-
题名氧化石墨烯对VS55冻融过程结晶行为的影响
被引量：3
- 1
-
-
作者
雒苗苗
郭宁
胥义
刘道平
-
机构
上海理工大学生物系统热科学研究所
上海理工大学制冷及低温工程研究所
-
出处
《化工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第1期370-378,共9页
-
基金
国家自然科学基金项目(51576132)
-
文摘
借助差示扫描量热仪(DSC)和低温显微系统,研究了升降温速率(5、10、25、50和100℃/min)和氧化石墨烯(GO)浓度(0.01、0.1、1和5 mg/ml)对VS55溶液降温过程结晶和升温过程冰晶再生长的影响。结果表明:(1)随着升降温速率的增加,VS55溶液体系在降温过程中的结晶焓Hf以及升温过程中的再结晶焓HTd都会减小;(2)对浓度为2.1 mol/L的VS55溶液进行降温时,GO浓度越大,其结晶焓Hf越大,且初始冻结温度显著提高;但对4.2 mol/L VS55降温时,其结晶焓Hf会随着GO浓度增加呈现出先减小后增大的特点;8.4 mol/L VS55已完全玻璃化,GO对其没有影响;(3)在升温过程中,GO浓度越高,VS55浓度越低,其溶液体系内冰晶再生长抑制程度越大,如GO浓度为5 mg/ml时,2.1 mol/L VS55溶液添加GO前后再结晶焓的差值ΔHTd为14.55 J/g,而4.2 mol/L VS55就显著降低到7.95 J/g,接近8.4 mol/L VS55的6.91 J/g。总体来看,GO对VS55溶液降温过程冰晶生长特点的影响主要取决于VS55浓度和GO浓度,但对复温过程反玻璃化或冰晶再生长特点的影响主要取决于VS55浓度、GO浓度以及升降温速率。
-
关键词
结晶焓
氧化石墨烯
反玻璃化
vs55溶液
显微结构
-
Keywords
crystallization enthalpy
graphene oxide
devitrification
vs55 solution
microstructure
-
分类号
O63
[理学—高分子化学]
-
