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火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
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作者 郑伟 吴远大 +4 位作者 邢华 张乐天 李爱武 刘国范 张玉书 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第0Z2期253-256,共4页
本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm,折射率为1.463... 本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm,折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。 展开更多
关键词 火焰水解法 si02-ge02平面波导材料 玻璃态 折射率 表面特性 测试 二氧化硅 二氧化锗
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