用于纳米测量的扫描X射线干涉技术 被引量：4

1

作者 王林 曹芒 李达成 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1998年第1期47-52,共6页

介绍扫描Ｘ射线干涉仪在当前纳米测量技术中的重要意义，阐述了该技术的基本原理，全面介绍了国外在该领域的研究现状，并对影响纳米测量的扫描Ｘ射线干涉技术的主要因素进行了分析。

关键词 扫描 x射线干涉仪 纳米测量 纳米技术

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X射线干涉仪中单晶硅微动工作台的研制 被引量：3

2

作者 王林 李达成 曹芒 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期654-656,共3页

目前国际上 X射线干涉仪所采用的微动工作台均采用对称式柔性铰链结构 ,其缺点是侧滑角大 ,严重影响干涉信号的对比度 ,很容易产生干涉条纹的记数误差。为此提出了非对称结构微动工作台的设计思想 ,并引入有限元方法进行了结构参数优化 ... 目前国际上 X射线干涉仪所采用的微动工作台均采用对称式柔性铰链结构 ,其缺点是侧滑角大 ,严重影响干涉信号的对比度 ,很容易产生干涉条纹的记数误差。为此提出了非对称结构微动工作台的设计思想 ,并引入有限元方法进行了结构参数优化 ,研制了整体式 X射线干涉仪。理论分析和实验表明 :利用非对称结构研制的 X射线干涉仪 ,分析器的侧滑角显著下降 ,干涉信号的对比度大大提高 ,更适合 展开更多

关键词 纳米测量 微动工作台 x射线干涉仪 单晶硅 研制

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用同步辐射实现X射线干涉技术的实验研究 被引量：1

3

作者 王林 赵洋 +6 位作者 曹芒 李达成 蒋建华 韩勇 王州光 田玉莲 王功利 《光电工程》 CAS CSCD 1998年第4期22-27,共6页

根据Ｘ射线干涉的特点，制出ＬＬＬ型Ｘ射线干涉器件。Ｘ射线源选用同步辐射光，充分利用其强度大、波长丰富和准直性好的优点，在北京同步辐射实验室（ＢＳＲＬ）利用４Ｗ１Ａ束线进行了Ｘ射线干涉实验，在拍摄的底片上比较清楚地观察... 根据Ｘ射线干涉的特点，制出ＬＬＬ型Ｘ射线干涉器件。Ｘ射线源选用同步辐射光，充分利用其强度大、波长丰富和准直性好的优点，在北京同步辐射实验室（ＢＳＲＬ）利用４Ｗ１Ａ束线进行了Ｘ射线干涉实验，在拍摄的底片上比较清楚地观察到了Ｘ射线干涉条纹。 展开更多

关键词 x射线干涉术 同步辐射 实验研究 干涉仪

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X射线干涉光刻光束线偏转镜系统的设计与测试 被引量：1

4

作者 龚学鹏 卢启鹏 彭忠琦 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期2142-2150,共9页

介绍了上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线的基本情况。为实现光束线的光束偏转和光路切换,完成了其偏转镜系统的研制。分析了偏转镜系统的功能,设计了偏转镜的调节机构、切换机构和冷却结构。论述了调节机构的关键运动,即镜箱外直线运... 介绍了上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线的基本情况。为实现光束线的光束偏转和光路切换,完成了其偏转镜系统的研制。分析了偏转镜系统的功能,设计了偏转镜的调节机构、切换机构和冷却结构。论述了调节机构的关键运动,即镜箱外直线运动转化为超高真空内旋转运动的实现过程;讨论了切换机构重复精度与承载能力之间的关系,并完成了精密丝杆的校核。采用镜子支撑方式和冷却方式集成的方案设计了冷却结构,并通过数值模拟分析了冷却结构和冷却效果。模拟结果表明镜子子午面形误差和弧矢面形误差分别约为6.5rad和7rad。应用激光干涉仪和光电自准直仪对调节机构和切换机构进行了测试,结果表明:调节机构的线性分辨力可达0.2μm,切换机构的重复精度满足设计要求。 展开更多

关键词 上海同步辐射光源 x射线干涉光刻 偏转镜 结构设计 精度测试

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X射线干涉光刻光束线关键光学元件热-结构耦合分析 被引量：1

5

作者 龚学鹏 卢启鹏 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2347-2354,共8页

为了保证上海光源X射线干涉光刻光束线的稳定性,减小热变形对实验结果的影响,对X射线干涉光刻光束线的3个关键光学元件——偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝进行热-结构耦合分析。首先,计算偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝所承载的功率密度;... 为了保证上海光源X射线干涉光刻光束线的稳定性,减小热变形对实验结果的影响,对X射线干涉光刻光束线的3个关键光学元件——偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝进行热-结构耦合分析。首先,计算偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝所承载的功率密度;然后,建立其有限元模型;最后,获得光学元件的温度场和热变形的结果。结果表明,偏转镜和聚焦镜采用间接水冷方式可有效抑制热变形,冷却后的最大面形误差分别为7.2μrad和9.2μrad。精密四刀狭缝未冷却时,刀片组件温度介于271.56~273.27℃,刀口热变形为0.19 mm,直线导轨热变形为0.08 mm;经过铜辫子冷却后,刀片组件温度降至22.24~23.94℃,刀口热变形降至0.2μm,直线导轨热变形降至0.1μm;采用影像法和接触探头法测试后,刀口直线度、平行度和重复精度均满足技术要求。偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝的热变形通过间接水冷和铜辫子的冷却方式可以得到很大程度的抑制,进而保证光斑质量。 展开更多

关键词 x射线干涉光刻 热分析 数值模拟 同步辐射

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X射线相衬成像 被引量：29

6

作者 陈建文 高鸿奕 +4 位作者 李儒新 干慧菁 朱化凤 谢红兰 徐至展 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2005年第2期175-194,共20页

本文介绍了近年来X射线位相衬度成像技术的发展状况,详细论述了X射线干涉相衬、衍射增强相衬,类同轴相衬和数字位相重构等几种典型的成像原理,讨论了影响成像衬度与分辨率的若干因素,并对位相成像的发展趋势作了展望。

关键词 位相衬度 衍射增强相衬 x射线干涉

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勘误

7

作者 《强激光与粒子束》编辑部 《强激光与粒子束》 北大核心 2025年第8期111-111,共1页

《强激光与粒子束》2025年37卷第5期052001论文——陈泽畑,仵武汉,李昆:高能量密度物质的X射线Talbot-Lau干涉诊断技术综述(doi:10.11884/HPLPB202537.240312).

关键词 x射线Talbot-Lau干涉诊断技术 高能量密度物质

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自溯源光栅标准物质及其应用 被引量：8

8

作者 邓晓 李同保 程鑫彬 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期2608-2625,共18页

纳米计量技术是纳米尺度上的精密测量技术,是先进纳米制造技术的基础。其中,溯源性是纳米计量的基础问题,而研制纳米计量标准物质是实现纳米测量溯源性传递、保证纳米几何量值测试的统一性和准确性的关键环节。为适应纳米计量扁平化量... 纳米计量技术是纳米尺度上的精密测量技术,是先进纳米制造技术的基础。其中,溯源性是纳米计量的基础问题,而研制纳米计量标准物质是实现纳米测量溯源性传递、保证纳米几何量值测试的统一性和准确性的关键环节。为适应纳米计量扁平化量值传递溯源的要求,基于铬跃迁频率,采用原子光刻技术和软X射线干涉技术制备了1D 212.8 nm,2D 212.8 nm,1D 106.4 nm 3种自溯源光栅标准物质;在多层膜沉积技术研制硅纳米线宽结构的基础上,探索了基于硅晶格常数的硅纳米线宽自溯源型测量方法。在应用领域,开展了自溯源光栅对扫描探针显微镜、扫描电子显微镜等高精密测量仪器的校准研究。研究结果表明,自溯源型标准物质及其测量方法缩短了精密仪器和加工技术过程中的纳米长度计量溯源链,是先进纳米制造和新一代信息技术的有力支撑。 展开更多

关键词 纳米科技 纳米计量 自溯源标准物质 原子光刻技术 软x射线干涉光刻技术 多层膜沉积技术

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超高真空精密四刀狭缝的结构原理及有限元分析 被引量：4

9

作者 高飒飒 卢启鹏 +1 位作者 彭忠琦 龚学鹏 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期1741-1747,共7页

针对上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线对狭缝精度的要求,提出了一种应用于超高真空的精密四刀狭缝机构及热缓释方案。给出了四刀狭缝机构的工作原理,其四个缝片独立运动,采用线性驱动装置及精密直线导轨来实现开合。根据XIL光束线的特... 针对上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线对狭缝精度的要求,提出了一种应用于超高真空的精密四刀狭缝机构及热缓释方案。给出了四刀狭缝机构的工作原理,其四个缝片独立运动,采用线性驱动装置及精密直线导轨来实现开合。根据XIL光束线的特点,设计了一种合理有效的热缓释方案,对缝片进行了热-结构耦合分析。对狭缝的精度指标进行了测试。结果显示:该四刀狭缝的分辨率优于0.1μm、运动重复精度优于2μm、刀口直线度优于2.5μm、平行度优于0.5mrad,可以精确实现狭缝在水平和垂直方向-5～250μm的开度,缝片在热负载下的最大热变形控制在0.034μm。得到的结果表明,该精密四刀狭缝具有高的精度和稳定性,可满足XIL光束线的使用要求,现已实际使用并制备出了100nm周期的刻蚀线结构。 展开更多

关键词 x射线干涉光刻光束线 精密狭缝 四刀结构 重复精度 有限元分析

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单晶硅晶格间距的测量技术进展及应用 被引量：2

10

作者 李伟 施玉书 +3 位作者 李琪 黄鹭 李适 高思田 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2021年第1期151-157,178,共8页

单晶硅晶格间距是许多重要物理常数测量的基础。本文介绍了硅晶格间距测量技术的发展历程,包括X射线干涉仪直接测量和晶格比较仪间接测量两种方法,以及影响测量结果不确定度的关键因素。得益于晶格间距测量的进展,在纳米尺度,硅晶格间... 单晶硅晶格间距是许多重要物理常数测量的基础。本文介绍了硅晶格间距测量技术的发展历程,包括X射线干涉仪直接测量和晶格比较仪间接测量两种方法,以及影响测量结果不确定度的关键因素。得益于晶格间距测量的进展,在纳米尺度,硅晶格间距被国际计量局(BIPM)批准成为新的米定义复现形式。最后介绍了硅晶格在计量学中的应用,以及基于硅晶格实现纳米几何量测量的溯源体系的研究趋势。 展开更多

关键词 单晶硅 晶格间距 x射线干涉仪 晶格比较仪 纳米计量

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新型纳米测量技术的模拟研究 被引量：1

11

作者 王慧 《红外与激光工程》 EI CSCD 1997年第5期48-53,47,共7页

文中介绍X射线干涉仪在当前纳米测量技术中的重要意义，阐述了X射线干涉仪的基本原理，全面介绍了国外在该领域的研究现状，并利用He－Ne激光及三光栅系统对X射线干涉技术实现纳米测量进行了模拟实验研究，进一步论证了X射线干涉纳米测... 文中介绍X射线干涉仪在当前纳米测量技术中的重要意义，阐述了X射线干涉仪的基本原理，全面介绍了国外在该领域的研究现状，并利用He－Ne激光及三光栅系统对X射线干涉技术实现纳米测量进行了模拟实验研究，进一步论证了X射线干涉纳米测量技术的可行性。 展开更多

关键词 x射线干涉仪 纳米测量 干涉仪

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