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ZnO缓冲层对W掺杂VO_2薄膜光电性能的影响
1
作者
周矗
李合琴
+4 位作者
刘心同
徐昱昊
叶楠
钱满满
成聪
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第5期39-42,共4页
用磁控溅射法在载玻片基底上分别制备W-VO2单层薄膜与ZnO/W-VO2双层薄膜,并在Ar气氛中进行退火。用X射线衍射仪、LCR测试仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计和红外光谱仪对薄膜样品的晶体结构、电阻-温度特性、表面形貌、可见光透过率...
用磁控溅射法在载玻片基底上分别制备W-VO2单层薄膜与ZnO/W-VO2双层薄膜,并在Ar气氛中进行退火。用X射线衍射仪、LCR测试仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计和红外光谱仪对薄膜样品的晶体结构、电阻-温度特性、表面形貌、可见光透过率和红外光透过率进行测试。结果表明:ZnO/W-VO2双层薄膜的相变温度降低至35℃,薄膜生长更加致密均匀,可见光透过率提高约23%,对红外光的屏蔽效果更优。
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关键词
ZnO/
w-vo
2
双
层
薄膜
w-vo2单层薄膜
相变温度
电阻-温度曲线
可见光透过率
红外光透过率
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职称材料
题名
ZnO缓冲层对W掺杂VO_2薄膜光电性能的影响
1
作者
周矗
李合琴
刘心同
徐昱昊
叶楠
钱满满
成聪
机构
合肥工业大学材料科学与工程学院
出处
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第5期39-42,共4页
基金
中央高校基本科研业务费专项资金(4115100010)
安徽省自然科学基金(090414182)
+2 种基金
安徽省高校自然科学基金(KJ2009A091
KJ2012A228)
合肥工业大学2013年大学生创新性实验计划项目(2013CXSY145)
文摘
用磁控溅射法在载玻片基底上分别制备W-VO2单层薄膜与ZnO/W-VO2双层薄膜,并在Ar气氛中进行退火。用X射线衍射仪、LCR测试仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计和红外光谱仪对薄膜样品的晶体结构、电阻-温度特性、表面形貌、可见光透过率和红外光透过率进行测试。结果表明:ZnO/W-VO2双层薄膜的相变温度降低至35℃,薄膜生长更加致密均匀,可见光透过率提高约23%,对红外光的屏蔽效果更优。
关键词
ZnO/
w-vo
2
双
层
薄膜
w-vo2单层薄膜
相变温度
电阻-温度曲线
可见光透过率
红外光透过率
Keywords
ZnO/
w-vo
2
bilayer thin film
w-vo
2
monolayer thin film
phase transition temperature
resistance-temperature curve
visible light transmittance
infrared transmittance
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
ZnO缓冲层对W掺杂VO_2薄膜光电性能的影响
周矗
李合琴
刘心同
徐昱昊
叶楠
钱满满
成聪
《稀有金属与硬质合金》
CAS
CSCD
北大核心
2014
0
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职称材料
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