添加剂对SnO2纳米薄膜微结构与光致发光性质影响的研究 被引量：1

1

作者 秦苏梅 邓红梅 +1 位作者 童梓洋 杨平雄 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期1194-1197,共4页

以SnCl2.2H2O及无水乙醇为原料,利用溶胶-凝胶法(sol-gel)制备了SnO2纳米薄膜。在溶胶中添加了多种添加剂,用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光谱仪(PL)研究了添加剂对薄膜结构、形貌和光学性质的影响,结果表明氨水的加入能抑... 以SnCl2.2H2O及无水乙醇为原料,利用溶胶-凝胶法(sol-gel)制备了SnO2纳米薄膜。在溶胶中添加了多种添加剂,用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光谱仪(PL)研究了添加剂对薄膜结构、形貌和光学性质的影响,结果表明氨水的加入能抑制晶粒快速长大,未加入氨水的SnO2薄膜在750℃和900℃热处理后平均晶粒尺寸分别为23.1 nm和50.5 nm,而加入氨水后的平均晶粒尺寸分别为19.6 nm和42.8 nm;丙三醇(GCR)的添加能抑制团聚和防止深裂痕,使薄膜光滑、平整;表面活性剂聚乙二醇2000、聚乙二醇4000能使薄膜产生空隙和大量孔洞,从而大大增加薄膜比表面积,使之气敏性能显著提高,同时还发现,相同量的聚乙二醇2000和聚乙二醇4000,后者产生的孔洞比前者密;对光致发光性质进行了研究,结果表明聚乙二醇2000的加入使发光强度增大。 展开更多

关键词 溶胶-凝胶法 sno2薄膜 添加剂 微结构 光致发光

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不锈钢表面纳米SnO2/TiO2复合薄膜制备及防腐蚀性能 被引量：3

2

作者 王爱萍 周爱华 《中国海洋大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2020年第3期81-87,共7页

采用溶胶凝胶法在不锈钢基体(304ss)上制备叠层式纳米SnO2/TiO2复合薄膜。使用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征纳米复合薄膜材料的晶体结构和微观形貌,通过交流阻抗技术(EIS)和极化曲线(Polarization Curves)电化学方法研究不... 采用溶胶凝胶法在不锈钢基体(304ss)上制备叠层式纳米SnO2/TiO2复合薄膜。使用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征纳米复合薄膜材料的晶体结构和微观形貌,通过交流阻抗技术(EIS)和极化曲线(Polarization Curves)电化学方法研究不锈钢表面纳米复合薄膜在模拟海水体系中的腐蚀行为。结果表明:制备叠层式纳米复合薄膜TiO2为锐钛矿型,SnO2为金红石型;不锈钢表面构筑叠层式纳米SnO2/TiO2复合薄膜颗粒粒径小,分布均匀且表面致密。电化学测试表明,叠层式纳米SnO2/TiO2复合薄膜阻抗值高于TiO2薄膜,且对不锈钢基体阳极反应有明显钝化过程,具有良好防腐蚀性能;同时叠层式纳米SnO2/TiO2复合薄膜存在最优叠加SnO2层数,叠加3层SnO2的纳米SnO2/TiO2复合薄膜电极防腐蚀性能最佳。 展开更多

关键词 二氧化钛 二氧化锡 叠层式纳米复合薄膜 电化学 耐腐蚀性

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二甲基二氯化锡前驱体CVD制备SnO2∶F薄膜及其性能研究 被引量：1

3

作者 陈峰 张振华 +2 位作者 赵会峰 鲍思权 姜宏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第24期6-10,15,共6页

采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过... 采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过率84.17%、方块电阻9.2Ω/□且结晶性能良好的多晶SnO_2薄膜。通过与单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱体所制备薄膜的性能进行比较,结果表明,两种前驱体所制备薄膜均具有四方金红石结构,利用DMTC不仅可以制备出与MBTC性能相近的薄膜,同时薄膜表面更加均匀。 展开更多

关键词 二甲基二氯化锡 化学气相沉积法 sno2∶F薄膜

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退火处理对SnO2：F薄膜光电性能的影响 被引量：4

4

作者 李铭 高倩 +2 位作者 刘涌 宋晨路 韩高荣 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期132-135,共4页

SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火(深加工)后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行... SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火(深加工)后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构、组成、电学、光学性能在氮气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SnO2∶F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火后下降明显。通过计算对比退火后SnO2∶F薄膜的晶格常数和晶胞尺寸,提出了一种对于薄膜Low-e性能下降的合理解释。 展开更多

关键词 LOW-E sno2∶F薄膜 退火 常压化学气相沉积

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反应磁控溅射制备SnO2薄膜及其微观形貌与光致发光性能研究 被引量：1

5

作者 姚宏燚 袁志钟 +2 位作者 熊志高 翟艺璇 李东升 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第18期1-5,共5页

利用反应磁控溅射法(RMS)制备了SnO_2薄膜,并研究了溅射参数对薄膜微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射气压、氧分压的增大和衬底温度的升高,薄膜沉积速率相应减小;在不同衬底温度下(室温至600℃)溅射薄膜时,较高的衬底温度可... 利用反应磁控溅射法(RMS)制备了SnO_2薄膜,并研究了溅射参数对薄膜微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射气压、氧分压的增大和衬底温度的升高,薄膜沉积速率相应减小;在不同衬底温度下(室温至600℃)溅射薄膜时,较高的衬底温度可得到较大的SnO_2晶粒,表面更为粗糙;此外,将原生SnO_2薄膜在O_2气氛下退火可以改善其结晶度,原本的柱状结构转变成致密的薄膜结构,其光学禁带宽度变宽至3.85eV;经过退火的SnO_2薄膜的光致发光(PL)强度显著增强,位于约610nm的PL发光峰主要是源于SnO_2纳米晶体表面悬挂键的未饱和电子态。 展开更多

关键词 sno2 薄膜 反应磁控溅射 光致发光 光学禁带

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SnO2/TAPP复合薄膜光波导传感器的气敏性研究

6

作者 阿斯亚·买买提 姑力米热·吐尔地 +2 位作者 热娜古丽·阿不都热合曼 努尔古丽·喀日 阿布力孜·伊米提 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第3期167-174,共8页

硫化氢(H2S)是工业废气的主要成分之一,在空气中痕量H2S气体都会对人体健康造成严重危害,因此,有效地检测H2S气体至关重要。利用旋转甩涂法分别将SnO2粉末和5、10、15、20-(四-4-氨基苯基)卟啉(TAPP)固定在K+离子交换光波导元件表面,制... 硫化氢(H2S)是工业废气的主要成分之一,在空气中痕量H2S气体都会对人体健康造成严重危害,因此,有效地检测H2S气体至关重要。利用旋转甩涂法分别将SnO2粉末和5、10、15、20-(四-4-氨基苯基)卟啉(TAPP)固定在K+离子交换光波导元件表面,制备了SnO2/TAPP复合薄膜光波导(OWG)气体传感器(SnO2/TAPP-OWG),在室温下对H2S气体进行了检测,并考察了旋转速度和TAPP溶液浓度对SnO2/TAPP-OWG传感器气敏性的影响。实验结果表明,当旋转速度为1 100 r/min并TAPP溶液百分质量浓度为0.42%时,SnO2/TAPP-OWG传感器对H2S的响应最佳,并能够检测1×10-11(V/V0)的H2S气体。当SnO2/TAPP-OWG暴露于1×10-9(V/V0)的H2S气体时,响应时间和恢复时间分别为2.7和50 s,具有良好的重复性,并且相对标准偏差(RSD)值为3.00%。 展开更多

关键词 光波导传感器 sno2/TAPP复合薄膜 旋转甩涂法 有机-无机复合材料 硫化氢气体

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掺杂SnO_2透明导电薄膜电学及光学性能研究 被引量：42

7

作者 郭玉忠 王剑华 +1 位作者 黄瑞安 王贵青 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期131-138,共8页

通过实验测量 ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺制备的 Ｓｂ掺杂 ＳｎＯ２薄膜载流子浓度、迁移率、电阻率、膜厚，紫外－可见光区透射率、反射率等性质，详细研究了Ｓｂ掺杂ＳｎＯ２薄膜电学与光学性能．实验发现，薄膜具有良好的透光性和较高导电... 通过实验测量 ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺制备的 Ｓｂ掺杂 ＳｎＯ２薄膜载流子浓度、迁移率、电阻率、膜厚，紫外－可见光区透射率、反射率等性质，详细研究了Ｓｂ掺杂ＳｎＯ２薄膜电学与光学性能．实验发现，薄膜具有良好的透光性和较高导电性，膜内载流子浓度高达１０２０ｃｍ－３，电阻率～１０－２Ω·ｃｍ，透光率高达 ９０％，ＳｎＯ２膜禁带宽度 Ｅｇ＝３７～３．８０ｅＶ． 展开更多

关键词 Sb 掺杂 sno2薄膜 导电性 测量 透光度 反射率 电学性能 二氧化锡 半导体材料 锑 光学性能

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喷雾热分解法制备SnO_2透明导电薄膜 被引量：10

8

作者 张锦文 武光明 +2 位作者 宋世庚 龚健 陶明德 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期313-313,316,共2页

利用压缩空气雾化器，通过喷雾热分解法，以ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ为原料，在载玻片上成功制备了ＳｎＯ２薄膜。在１１０℃到３６５℃间的不同沉积温度下进行镀膜，考察了沉积温度、沉积时间对ＳｎＯ２薄膜制备的影响。结果表明：在... 利用压缩空气雾化器，通过喷雾热分解法，以ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ为原料，在载玻片上成功制备了ＳｎＯ２薄膜。在１１０℃到３６５℃间的不同沉积温度下进行镀膜，考察了沉积温度、沉积时间对ＳｎＯ２薄膜制备的影响。结果表明：在３２５℃的沉积温度下，薄膜已晶化。随温度升高，喷雾时间增加，方块电阻降低。３２５℃下的样品在可见光区透射率达８０％以上，近红外区透射率达９０％以上。 展开更多

关键词 喷雾热分解 薄膜 透明导电性 二氧化锡

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Y_2O_3-SnO_2常温气敏薄膜的Sol-Gel制备及性能研究 被引量：5

9

作者 方国家 刘祖黎 +3 位作者 吉向东 王汉忠 黄宜军 姚凯伦 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期69-74,共6页

以无机盐ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ，Ｙ（ＮＯ３）３·６Ｈ２Ｏ为原料，无水乙醇为溶剂，采用溶胶－凝胶工艺制备了Ｙ２Ｏ３掺杂的ＳｎＯ２薄膜．采用差热－失重分析研究了Ｙ２Ｏ３掺杂的ＳｎＯ２干凝胶粉末的热分解、晶化过程．研... 以无机盐ＳｎＣｌ２·２Ｈ２Ｏ，Ｙ（ＮＯ３）３·６Ｈ２Ｏ为原料，无水乙醇为溶剂，采用溶胶－凝胶工艺制备了Ｙ２Ｏ３掺杂的ＳｎＯ２薄膜．采用差热－失重分析研究了Ｙ２Ｏ３掺杂的ＳｎＯ２干凝胶粉末的热分解、晶化过程．研究了Ｙ２Ｏ３－ＳｎＯ２薄膜的电学和气敏性能．从实验中得到了Ｙ２Ｏ３掺杂份量对ＳｎＯ２薄膜电学及气敏性能的影响．实验表明Ｙ２Ｏ３掺杂的ＳｎＯ２薄膜在常温下对ＮＯｘ具有较好的灵敏度和选择性，并具有较好的响应恢复性能；在常温下对Ｈ２Ｓ气体也具有一定的灵敏度． 展开更多

关键词 sol-gel工艺 Y2O3-sno2薄膜 制备 气敏元件 气

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SnO_2纳米薄膜的溶胶-凝胶法制备及气敏性能 被引量：7

10

作者 贾锐军 彭同江 +1 位作者 孙红娟 刘海峰 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期15-16,30,共3页

以SnCl2.2H2O和无水乙醇为原料制备SnO2透明溶胶,通过浸渍法在云母基片上制备了SnO2纳米薄膜。利用XRD和AFM手段研究了薄膜的结构和形貌,结果表明,SnO2纳米薄膜的球形粒径约为15nm;随着薄膜沉积层数的增加或工作温度的升高,薄膜电阻逐... 以SnCl2.2H2O和无水乙醇为原料制备SnO2透明溶胶,通过浸渍法在云母基片上制备了SnO2纳米薄膜。利用XRD和AFM手段研究了薄膜的结构和形貌,结果表明,SnO2纳米薄膜的球形粒径约为15nm;随着薄膜沉积层数的增加或工作温度的升高,薄膜电阻逐渐减小。气敏特性研究表明,薄膜对H2有较好的敏感性。 展开更多

关键词 sno2薄膜 溶胶-凝胶 气敏性

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Ni修饰层对SnO_2薄膜气敏性能影响 被引量：4

11

作者 王磊 杜军 +1 位作者 毛昌辉 杨志民 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期512-516,共5页

采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni，研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响。对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析，发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要。Ni的表面修饰量在3．4％-8．8％之间将有效提高SnO... 采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni，研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响。对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析，发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要。Ni的表面修饰量在3．4％-8．8％之间将有效提高SnO2薄膜对低浓度氢气的敏感性能。180℃工作温度下，表面含Ni3．4％的SnO2薄膜对1000ppm的氢气灵敏度最高为59．6，同时响应时间和恢复时间降低至15s和125s。Ni修饰量增加到23．4％，薄膜的气敏性能恶化，这是因为修饰层过厚，阻碍气体与SnO2材料接触。同时，XPS证实NiO是增加SnO2薄膜气敏性能的主要物质，增敏机理解释为Ni氧化后形成的NiO在SnO2薄膜上形成p-n结，促进元件的电导变化，从而提高了薄膜的气敏性能。 展开更多

关键词 sno2 NI 薄膜 表面修饰 气体传感器

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一种新型矿井瓦斯传感器的研究与设计 被引量：3

12

作者 程东升 孙以材 +1 位作者 潘国锋 袁育杰 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2006年第9期1-3,共3页

研究并设计了一种用于矿井瓦斯气体安全监测的气体传感器。传感器中气体敏感元件是利用溶胶-凝胶法在陶瓷管外表面制备的Fe3+搀杂SnO2薄膜。此薄膜对甲烷等易燃易爆气体有较高的敏感性和较短的响应(恢复)时间。该传感器采用MAX-197芯片... 研究并设计了一种用于矿井瓦斯气体安全监测的气体传感器。传感器中气体敏感元件是利用溶胶-凝胶法在陶瓷管外表面制备的Fe3+搀杂SnO2薄膜。此薄膜对甲烷等易燃易爆气体有较高的敏感性和较短的响应(恢复)时间。该传感器采用MAX-197芯片,可以同时采集多个气敏元件的模拟信号并进行12位高精度A/D转换。传感器利用数码管进行显示,并连接危险报警器,能够及时准确地监测矿井的气氛环境并对瓦斯爆炸等潜在危险进行预警,以保证矿井的安全。 展开更多

关键词 溶胶-凝胶法 sno2薄膜 瓦斯 高精度A/D转换 数码显示

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稀土Nd掺杂纳米SnO_2薄膜特性 被引量：3

13

作者 韩菲 李健 +1 位作者 吉雅图 高燕 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期283-286,289,共5页

对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析。实验表明:氧化、热处理条件为500℃、45 min时样品性能好。采用一步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度较小,随掺Nd浓度的增大,从31.516... 对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析。实验表明:氧化、热处理条件为500℃、45 min时样品性能好。采用一步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度较小,随掺Nd浓度的增大,从31.516 nm减小到25.927 nm;两步成膜工艺法制备的SnO2薄膜晶粒度随掺Nd浓度的增大,从45.692 nm增至66.256 nm。XRD分析,掺Nd(5 at%)薄膜沿[110][、101]晶向的衍射峰加强,薄膜呈多晶结构。掺Nd可使薄膜透光率下降,而薄膜的薄层电阻随热处理温度升高和掺Nd浓度的增大,呈先降后升趋势。 展开更多

关键词 真空蒸发 ND掺杂 纳米 sno2薄膜

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溶胶—凝胶法掺钛SnO_2薄膜的气敏光学特性研究 被引量：4

14

作者 冯金垣 邓健强 孔镇 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2010年第8期68-70,共3页

采用溶胶—凝胶法在玻璃基片上制备掺钛SnO2薄膜,对不同掺杂浓度的薄膜进行XRD测试。在常温下对膜片在乙醇气氛中进行气敏光学特性测试。结果表明:掺钛薄膜在常温下对测试气体的反应时间比其他掺杂薄膜明显缩短,并且薄膜的灵敏度与掺杂... 采用溶胶—凝胶法在玻璃基片上制备掺钛SnO2薄膜,对不同掺杂浓度的薄膜进行XRD测试。在常温下对膜片在乙醇气氛中进行气敏光学特性测试。结果表明:掺钛薄膜在常温下对测试气体的反应时间比其他掺杂薄膜明显缩短,并且薄膜的灵敏度与掺杂浓度有关,10%掺钛SnO2薄膜的灵敏度在1800～2 500 nm波长范围保持在15%左右。 展开更多

关键词 溶胶-凝胶法 sno2 薄膜 乙醇气氛 反射率

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锑掺杂对二氧化锡薄膜结构及发光性质的影响 被引量：7

15

作者 计峰 马瑾 马洪磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1423-1424,1429,共3页

采用射频磁控溅射方法在石英玻璃衬底上制备了SnO2∶Sb薄膜。所制备的薄膜为四方金红石结构的多晶薄膜。PL谱表明,样品在396、450、500nm附近存在室温光致发射峰,发光峰的起因分别与SnO2薄膜中的氧空位缺陷及掺杂所致的施主-受主对之间... 采用射频磁控溅射方法在石英玻璃衬底上制备了SnO2∶Sb薄膜。所制备的薄膜为四方金红石结构的多晶薄膜。PL谱表明,样品在396、450、500nm附近存在室温光致发射峰,发光峰的起因分别与SnO2薄膜中的氧空位缺陷及掺杂所致的施主-受主对之间的跃迁以及电子由其激发态向基态能级跃迁等因素有关。 展开更多

关键词 磁控溅射 sno2:Sb薄膜 光致发光

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F掺杂对SnO_2薄膜组成、结构与光学性能的影响 被引量：4

16

作者 陈云霞 施玮 王克亮 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2011年第11期24-28,共5页

以氯化亚锡、无水乙醇为主要原料,氢氟酸、氟硅酸和氟化铵为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了不同F掺杂浓度的SnO2透明薄膜,考察了氢氟酸、氟硅酸和氟化铵三种不同掺杂源的分别加入对薄膜物相组成、光学透过率以及微观结构的影响。分析结... 以氯化亚锡、无水乙醇为主要原料,氢氟酸、氟硅酸和氟化铵为掺杂剂,采用溶胶-凝胶法制备了不同F掺杂浓度的SnO2透明薄膜,考察了氢氟酸、氟硅酸和氟化铵三种不同掺杂源的分别加入对薄膜物相组成、光学透过率以及微观结构的影响。分析结果表明,F掺杂SnO2薄膜具有的是单一四方金红石相结构,且F的掺杂能抑制薄膜中SnO2晶粒的长大,三种掺杂源中,以0～14mol%氟硅酸掺杂的SnO2薄膜表观质量最佳,且可见光范围内的透过率在75～85%之间。 展开更多

关键词 F掺杂 sno2薄膜 组成与结构 光学性能 溶胶-凝胶法

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TiO_2-SnO_2复合氧化物介孔薄膜的气敏特性研究 被引量：4

17

作者 张锦瑞 许军娜 凌云汉 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2010年第9期8-11,共4页

采用蒸发诱导自组装工艺制备了TiO2-SnO2介孔金属氧化物薄膜。采用静态配气法,研究了不同掺杂量SnO2对TiO2元件气敏性的影响,并通过测定电化学阻抗谱,分析了介孔金属氧化物的气敏机理。结果表明:随着SnO2掺杂量的增加,TiO2元件对乙醇气... 采用蒸发诱导自组装工艺制备了TiO2-SnO2介孔金属氧化物薄膜。采用静态配气法,研究了不同掺杂量SnO2对TiO2元件气敏性的影响,并通过测定电化学阻抗谱,分析了介孔金属氧化物的气敏机理。结果表明:随着SnO2掺杂量的增加,TiO2元件对乙醇气体灵敏度也随之提高,而初始响应温度则随之降低。在250℃时,20%-TiO2和SnO2元件对体积分数为500×10-6乙醇的灵敏度分别为13.24和14.26。阻抗分析表明:复合氧化物对还原性气体敏感过程具有明显容抗特征。 展开更多

关键词 介孔材料 TiO2-sno2薄膜 蒸发诱导自组装 气敏

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Pd/SnO_2/SiO_2/Si集成薄膜的结构与气敏性能 被引量：2

18

作者 王磊 杜军 +2 位作者 毛昌辉 杨志民 熊玉华 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05B期2084-2087,2091,共5页

采用磁控溅射技术制备Pd/SnO2/SiO2/Si集成薄膜.研究退火处理对薄膜微观结构和表面形貌的影响,进而测试了相关的气敏性能.实验证明,经过氧化性退火处理,集成薄膜中的SiO2层厚度从3nm增长到50nm左右,形成Pd/SnO2/SiO2/Si结构,SnO2薄膜形... 采用磁控溅射技术制备Pd/SnO2/SiO2/Si集成薄膜.研究退火处理对薄膜微观结构和表面形貌的影响,进而测试了相关的气敏性能.实验证明,经过氧化性退火处理,集成薄膜中的SiO2层厚度从3nm增长到50nm左右,形成Pd/SnO2/SiO2/Si结构,SnO2薄膜形成金红石结构的多孔柱状晶.气敏测试表明,Pd/SnO2/SiO2/Si集成薄膜在低温区对H2、CH4、CO和C2H5OH敏感性较高,另外,随着H2气体浓度的增加,相应灵敏度从35递增至73.5. 展开更多

关键词 sno2 PD 薄膜 溅射 气体敏感

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Fe_2O_3/SnO_2和SnO_2/Fe_2O_3双层薄膜的XPS分析 被引量：3

19

作者 娄向东 沈荷生 沈瑜生 《传感技术学报》 CAS CSCD 1992年第3期17-22,共6页

用X光光电子能谱(XPS),结合Ar^+刻蚀对Fe_2O_3/SnO_2及Fe_20_3/SnO_2双层薄膜进行分析.结果表明:Fe_2O_3/SnO_2膜表面,晶格氧的结合能为529.85eV,热处理前有大量吸附氧存在,在600℃退火后,大部分羟基、羰基形态的吸附氧解吸;SnO_2/Fe_2... 用X光光电子能谱(XPS),结合Ar^+刻蚀对Fe_2O_3/SnO_2及Fe_20_3/SnO_2双层薄膜进行分析.结果表明:Fe_2O_3/SnO_2膜表面,晶格氧的结合能为529.85eV,热处理前有大量吸附氧存在,在600℃退火后,大部分羟基、羰基形态的吸附氧解吸;SnO_2/Fe_2O_3膜表面,热处理前后都只有少量的吸附氧,经热处理后表面吸附氧却略有增加.双层薄膜中锡向氧化铁层的扩散较铁向氧化锡层的扩散强.扩散的结果,形成了一个数十纳米的过渡层,对元件的气敏性质产生一定的影响. 展开更多

关键词 XPS分析 sno2 FE2O3 薄膜

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SnO_2:F导电薄膜的制备方法和性能表征 被引量：7

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作者 苗莉 徐瑞松 马跃良 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期121-123,共3页

采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH_4F、SnCl_2·2H_2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/V... 采用喷雾热分解(Spray pyrolysis)方法,以NH_4F、SnCl_2·2H_2O为原料,对反应液配方进行了优化,在普通玻璃衬底上制备出了光电性能优良的掺F二氧化锡透明导电薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV/VIS)对薄膜的结构、形貌、光学、电学特征进行了表征和分析。结果表明:在衬底温度为500℃,NH_4F/SnCl_2·2H_2O的质量百分比为20%,喷涂时间为15s时掺F二氧化锡薄膜的方块电阻最低达到6.2Ω/□,可见光透射率为86.95%,且薄膜晶粒均匀,表面形貌平整致密。 展开更多

关键词 sno2:F导电薄膜 喷雾热分解法 性能

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