期刊文献+
共找到27篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
SiO_2氧化层在DI MOX法制备SiC_p/Al_2O_3-Al复合材料中的作用机制 被引量:2
1
作者 林营 杨海波 王芬 《陕西科技大学学报(自然科学版)》 2005年第4期21-24,32,共5页
利用直接金属氧化法制备了SiC颗粒增强Al2O3-Al基复合材料,借助于XRD、光学金相显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)对该复合材料的微观结构进行了观测,分析了SiO2氧化层的形成在复合材料制备过程中的作用。结果表明,SiO2层可以防止材料粉化现象... 利用直接金属氧化法制备了SiC颗粒增强Al2O3-Al基复合材料,借助于XRD、光学金相显微镜(OM)和扫描电镜(SEM)对该复合材料的微观结构进行了观测,分析了SiO2氧化层的形成在复合材料制备过程中的作用。结果表明,SiO2层可以防止材料粉化现象的发生,缩短反应的孕育期,并可避免材料的胞状生长,促进材料的致密化。 展开更多
关键词 SiCp/Al2O3-Al复合材料 直接金属氧化法 sio2层的作用 AL基复合材料 sio2 制备过程 氧化 SICP 扫描电镜(SEM) SIC颗粒增强
在线阅读 下载PDF
用变角XPS技术定量计算超薄SiO_2层厚度
2
作者 严少平 汪贵华 +1 位作者 李锋 顾广颐 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2003年第3期452-455,共4页
采用变角XPS技术分析单晶Si和非晶Si衬底上覆盖SiO2薄层的样品,比较变角XPS定量计算超薄SiO2层厚度的几种方法及特点,从而获得一种比较可靠稳定的分析计算方法。实际应用证明,变角XPS技术可用于MOS集成器件的超薄栅氧化层厚度常规分析... 采用变角XPS技术分析单晶Si和非晶Si衬底上覆盖SiO2薄层的样品,比较变角XPS定量计算超薄SiO2层厚度的几种方法及特点,从而获得一种比较可靠稳定的分析计算方法。实际应用证明,变角XPS技术可用于MOS集成器件的超薄栅氧化层厚度常规分析和测试。 展开更多
关键词 变角XPS技术 定量计算 超薄sio2层 超薄栅氧化 厚度测量 薄膜 MOS集成器件 金属-氧化物-半导体器件
在线阅读 下载PDF
Si/SiNx/SiO2多层膜的光致发光 被引量:3
3
作者 陈青云 段满益 +6 位作者 周海平 董成军 魏屹 纪红萱 黄劲松 陈卫东 徐明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期363-370,共8页
采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分... 采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分别来自于缺陷态≡Si-到价带顶和从导带底到缺陷态≡Si-的辐射跃迁而产生的光致激发辐射复合发光。PL谱中只有370nm(3.4eV)处发光峰的峰位会受退火温度的影响,结合FTIR谱认为370nm发光与低价氧化物—SiOx(x<2.0)结合体有密不可分的关系。当SiO2层的厚度增大时,发光强度有所增强,800℃退火后出现最强发光,认为具有较大SiO2层厚度的Si/SiNx/SiO2结构多层膜更有利于退火后形成Si—N网络,能够得到更高效的光致发光。用量子限制-发光中心(QCLC)模型解释了可能的发光机制,并建立了发光的能隙态(EGS)模型。 展开更多
关键词 Si/SiNx/sio2 红外吸收 光致发光
在线阅读 下载PDF
ZrO_2/SiO_2多层膜的化学法制备研究 被引量:4
4
作者 杨帆 沈军 +4 位作者 吴广明 孙骐 付甜 张志华 王珏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期326-330,共5页
 分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层...  分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题。应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外 可见、红外光谱进行了分析。用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激光系统产生的强激光进行了单层膜的辐照实验,结果发现溶剂替换后激光损伤阈值有所提高。 展开更多
关键词 ZrO2/sio2 氧化锆 二氧化硅 化学法制备 溶胶-凝胶工艺 紫外光处理 激光损伤阈值 旋转镀膜法
在线阅读 下载PDF
快速热退火对a_Si:H/SiO_2多层膜光致发光的影响 被引量:2
5
作者 马忠元 韩培高 +6 位作者 黄信凡 隋妍萍 陈三钱波 李伟 徐岭 徐骏 陈坤基 《南京大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2005年第1期55-60,共6页
采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影... 采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影响 .研究发现对a_Si:H/SiO2 多层膜作快速热退火处理 ,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰 .研究了不同退火条件下发光峰的变化 .通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析 ,探讨了a_Si:H/SiO2 多层膜在不同退火温度下的光致发光机理 . 展开更多
关键词 a-Si:H/sio2 光致发光 快速热退火
在线阅读 下载PDF
TiAlN/SiO_2纳米多层刀具涂层的微观结构和超硬效应研究 被引量:3
6
作者 王均涛 刘平 +3 位作者 杨丽红 李伟 刘新宽 马凤仓 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第22期2757-2761,共5页
通过磁控溅射方法制取了一系列不同SiO2厚度的TiAlN/SiO2纳米多层涂层,并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和纳米压痕仪分别对该涂层的微观结构和力学性能进行了表征和测量。研究表明:当非晶态的SiO2厚度约小... 通过磁控溅射方法制取了一系列不同SiO2厚度的TiAlN/SiO2纳米多层涂层,并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和纳米压痕仪分别对该涂层的微观结构和力学性能进行了表征和测量。研究表明:当非晶态的SiO2厚度约小于1nm时,SiO2在TiAlN模板作用下转变为晶体结构,并与TiAlN呈共格外延生长,出现超硬效应;当SiO2厚度为0.6nm时,其硬度和弹性模量分别高达37GPa和393GPa;当SiO2厚度超过1nm时,SiO2逐渐转变为非晶结构并且破坏了多层涂层的共格外延生长,硬度随之降低。因此,可以利用该方法制备出机械性能好且耐高温氧化性的刀具涂层,以满足现代切削的需要。 展开更多
关键词 超硬效应 TiAlN/sio2纳米多 共格外延生长 非晶晶化
在线阅读 下载PDF
SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响 被引量:2
7
作者 于爱芳 范飞镝 +2 位作者 刘中星 朱镛 陈创天 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期603-606,共4页
利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层... 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 LiB3O5 sio2内保护 倍频增透膜 激光损伤阈值 损伤形貌
在线阅读 下载PDF
AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性 被引量:3
8
作者 吴莹 赵文济 +2 位作者 孔明 黄碧龙 李戈扬 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期562-566,共5页
采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/... 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度. 展开更多
关键词 AlN/sio2纳米多 外延生长 超硬效应 抗氧化性
在线阅读 下载PDF
Cu/Ta/SiO2/Si多层膜纳米压痕与压痕下微观结构的研究
9
作者 卢茜 吴子景 +2 位作者 吴晓京 Weidian Shen 蒋宾 《电子显微学报》 CAS CSCD 2008年第4期282-286,共5页
Cu/Ta/SiO2/Si多层膜结构是目前集成电路制造工艺中的常见结构,其硬度与弹性模量通过纳米压入技术测得。为了表征纳米压痕下的形变微观区域,采用聚焦离子束加工出压痕截面,同时进行扫描电子、扫描离子显微观察,发现样品衬底发生开裂,多... Cu/Ta/SiO2/Si多层膜结构是目前集成电路制造工艺中的常见结构,其硬度与弹性模量通过纳米压入技术测得。为了表征纳米压痕下的形变微观区域,采用聚焦离子束加工出压痕截面,同时进行扫描电子、扫描离子显微观察,发现样品衬底发生开裂,多层膜结构出现分层现象。TEM分析表明分层出现在Ta/SiO2界面,说明这是该结构的一个薄弱环节。 展开更多
关键词 Cu/Ta/sio2/Si多膜结构 纳米压入技术 压痕下微观结构
在线阅读 下载PDF
LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO_2膜层的刻蚀作用
10
作者 汤安东 刘金瑞 +1 位作者 王秋花 黄永卓 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第3期74-78,共5页
钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不... 钠钙玻璃基片上的SiO2膜层在很大程度上决定了液晶显示器件(LCD)的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的SiO2膜层为样品,结合LCD工艺特点,初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对SiO2膜层不同的刻蚀作用。本文的结论有利于在LCD工艺中更好地保护SiO2膜层。 展开更多
关键词 液晶显示器件 sio2 碱性溶液 刻蚀
在线阅读 下载PDF
高纯SiO_2隔离层对多晶硅锭和组件光衰的影响
11
作者 牛晓龙 乔松 +3 位作者 张莉沫 夏新中 高文宽 倪建雄 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第11期836-841,共6页
研究了预烧结和未烧结的两种高纯SiO_2隔离层对多晶硅锭少子寿命、氧浓度以及相应光伏组件光致衰减(LID)率的影响。采用含有预烧结隔离层的坩埚和未烧结隔离层的坩埚分别进行多晶硅铸锭实验并测试硅锭及相应光伏组件的性能。结果显示,... 研究了预烧结和未烧结的两种高纯SiO_2隔离层对多晶硅锭少子寿命、氧浓度以及相应光伏组件光致衰减(LID)率的影响。采用含有预烧结隔离层的坩埚和未烧结隔离层的坩埚分别进行多晶硅铸锭实验并测试硅锭及相应光伏组件的性能。结果显示,两种隔离层对铁杂质都具有阻挡作用,预烧结的隔离层有利于降低硅锭中的氧浓度,其对应的硅锭中氧浓度和组件光致衰减率均为最低,而未经烧结的隔离层并未体现出这一作用。通过两种隔离层的SEM图像可以发现,经过预烧结工艺的隔离层结构更为致密;而未经烧结的隔离层中孔隙较多,可能容易引起硅熔体与隔离层或者坩埚进行反应,将较多的氧杂质引入到硅锭中,从而造成氧含量的增加并引起组件较高的光致衰减率。 展开更多
关键词 高纯sio2隔离 多晶硅铸锭 杂质 氧浓度 光致衰减(LID)
在线阅读 下载PDF
声表面波器件用SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构制备 被引量:1
12
作者 陈良贤 刘金龙 +4 位作者 闫雄伯 邵明阳 安康 魏俊俊 李成明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2019年第2期1-7,共7页
为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄... 为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄膜的沉积速率不断加快,薄膜的表面粗糙度不断增大;ZnO薄膜中的原子摩尔分数比随O_2输入量的减少而逐渐接近理想的1∶1。不同氩氧比下制备的ZnO薄膜均呈(002)面择优取向生长,其中在氩氧比7∶1时,获得了具有细小柱状晶特征、C轴择优取向程度较高的ZnO薄膜。采用最优的ZnO和SiO_2薄膜沉积工艺,在金刚石/Si衬底获得了具有清晰界面的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构。 展开更多
关键词 金刚石膜 磁控溅射 sio2/ZnO/金刚石/硅多结构 声表面波器件
在线阅读 下载PDF
Ag@SiO_2纳米颗粒的制备和光谱性能研究 被引量:3
13
作者 王蕊 唐建国 +3 位作者 王瑶 刘继宪 黄林军 黄震 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期9-12,16,共5页
利用还原法制备纳米银溶胶,采用改进的Stber法分别于乙醇和正丁醇溶剂中制备Ag@SiO2。透射电镜(TEM)表明在乙醇溶剂中实现了包覆,X射线衍射(XRD)表明纳米银具有规则的面心立方结构,X射线光电子能谱(XPS)则进一步表明银颗粒表面构筑了SiO... 利用还原法制备纳米银溶胶,采用改进的Stber法分别于乙醇和正丁醇溶剂中制备Ag@SiO2。透射电镜(TEM)表明在乙醇溶剂中实现了包覆,X射线衍射(XRD)表明纳米银具有规则的面心立方结构,X射线光电子能谱(XPS)则进一步表明银颗粒表面构筑了SiO2壳层。壳层厚度对银溶胶的光谱性质有显著影响,紫外可见吸收光谱表明最大吸收峰发生红移;荧光光谱表明SiO2壳层的包覆使纳米银的激发和发射光谱强度降低。 展开更多
关键词 Ag@sio2 sio2 紫外光谱 荧光光谱
在线阅读 下载PDF
电子束蒸发SiO_2薄膜残余应力在不同湿度环境下的对比 被引量:4
14
作者 叶晓雯 丁涛 +5 位作者 程鑫彬 沈正祥 王孝东 刘永利 鲍刚华 何文彦 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第3期713-717,共5页
采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表... 采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表明:SiO2薄膜的残余应力在两个环境中均表现为压应力,且随沉积温度的升高均逐渐增大。干燥环境下与大气环境相比,应力值减小了约100MPa。此外,随沉积温度的升高,薄膜折射率不断增大,表面粗糙度逐渐减小。说明:随着沉积温度的变化,SiO2薄膜的微结构发生了改变。相应地,由水诱发的应力随薄膜致密度的增加而逐渐减小。 展开更多
关键词 sio2 沉积温度 残余应力 由水诱发的应力 折射率 表面形貌
在线阅读 下载PDF
多孔羰基铁/SiO2/聚吡咯核壳结构复合材料的制备及电磁特性 被引量:9
15
作者 谢明达 田晓霞 +1 位作者 屈绍波 程花蕾 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1261-1270,共10页
首先对羰基铁进行点腐蚀得到多孔羰基铁,然后采用St?ber法和原位聚合法将SiO_2和导电高分子聚吡咯包覆在多孔羰基铁表面,制备多孔羰基铁/SiO_2/聚吡咯电磁复合吸波材料。采用XRD、SEM、TEM、FT-IR对样品结构、微观形貌进行了表征,在网... 首先对羰基铁进行点腐蚀得到多孔羰基铁,然后采用St?ber法和原位聚合法将SiO_2和导电高分子聚吡咯包覆在多孔羰基铁表面,制备多孔羰基铁/SiO_2/聚吡咯电磁复合吸波材料。采用XRD、SEM、TEM、FT-IR对样品结构、微观形貌进行了表征,在网络分析仪中采用同轴法测试样品电磁参数,并根据传输线理论研究了2~18 GHz微波频段内吡咯含量及涂层厚度对样品吸波性能的影响。实验结果表明:制备的多孔羰基铁/SiO_2/聚吡咯复合电磁吸波材料具有核壳结构;随着吡咯加入量的增加,吸波材料吸收峰逐渐向低频方向移动;当涂层厚度为3.5 mm、吡咯加入量为6%(w/w)时,在9.44~17.56 GHz范围内反射率均低于-10 d B,频带宽度为8.12 GHz,损耗反射率达到-23 d B。良好的吸波性能归因于复合物有效的阻抗匹配特性及多重界面极化效应,多孔羰基铁/SiO_2/聚吡咯是一种轻质、宽频、强吸收的吸波材料。 展开更多
关键词 多孔羰基铁 sio2过渡 聚吡咯 核壳结构 电磁特性
在线阅读 下载PDF
SiO_2金纳米棒复合粒子的制备及其光学性质的研究 被引量:1
16
作者 王怡 周凤珍 孙宏浩 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期84-86,共3页
采用银离子介导的晶种生长法,制备出具有理想局域表面等离子共振(LSPR)吸收峰的金纳米棒(GNR)。通过碱催化正硅酸四乙酯(TEOS)的水解缩合,在GNR表面形成SiO_2壳层。利用透射电镜对其进行形貌表征,成功制备出壳层为15nm和30nm的Si... 采用银离子介导的晶种生长法,制备出具有理想局域表面等离子共振(LSPR)吸收峰的金纳米棒(GNR)。通过碱催化正硅酸四乙酯(TEOS)的水解缩合,在GNR表面形成SiO_2壳层。利用透射电镜对其进行形貌表征,成功制备出壳层为15nm和30nm的SiO_2金纳米棒复合粒子(GNR-SiO_2),其中壳层为30nm的GNR-SiO_2呈规则的椭球形,具有明显的介孔特征。Zeta(电位)结果表明,SiO_2包埋使GNR的表面电位发生了剧烈反转,由35.6mV变为-14.5mV。其光学性质研究表面调节硝酸银的用量以及环境pH可以实现GNR局域表面等离子体共振吸收峰(LSPR)吸收峰在700~950nm内的调控,而且SiO_2包埋对复合粒子的LSPR吸收峰及光热转化效应没有明显影响。SiO_2包埋能够在改善GNR在生物毒性、稳定性及载药率等方面的不足的同时不影响其光学特性,极大的增加了GNR在生物检测和纳米药物领域的应用潜力。 展开更多
关键词 金纳米棒 sio2 局域表面等离子共振 光热转化作用
在线阅读 下载PDF
表面SiO_2改性高选择性MOS氢气传感器 被引量:3
17
作者 何泽 张覃轶 薛妞子 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1005-1011,共7页
以十甲基环五硅氧烷(D5)为硅源,采用化学气相沉积法(CVD)在SnO_2气体传感器表面沉积SiO_2膜作为改性层,研究了CVD处理过程中温度和处理时间对传感器的选择性和灵敏性影响。通过对乙醇、丙酮、苯和氢气的气敏性能测试,得出在500℃下CVD处... 以十甲基环五硅氧烷(D5)为硅源,采用化学气相沉积法(CVD)在SnO_2气体传感器表面沉积SiO_2膜作为改性层,研究了CVD处理过程中温度和处理时间对传感器的选择性和灵敏性影响。通过对乙醇、丙酮、苯和氢气的气敏性能测试,得出在500℃下CVD处理8 h后的SnO_2传感器对氢气具有最好的选择性和灵敏性。同时讨论了Si O2改性层提高SnO_2传感器选择性和灵敏性的机理。 展开更多
关键词 气体传感器 sio2改性 氢气 选择性
在线阅读 下载PDF
直接金属氧化法制备SiC_p/Al_2O_3-Al复合材料的微观结构与工艺性能的研究(英文)
18
作者 林营 杨海波 《陕西科技大学学报(自然科学版)》 2004年第5期81-85,共5页
采用直接金属氧化法制备了SiC颗粒增强Al2O2 Al基复合材料,借助XRD和光学金 相显微镜对该复合材料的组成及微观结构进行了观察,分析了SiO2层、合金成分和温度制度 对复合材料性能的影响。结果表明该复合材料结构致密且渗透完全,... 采用直接金属氧化法制备了SiC颗粒增强Al2O2 Al基复合材料,借助XRD和光学金 相显微镜对该复合材料的组成及微观结构进行了观察,分析了SiO2层、合金成分和温度制度 对复合材料性能的影响。结果表明该复合材料结构致密且渗透完全,微观结构由3种相互穿 插相组成,即SiC预制体、连续的Al2O3基体及呈网状结构分布的未被氧化的残余Al。 展开更多
关键词 直接金属氧化法 SiCp/Al2O3-Al复合材料 微观结构 工艺性能 sio2层 合金成分
在线阅读 下载PDF
高k值HfO_2栅介质材料电学特性的研究进展 被引量:9
19
作者 田书凤 彭英才 +1 位作者 范志东 张弘 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期22-26,共5页
随着Si-MOS集成电路的迅速发展,高k值栅介质材料将成为下一代MOS器件绝缘栅最有希望的候选材料。介绍了近年来HfO2栅介质材料在制备方法和电学特性方面的研究进展,提出了改善其电学特性的主要途径,其中包括非金属元素掺杂、构建组分渐... 随着Si-MOS集成电路的迅速发展,高k值栅介质材料将成为下一代MOS器件绝缘栅最有希望的候选材料。介绍了近年来HfO2栅介质材料在制备方法和电学特性方面的研究进展,提出了改善其电学特性的主要途径,其中包括非金属元素掺杂、构建组分渐变界面、设计准二元合金系统、制备堆垛积层结构、抑制界面层生长和选择适宜的电极材料等。 展开更多
关键词 高介电常数 HFO2栅介质 等效sio2介电厚度 电学特性
在线阅读 下载PDF
Mo对A_2B_7型La-Mg-Ni贮氢电极合金相结构及电化学性能的影响 被引量:4
20
作者 蒋明 李子全 +2 位作者 刘劲松 彭洁 谢理明 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期32-38,共7页
采用磁控溅射技术在石英衬底上制备出(Ge/SiO2)15多层膜,并在不同温度下对其进行退火处理。XRD和Raman结果表明:溅射态的薄膜为非晶态,当退火温度为500℃时开始出现明显的结晶衍射峰,随后晶化率明显增大,当600℃后,薄膜的晶化率几乎不变... 采用磁控溅射技术在石英衬底上制备出(Ge/SiO2)15多层膜,并在不同温度下对其进行退火处理。XRD和Raman结果表明:溅射态的薄膜为非晶态,当退火温度为500℃时开始出现明显的结晶衍射峰,随后晶化率明显增大,当600℃后,薄膜的晶化率几乎不变。FESEM和小角度X射线衍射结果表明:溅射态薄膜的层与层之间存在明显的界面,具有良好的周期性,升高退火温度,晶粒尺寸增大,但仍保持周期性结构。薄膜的紫外-可见光吸收光谱表明:随着退火温度的升高,吸收边发生红移,光学带隙从溅射态的1.86eV减小到600℃时的1.59eV。 展开更多
关键词 Ge/sio2薄膜 射频磁控溅射 退火温度 UV-VIS光谱 小角度X射线衍射
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部