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火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
1
作者
郑伟
吴远大
+4 位作者
邢华
张乐天
李爱武
刘国范
张玉书
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期253-256,共4页
本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm,折射率为1.463...
本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm,折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。
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关键词
火焰水解法
si02-ge02平面波导材料
玻璃态
折射率
表面特性
测试
二氧化硅
二氧化锗
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职称材料
题名
火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
1
作者
郑伟
吴远大
邢华
张乐天
李爱武
刘国范
张玉书
机构
吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第0Z2期253-256,共4页
文摘
本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm,折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。
关键词
火焰水解法
si02-ge02平面波导材料
玻璃态
折射率
表面特性
测试
二氧化硅
二氧化锗
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
TN814 [电子电信—信息与通信工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料
郑伟
吴远大
邢华
张乐天
李爱武
刘国范
张玉书
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
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