收体厚度为1μm的用于X射线显微成像的透射光栅。首先,利用电子束光刻和微电镀技术在Si3N4薄膜上制作周期为300 nm,厚度为250 nm的高线密度光...
利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为1 mm×1 mm,周期为300 nm,金吸收体厚度为1μm的用于X射线显微成像的透射光栅。首先,利用电子束光刻和微电镀技术在Si3N4薄膜上制作周期为300 nm,厚度为250 nm的高线密度光栅掩模;然后,利用X射线光刻和微电镀技术复制厚度为1μm,占空比接近1∶1,高宽比为7的X射线透射光栅。整个工艺流程充分利用了电子束光刻技术制作高分辨率图形和X射线光刻技术制作大高宽比结构的优点,实现了大高宽比、纳米尺度、侧壁陡直的X射线透射光栅的制作。
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关键词
x
射线
透射光栅
电子束光刻
x
射线
光刻
x射线显微成像技术
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职称材料
题名
大高宽比、高线密度X射线透射光栅的制作
被引量：
7
1
作者
柳龙华
刘刚
熊瑛
黄新龙
陈洁
李文杰
田金萍
田扬超
机构
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期72-77,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.10675113No.10734070)
文摘
利用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为1 mm×1 mm,周期为300 nm,金吸收体厚度为1μm的用于X射线显微成像的透射光栅。首先,利用电子束光刻和微电镀技术在Si3N4薄膜上制作周期为300 nm,厚度为250 nm的高线密度光栅掩模;然后,利用X射线光刻和微电镀技术复制厚度为1μm,占空比接近1∶1,高宽比为7的X射线透射光栅。整个工艺流程充分利用了电子束光刻技术制作高分辨率图形和X射线光刻技术制作大高宽比结构的优点,实现了大高宽比、纳米尺度、侧壁陡直的X射线透射光栅的制作。
关键词
x
射线
透射光栅
电子束光刻
x
射线
光刻
x射线显微成像技术
Keywords
x
-ray transmission grating
e-beam lithography
x
-ray lithography
x
-ray imaging and microscopy
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大高宽比、高线密度X射线透射光栅的制作
柳龙华
刘刚
熊瑛
黄新龙
陈洁
李文杰
田金萍
田扬超
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
7
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