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Ta含量对CrTaN涂层微观结构与耐腐蚀性能的影响
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作者 丁明理 张凤玲 +4 位作者 张武 高峰 于鑫枫 卢旭东 郭策安 《表面技术》 北大核心 2025年第20期124-134,共11页
目的研究Ta含量对CrTaN涂层微观结构和耐腐蚀性能的影响。方法通过磁控溅射技术,采用不同组分的CrTa靶材在炮钢表面制备了不同Ta含量的CrTaN涂层。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及电化学工作站对涂层的微观结构和耐腐蚀性能进行分析... 目的研究Ta含量对CrTaN涂层微观结构和耐腐蚀性能的影响。方法通过磁控溅射技术,采用不同组分的CrTa靶材在炮钢表面制备了不同Ta含量的CrTaN涂层。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及电化学工作站对涂层的微观结构和耐腐蚀性能进行分析。结果当Ta含量为1.12%(原子数分数)时,CrTaN涂层呈现出菜花状表面形貌;随着Ta含量增加,涂层表面形貌逐渐转变为三棱锥形貌。CrTaN涂层始终保持CrN(111)晶面择优取向,且随着Ta含量的增加,(111)、(200)、(220)和(311)晶面的衍射峰逐渐向低角度偏移,Cr_(88)Ta_(12)N涂层中出现Ta(111)和Ta(222)晶面。加入少量Ta后,CrTaN涂层的腐蚀电流密度呈单调递减趋势。其中,Cr_(96)Ta_(4)N涂层的腐蚀电流密度最低(5.8×10^(−6)A/cm^(2)),耐腐蚀性能最佳。随着Ta含量进一步增加,CrTaN涂层表面缝隙变多,腐蚀电流密度增加,耐腐蚀性能下降。恒电位极化测试表明,Cr_(96)Ta_(4)N涂层未出现明显的钝化膜破裂或局部腐蚀,而纯CrN涂层则发生多次钝化膜破裂并伴随局部腐蚀现象。结论CrTaN涂层表面致密连续无明显缺陷,截面呈现明显的柱状晶结构;随着Ta含量的增加,涂层的表面及截面形貌发生显著变化;CrTaN涂层与CrN涂层相比,耐腐蚀性均得到提升。 展开更多
关键词 磁控溅射 CRN涂层 CrtaN涂层 ta含量 微观组织 耐腐蚀性
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EDXRF法测定V-Ta合金中Ta含量 被引量:1
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作者 刘露 余春荣 +3 位作者 赵建龙 肖吉群 王雯 高戈 《核电子学与探测技术》 CAS 北大核心 2016年第7期710-713,共4页
为适应新型合金材料(V—Ta合金)研制的需要,建立了甩能量色散x射线荧光光谱(EDXRF)法测定V—Ta合金中Ta含量的分析方法。该方法将溶鳃的V—Ta合金切屑样制成滤纸片试样,用能量色散x射线荧光光谱仪测定其Ta含量。该方法简便、快速... 为适应新型合金材料(V—Ta合金)研制的需要,建立了甩能量色散x射线荧光光谱(EDXRF)法测定V—Ta合金中Ta含量的分析方法。该方法将溶鳃的V—Ta合金切屑样制成滤纸片试样,用能量色散x射线荧光光谱仪测定其Ta含量。该方法简便、快速,测定Ta含量在25%。加%范围内的样品时,其测量结果的相对标准偏差(n=6)不大于1%。 展开更多
关键词 V—ta合金 EDXRF法 ta含量
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