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离子能量对 IBAD-MgO 双轴织构的影响
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作者 瞿天睿 韩超 +5 位作者 高波 白传易 李敏娟 彭思思 周迪帆 蔡传兵 《上海大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第1期115-121,共7页
采用离子束辅助沉积(ion beam-assisted deposition,IBAD)技术在非织构的金属基带上沉积双轴织构的MgO薄膜,研究了不同Ar^(+)离子束流能量对MgO双轴织构和表面形貌的影响.结果表明:在700∼1000 eV离子能量范围内,MgO薄膜的双轴织构随离... 采用离子束辅助沉积(ion beam-assisted deposition,IBAD)技术在非织构的金属基带上沉积双轴织构的MgO薄膜,研究了不同Ar^(+)离子束流能量对MgO双轴织构和表面形貌的影响.结果表明:在700∼1000 eV离子能量范围内,MgO薄膜的双轴织构随离子能量的增加而改善;在1000 eV离子能量下,IBAD-MgO薄膜的面内半高全宽(full-width at half-maximum,FWHM)∆_(ϕ)和面外FWHM∆ω分别为6°和2°;随着离子能量的增加,MgO薄膜的表面形貌并无明显区别,其表面粗糙度(5µm×5µm)均方根(root mean square,RMS)均在5∼6 nm.该研究证明了较高的Ar^(+)离子束能量可以提高IBAD-MgO薄膜的织构质量,对于双轴织构薄膜的稳定制备具有重要意义. 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 离子能量 双轴织构
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离子束辅助沉积技术制备氮掺杂CeO_(2)薄膜及其光催化性能
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作者 李荣辉 《无机化学学报》 北大核心 2025年第6期1123-1130,共8页
采用离子束辅助沉积(IBAD)技术制备氮掺杂CeO_(2)薄膜并对其光催化性能进行了研究。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)对制备的薄膜进行了表征。实验结果表明,通过IBAD技术制... 采用离子束辅助沉积(IBAD)技术制备氮掺杂CeO_(2)薄膜并对其光催化性能进行了研究。采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)对制备的薄膜进行了表征。实验结果表明,通过IBAD技术制备氮掺杂CeO_(2)薄膜的方法可以实现体相均匀氮掺杂,且掺氮量远高于传统氮掺杂方法。SEM结果表明,氮离子束轰击作用并没有改变CeO_(2)的晶体结构,但是会改变CeO_(2)的结晶度和晶格参数,同时,样品表面变得更光滑、粒径更小。另外,该方法使CeO_(2)薄膜的可见光吸收边从370 nm红移到480 nm,增加了其可见光吸收性能。光催化降解亚甲蓝测试结果显示,在可见光下催化120 min时,溶液中的亚甲蓝降解率已经高于90%,并在6次循环稳定性测试后降解率保持在86%左右,显示出良好的光催化稳定性。 展开更多
关键词 CeO_(2) 氮掺杂 离子束辅助沉积 光催化
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Optical broadband monitoring of thin film growth 被引量:1
3
作者 H. Ehlers T. Groβ +1 位作者 M. Lappschies D. Ristau 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期403-412,共10页
This contribution is focused on applications of spectroscopic methods for the precise control of deposition processes. In this context, the present study gives a review on selected combinations of conventional and ion... This contribution is focused on applications of spectroscopic methods for the precise control of deposition processes. In this context, the present study gives a review on selected combinations of conventional and ion deposition techniques with different broadband online spectrophotometric systems. Besides two systems operating in the VIS- and NIR-spectral range in combination with ion processes, also a monochromator system developed for conventional deposition processes in the DUV/VUV-spectral range will be discussed. The considerations will be concluded by a comparison of the major advantages of the specific combinations of processes with online monitoring concepts and by a brief outlook concerning future challenges. 展开更多
关键词 宽带 光学涂覆技术 薄膜 分光镜
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高能束表面改性技术在航空领域的应用 被引量:7
4
作者 陈军 李伟 郝胜智 《航空制造技术》 CSCD 北大核心 2024年第4期32-43,共12页
高能束表面改性适用于各种金属和合金,能够显著提升材料表面硬度、耐磨、耐蚀等性能指标,是航空部件实现性能提升的有效手段之一。本文总结了6种高能束表面改性技术的基本原理、设备构成和改性应用,其中激光相变硬化通过马氏体相变强化... 高能束表面改性适用于各种金属和合金,能够显著提升材料表面硬度、耐磨、耐蚀等性能指标,是航空部件实现性能提升的有效手段之一。本文总结了6种高能束表面改性技术的基本原理、设备构成和改性应用,其中激光相变硬化通过马氏体相变强化金属材料表面;激光熔覆通过选择不同粉末实现表面修复和表面性能提升,重点在于控制裂纹缺陷;激光冲击强化可有效解决航空发动机部件高周疲劳断裂问题;强流脉冲电子束和强流脉冲离子束一方面需要提高设备的性能和运行稳定性,另一方面要针对航空部件应用开展深入研究;而离子束辅助沉积则可以通过制备固体润滑涂层实现对微动磨损的有效防护。最后,提出对高能束表面改性机理深入研究、发展专业化智能化装备和实现多种束源复合与集成的发展方向。 展开更多
关键词 表面改性 激光相变硬化 激光熔覆 激光冲击强化 强流脉冲电子束 强流脉冲离子束 离子束辅助沉积
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灯丝型辅助离子源的设计及其对薄膜参数的改善研究
5
作者 任翼 张殷 +1 位作者 周亚东 金尚忠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第7期99-106,共8页
为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源。通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响。通过对比不同工... 为了以较低成本的技术提高磁控溅射沉积薄膜的纯度、致密性和均匀性,设计出一种可以活化氧气的双腔室直流加热灯丝型辅助离子源。通过实验改变辅助离子源的工作参数,探究其对磁控溅射镀膜机所沉积薄膜的光学参数的影响。通过对比不同工艺条件下所沉积薄膜的透过率、折射率、基板上膜层不同位置的相对厚度,最终证明设计提出的辅助离子源可以一定程度改善Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)单层镀膜的透过率、折射率以及均匀性,提升了原磁控溅射镀膜机的镀膜质量和有效镀膜面积,对提高镀膜生产效率具有一定指导意义。 展开更多
关键词 离子源 结构设计 离子束辅助沉积(IBAD) 光学薄膜
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离子束辅助沉积薄膜工艺 被引量:22
6
作者 王利 程鑫彬 +2 位作者 王占山 唐骐 范滨 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期896-898,共3页
阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子... 阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则。 展开更多
关键词 离子束清洗 离子束辅助沉积 离子能量传递
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热障涂层制备技术研究进展 被引量:26
7
作者 牟仁德 何利民 +1 位作者 陆峰 陶春虎 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期1-4,共4页
随着燃气涡轮发动机进口工作温度的提高,热障涂层技术受到了广泛的关注。综述了热障涂层研究及应用中的几种主要制备技术,包括等离子喷涂、电子束物理气相沉积、离子束辅助沉积、化学气相沉积等。介绍了上述几种制备技术的沉积原理,分... 随着燃气涡轮发动机进口工作温度的提高,热障涂层技术受到了广泛的关注。综述了热障涂层研究及应用中的几种主要制备技术,包括等离子喷涂、电子束物理气相沉积、离子束辅助沉积、化学气相沉积等。介绍了上述几种制备技术的沉积原理,分析了各自的特点,并从涂层显微结构、涂层寿命、应用范围等方面进行了对比,认为离子束辅助沉积和化学气相沉积技术在未来高性能新型热障涂层制备中具有较大的发展潜力。 展开更多
关键词 热障涂层 等离子喷涂 离子束辅助沉积 化学气相沉积
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卫星激光通信滤光膜的研制 被引量:12
8
作者 张静 付秀华 潘永刚 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期303-306,共4页
为满足卫星激光通信中超高速数据传输的特殊要求,采用电子束和离子辅助沉积技术,制备了532nm、632nm和1 064nm波长处高反射,808nm和1 550nm处高透射的多波段滤光膜.选取了H4和SiO2作为高低折射率材料,通过对膜系设计曲线的不断优化,减... 为满足卫星激光通信中超高速数据传输的特殊要求,采用电子束和离子辅助沉积技术,制备了532nm、632nm和1 064nm波长处高反射,808nm和1 550nm处高透射的多波段滤光膜.选取了H4和SiO2作为高低折射率材料,通过对膜系设计曲线的不断优化,减少了灵敏层的个数,得到了相对易于制备的膜系结构;采用电子束加热蒸发方法并加以离子辅助沉积系统制备薄膜,采用光控与晶控同时监控的方法控制膜厚;通过不断调整工艺,提高了薄膜的抗激光损伤能力,减小了膜厚控制误差,提高了透射波段的透过率及反射波段的反射率,最终得到了光谱性能较好的滤光膜.该薄膜能够承受雨淋、盐雾、高低温等环境测试,满足使用要求. 展开更多
关键词 卫星激光通信 电子束加热蒸发 离子辅助沉积 激光损伤阈值 膜系设计
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离子束溅射沉积Ta_2O_5光学薄膜的实验研究 被引量:10
9
作者 刘洪祥 熊胜明 +1 位作者 李凌辉 张云洞 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期41-43,55,共4页
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,... 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜。 展开更多
关键词 离子束溅射 光学薄膜 离子辅助沉积 光学特性
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宽束冷阴极离子源离子能量及能量分布的研究 被引量:6
10
作者 徐均琪 弥谦 +2 位作者 杭凌侠 严一心 董网妮 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期23-27,53,共6页
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的新型宽束冷阴极离子源,详细叙述了该源的结构和工作过程。采用五栅网离子能量测试装置研究了离子源的离子能量及能量分布。结果表明,探针接收的离子最低能量随着引出电压和真空度的升高而升高... 介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的新型宽束冷阴极离子源,详细叙述了该源的结构和工作过程。采用五栅网离子能量测试装置研究了离子源的离子能量及能量分布。结果表明,探针接收的离子最低能量随着引出电压和真空度的升高而升高。离子能量分布概率密度函数为单峰函数,其峰值位置随着真空度的降低向低能量方向移动,随着引出电压的升高向高能量方向移动。当引出电压为200~1200V时,离子平均能量为600-1600eV,呈线性规律变化。这种离子源的离子平均初始动能约为430-480eV。了解和掌握离子源的这些特性和参数,可以有效的对镀膜过程的微观环境(离子密度、离子能量等)进行控制,促进薄膜制备工艺更好地进行。 展开更多
关键词 离子能量 能量分布 离子源 离子束辅助沉积(IBAD) 薄膜
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电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响 被引量:16
11
作者 王英剑 李庆国 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期841-844,共4页
 运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影...  运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响,以判断合理的沉积工艺。 展开更多
关键词 电子束 离子辅助 离子束溅射 薄膜特性
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等离子辅助镀膜技术 被引量:6
12
作者 贾克辉 徐颖 +1 位作者 高劲松 曹健林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期623-626,共4页
传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不... 传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积,但由于成膜分子的能量较低,使沉积的薄膜排列密度很低,其性能和块状材料区别很大,已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构。薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料,近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题。本文报道了我国自己研制的等离子体源(GIS)的性能指标、用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量,以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。 展开更多
关键词 等离子辅助沉积技术 光学镀膜 成膜工艺 薄膜制备 减反射膜
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离子束辅助薄膜沉积 被引量:13
13
作者 张宇峰 张溪文 +1 位作者 任兆杏 韩高荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第11期40-43,共4页
离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
关键词 离子束辅助薄膜沉积 IBAD 薄膜制备 等离子体 光学性能
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离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究 被引量:5
14
作者 柳襄怀 任琮欣 +3 位作者 江炳尧 朱宏 刘炎源 刘静贤 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期661-663,共3页
本文利用离子束辅助沉积方法在钼栅极的表面镀上一层碳膜 ,采用模拟二极管的方法测量阴极活性物质Ba、BaO蒸发沉积在镀碳钼栅与纯钼栅表面后的电子发射性能 .测量结果表明 ,镀碳钼栅的电子发射量显著减少 .依据XPS、电子探针对钼栅极表... 本文利用离子束辅助沉积方法在钼栅极的表面镀上一层碳膜 ,采用模拟二极管的方法测量阴极活性物质Ba、BaO蒸发沉积在镀碳钼栅与纯钼栅表面后的电子发射性能 .测量结果表明 ,镀碳钼栅的电子发射量显著减少 .依据XPS、电子探针对钼栅极表面阴极发射物的分析结果 。 展开更多
关键词 碳膜抑制栅 电子发射 钼栅极 离子束辅助沉积 行波管
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宽束冷阴极离子源的工作特性研究 被引量:6
15
作者 徐均琪 杭凌侠 +2 位作者 弥谦 严一心 董网妮 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期266-270,共5页
介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的改进的宽束冷阴极离子源,详细叙述了该源的工作原理和放电过程,并对离子源的工作特性进行了研究。结果表明,这种离子源可以在4.5×10-3Pa的高真空度下长期稳定工作,在4.5×10-3Pa^9.7... 介绍了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的改进的宽束冷阴极离子源,详细叙述了该源的工作原理和放电过程,并对离子源的工作特性进行了研究。结果表明,这种离子源可以在4.5×10-3Pa的高真空度下长期稳定工作,在4.5×10-3Pa^9.7×10-3Pa的真空度范围内,离子源的放电电压为400 V^1200 V。采用法拉第筒测试的离子束流密度约为0.5 mA/cm2~2.5 mA/cm2。五栅网测试的离子能量表明,当放电电压650 V时,离子能量为600 eV^1600 eV,其值大小随引出电压不同呈线性变化,离子平均初始动能约为480 eV。该离子源具有较大的离子束发散角,在±20°的范围内,可以得到相当均匀的离子密度,离子束发散角可以达到±40°以上。在本文述及的离子源中,我们设计了电子中和器,消除了离子源在真空室内的打火现象,中和器的电子发射能力取决于灯丝电流和负偏压大小,但负偏压的影响更为显著。了解和掌握离子源的这些工作特性和参数,可以方便对镀膜过程的微观环境(离子密度、离子能量等)进行控制。 展开更多
关键词 离子源 离子束辅助沉积(IBAD) 离子束流密度 离子能量 电子中和器
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钛合金表面离子束辅助沉积 CuNiIn 固体润滑膜和 Cr-N 硬质膜 被引量:9
16
作者 刘道新 张必强 +1 位作者 唐宾 何家文 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第6期38-41,共4页
在钛合金表面利用离子束辅助沉积(IBAD)技术沉积CuNiIn固体润滑膜和CrN硬质膜层,分析、测定了膜层的组织结构、成分分布、形貌特征及摩擦磨损性能。结果表明,IBADCuNiIn在室温和500℃均可为TC4合金... 在钛合金表面利用离子束辅助沉积(IBAD)技术沉积CuNiIn固体润滑膜和CrN硬质膜层,分析、测定了膜层的组织结构、成分分布、形貌特征及摩擦磨损性能。结果表明,IBADCuNiIn在室温和500℃均可为TC4合金表面产生良好的固体润滑效果,各项性能显著优于传统电镀Ag方法。IBADCrN膜为CrN和Cr双相组织,在室温和500℃可有效地改善TC4合金表面的耐磨性能。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 钛合金 固体润滑 摩擦 磨损
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单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜摩擦性能的研究 被引量:12
17
作者 朱宏 柳襄怀 +3 位作者 任琮欣 邹世昌 刘惠文 张绪寿 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期118-125,共8页
目前,制各类金刚石薄膜的方法很多,然而其中的多数在沉积过程中都需要基体具有比较高的温度,这就不可避免地会对耐温性能较差的材料造成损伤,或使机械零部件发生变形和尺寸变化.因此,利用单源低能离子束辅助沉积法制备了非晶碳薄... 目前,制各类金刚石薄膜的方法很多,然而其中的多数在沉积过程中都需要基体具有比较高的温度,这就不可避免地会对耐温性能较差的材料造成损伤,或使机械零部件发生变形和尺寸变化.因此,利用单源低能离子束辅助沉积法制备了非晶碳薄膜,并且利用喇曼光谱和俄歇电子能谱研究了薄膜的结构,发现其为无定形的类金刚石薄膜,薄膜中的碳原子成键主要是sp2杂化键.研究表明,随着离子能量和束流的增大,薄膜的显微硬度、摩擦系数和寿命都增大.由于这种方法制备的类金刚石薄膜的含氢量较少,膜中sp2杂化键较多,性能更接近于石墨,故其摩擦性能较好.研究结果对深入认识类金刚石簿膜结构和在改进磁盘表面耐磨保护涂层等薄膜润滑性能方面,都具有重要的指导意义和实用价值。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 类金刚石薄膜 摩擦性能
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基于塑料镜片防水加硬抗老化光学薄膜的研制 被引量:11
18
作者 付秀华 刘禹冰 +2 位作者 熊仕富 郭贵新 杨永亮 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2017年第1期83-88,共6页
为了解决现有光学塑料镜片表面易划伤、高温时容易发生膜裂的问题,选取机械性能稳定的Ti_3O_5、SiO_2作为高、低折射率材料,依据光学薄膜理论,采用TFCalc软件设计膜系,通过电子束加热蒸发和离子源辅助沉积薄膜,在膜系的最外层用电阻加... 为了解决现有光学塑料镜片表面易划伤、高温时容易发生膜裂的问题,选取机械性能稳定的Ti_3O_5、SiO_2作为高、低折射率材料,依据光学薄膜理论,采用TFCalc软件设计膜系,通过电子束加热蒸发和离子源辅助沉积薄膜,在膜系的最外层用电阻加热法镀制防水膜。通过选择新材料SV-55作为连接层,增强了塑料镜片与膜层的附着力,解决了膜系与塑料镜片膨胀系数不匹配的问题,提高了塑料镜片的抗温能力。通过优化工艺参数,得到400nm^700nm反射率R≤1%的绿色减反膜。测试结果显示,研制的薄膜具有耐摩擦、抗老化、防水和防油污的特性。 展开更多
关键词 光学薄膜 光学塑料 减反膜 离子源辅助沉积
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离子束辅助反应制备的氧化铪薄膜特性 被引量:6
19
作者 王聪娟 晋云霞 +1 位作者 邵建达 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第12期2087-2090,共4页
采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究。实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀... 采用电子束直接蒸发氧化铪、无辅助电子束反应蒸发和离子束辅助反应蒸发金属铪3种沉积方式制备了单层HfO2薄膜,对样品的光学性能、结构特性以及激光损伤特性进行了研究。实验结果表明:通过反应沉积的方法可以有效减少缺陷产生并改善均匀性,施加离子辅助可以提高薄膜的折射率,在一定条件下还可以有效地降低吸收,但激光损伤阈值仍未达到直接采用氧化铪制备的水平;晶体结构方面,离子辅助条件下可以获得单斜相氧化铪薄膜,并且随着轰击能量的提高由(002)面的择优取向向(-111)面转变。 展开更多
关键词 薄膜 氧化铪 离子束辅助 反应沉积
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0.6~1.55μm可见/近红外超宽带增透膜的研制 被引量:18
20
作者 杨道奇 付秀华 +2 位作者 耿似玉 杨永亮 潘永刚 《中国光学》 EI CAS 2012年第3期270-276,共7页
针对可见/近红外宽谱段光谱仪探测器窗口的使用要求,选择TiO2、M1和SiO2分别作为高、中、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计和比较。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,通过不断调整工艺参数,得到了光学性能优良、... 针对可见/近红外宽谱段光谱仪探测器窗口的使用要求,选择TiO2、M1和SiO2分别作为高、中、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计和比较。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,通过不断调整工艺参数,得到了光学性能优良、制备重复性好、牢固度强且致密的可见近红外宽带增透膜。该增透膜在(650±10)nm、900~1 100 nm和(1470±10)nm三波段内平均透过率≥99%,在620~1 550 nm宽波段内整体平均透射率≥97%,满足了光谱仪探测器窗口的实际使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 宽带增透膜 电子束蒸发 离子束辅助沉积
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