Si／SiNx／SiO2多层膜的光致发光 被引量：3

1

作者 陈青云 段满益 +6 位作者 周海平 董成军 魏屹 纪红萱 黄劲松 陈卫东 徐明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期363-370,共8页

采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分... 采用射频磁控溅射法,制备了具有强光致可见发光的纳米Si/SiNx/SiO2多层膜,利用傅立叶红外吸收(FTIR)谱,光致发光(PL)谱对其进行了研究。用260nm光激发得到的PL谱中观察到高强度的392nm(3.2eV)和670nm(1.9eV)光致发光峰,分析认为它们分别来自于缺陷态≡Si-到价带顶和从导带底到缺陷态≡Si-的辐射跃迁而产生的光致激发辐射复合发光。PL谱中只有370nm(3.4eV)处发光峰的峰位会受退火温度的影响,结合FTIR谱认为370nm发光与低价氧化物—SiOx(x<2.0)结合体有密不可分的关系。当SiO2层的厚度增大时,发光强度有所增强,800℃退火后出现最强发光,认为具有较大SiO2层厚度的Si/SiNx/SiO2结构多层膜更有利于退火后形成Si—N网络,能够得到更高效的光致发光。用量子限制-发光中心(QCLC)模型解释了可能的发光机制,并建立了发光的能隙态(EGS)模型。 展开更多

关键词 si/sinx/sio2多层膜 红外吸收 光致发光

在线阅读 下载PDF 职称材料

不同后处理方法对溶胶-凝胶SiO_2膜层抗污染能力的影响 被引量：5

2

作者 赵松楠 晏良宏 +5 位作者 吕海兵 章春来 王海军 王韬 袁晓东 郑万国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期240-244,共5页

以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探... 以正硅酸乙酯作为前驱体,利用碱催化方式制备了SiO2溶胶,采用提拉法在K9基片上镀制SiO2单层薄膜,分别用热处理、紫外辐射处理、氨水加六甲基二硅胺烷气氛处理和酸碱复合膜4种后处理法对膜层进行处理,采用分光光度计、红外光谱、扫描探针显微镜、静滴接触角测量仪、椭偏仪等分析了薄膜的特性,通过真空环境加速污染实验对处理前后的膜层进行抗污染能力对比,结果表明:在碱性SiO2膜层上加镀一层酸性SiO2膜的复合膜层整体透过率仍保持在99%以上,疏水角达到128°,膜层真空抗污染能力大大加强。 展开更多

关键词 溶胶凝胶 sio2 加速污染 化学膜 膜层后处理

在线阅读 下载PDF 职称材料

TOPCon太阳电池发射极Al_(2)O_(3)/SiNx与SiO_(2)/Al_(2)O_(3)/SiNx叠层膜钝化性能的比较 被引量：1

3

作者 杨露 刘大伟 +2 位作者 张婷 魏凯峰 石慧君 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第12期2090-2095,共6页

本文对TOPCon电池发射结的叠层钝化膜进行了研究,对比了3种不同叠层钝化膜(SiO_(2)/SiNx、Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx、SiO_(2)/Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx)的钝化性能。结果表明:Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx的钝化性能优于SiO_(2)/SiNx,SiO... 本文对TOPCon电池发射结的叠层钝化膜进行了研究,对比了3种不同叠层钝化膜(SiO_(2)/SiNx、Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx、SiO_(2)/Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx)的钝化性能。结果表明:Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx的钝化性能优于SiO_(2)/SiNx,SiO_(2)/Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx的钝化水平最佳,隐开路电压均值可达到705 mV。基于Al_(2)O_(3)/SiNx叠层膜研究了Al_(2)O_(3)厚度(1.5 nm、3 nm和5 nm)对钝化性能和电池转换效率的影响。当Al_(2)O_(3)厚度由1.5 nm增加到3 nm时,钝化性能得到明显提升,隐开路电压均值提高了20 mV,达到707 mV,对应电池的光电转换效率升高了0.23个百分点,与SiO_(2)/Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx叠层膜电池的转换效率持平。然而,当Al_(2)O_(3)厚度继续增加至5 nm时,隐开路电压均值保持不变。因此可以使用Al_(2)O_(3)(3 nm)/SiNx叠层膜代替SiO_(2)/Al_(2)O_(3)(1.5 nm)/SiNx叠层膜,不仅简化了电池的工艺步骤,而且降低了生产成本。 展开更多

关键词 TOPCon电池 表面钝化 三氧化二铝 Al_(2)O_(3)/sinx叠层钝化膜 钝化性能 隐开路电压

在线阅读 下载PDF 职称材料

SiON/SiO_2复合膜层对太阳能电池阵板间电缆的表面改性及其耐空间环境性能 被引量：4

4

作者 曹章轶 吴敏 +3 位作者 马聚沙 陈萌炯 王训春 张宗波 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期55-62,共8页

在空间站工作的太阳电池阵板间电缆上下表面为聚酰亚胺薄膜,在低轨运行时会受到原子氧的强烈侵蚀,需要采取措施对其进行保护。采用射频磁控溅射法在电缆表面制备了颗粒尺寸均匀、排列致密的SiO_2膜层。通过表征空间环境试验前后样品发... 在空间站工作的太阳电池阵板间电缆上下表面为聚酰亚胺薄膜,在低轨运行时会受到原子氧的强烈侵蚀,需要采取措施对其进行保护。采用射频磁控溅射法在电缆表面制备了颗粒尺寸均匀、排列致密的SiO_2膜层。通过表征空间环境试验前后样品发现由于电缆表面的凸起颗粒等缺陷无法完全被SiO_2膜层覆盖,导致原子氧会对缺陷位置产生侵蚀作用。采用全氢聚硅氮烷溶液对板间电缆基底进行表面改性处理,制备的聚硅氧氮烷涂层(SiON)可以有效地覆盖电缆基底表面的凸起颗粒等缺陷,使得其上溅射的SiO_2膜层表面光滑平整。经原子氧暴露试验,SiON/SiO_2层内部没有受到其侵蚀作用,可以防止原子氧对电缆基底的破坏。经多次冷热循环试验,SiON/SiO_2复合膜层仍然具备良好的结构特性与结合性能。 展开更多

关键词 聚硅氧氮烷 sio2 复合膜层 表面改性 板间电缆

在线阅读 下载PDF 职称材料

ZrO_2/SiO_2多层膜的化学法制备研究 被引量：4

5

作者 杨帆 沈军 +4 位作者 吴广明 孙骐 付甜 张志华 王珏 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期326-330,共5页

　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层... 　分别以ZrOCl2·8H2O和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶 凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法分别在K9玻璃和单晶硅片上制备了ZrO2/SiO2多层膜。采用溶剂替换和紫外光处理等手段,有效地解决了ZrO2/SiO2多层膜中膜层开裂和膜间渗透等问题。应用扫描电子显微镜观测了薄膜的表面和剖面微观形貌,并用椭偏仪测得薄膜的厚度和折射率,研究了薄膜厚度、折射率与热处理温度、紫外光处理时间的关系,对所获得薄膜的紫外 可见、红外光谱进行了分析。用输出波长1064nm,脉宽15ns的电光调Q激光系统产生的强激光进行了单层膜的辐照实验,结果发现溶剂替换后激光损伤阈值有所提高。 展开更多

关键词 ZrO2/sio2多层膜 氧化锆 二氧化硅 化学法制备 溶胶-凝胶工艺 紫外光处理 激光损伤阈值 旋转镀膜法

在线阅读 下载PDF 职称材料

快速热退火对a_Si:H/SiO_2多层膜光致发光的影响 被引量：2

6

作者 马忠元 韩培高 +6 位作者 黄信凡 隋妍萍 陈三钱波 李伟 徐岭 徐骏 陈坤基 《南京大学学报（自然科学版）》 CSCD 北大核心 2005年第1期55-60,共6页

采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影... 采用在等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统中沉积a_Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a_Si:H/SiO2 多层膜 .用快速热退火对a_Si:H/SiO2 多层膜进行处理 ,制备nc_Si/SiO2 多层膜 ,研究了这种方法对a_Si:H/SiO2 多层膜发光特性的影响 .研究发现对a_Si:H/SiO2 多层膜作快速热退火处理 ,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰 .研究了不同退火条件下发光峰的变化 .通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析 ,探讨了a_Si:H/SiO2 多层膜在不同退火温度下的光致发光机理 . 展开更多

关键词 a-si:H/sio2多层膜 光致发光 快速热退火

在线阅读 下载PDF 职称材料

以嵌段共聚物调控中间层的SiO2复合膜的制备和表征

7

作者 钟璟 陈燕 +2 位作者 黄维秋 陈若愚 韩光鲁 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期99-102,共4页

采用溶胶-凝胶模板法,以三嵌段共聚物PEO20PPO70PEO20(P123)为模板剂,制备SiO2中间层膜以改善SiO2复合膜的渗透和分离性能。比较了模板剂含量对溶胶粒径和膜孔径的影响。研究表明:随着模板剂含量的增加,溶胶粒子的尺寸和所制备的中间层... 采用溶胶-凝胶模板法,以三嵌段共聚物PEO20PPO70PEO20(P123)为模板剂,制备SiO2中间层膜以改善SiO2复合膜的渗透和分离性能。比较了模板剂含量对溶胶粒径和膜孔径的影响。研究表明:随着模板剂含量的增加,溶胶粒子的尺寸和所制备的中间层的孔径随之增加;中间层的加入利于制备出孔径分布窄,孔隙率高的SiO2复合膜。相对于无中间层膜,复合膜具有较高的渗透量和分离性能。在跨膜压差0.04MPa时,复合膜对氮气的渗透系数可达5×10-8mol/m2s Pa,正己烷/氮气的分离因子为2.6。 展开更多

关键词 sio2复合膜 模板剂 中间层 渗透系数 分离因子

在线阅读 下载PDF 职称材料

VN/SiO_2纳米多层膜的微结构特征与超硬效应

8

作者 赵文济 岳建岭 +1 位作者 乌晓燕 李戈扬 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第B08期91-92,共2页

关键词 纳米多层膜 超硬效应 微结构特征 sio2 高温抗氧化性 AL2O3 含氧化物 VN

在线阅读 下载PDF 职称材料

TiB_2/SiO_2纳米多层膜的微结构特征

9

作者 魏仑 李一睿 李戈扬 《电子显微学报》 CAS CSCD 2005年第4期273-273,共1页

关键词 纳米多层膜 微结构特征 sio2 TIB2 抗氧化性能 氧化物 弹性模量 纳米量级 超硬效应

在线阅读 下载PDF 职称材料

AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性 被引量：3

10

作者 吴莹 赵文济 +2 位作者 孔明 黄碧龙 李戈扬 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期562-566,共5页

采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/... 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度. 展开更多

关键词 AlN/sio2纳米多层膜 外延生长 超硬效应 抗氧化性

在线阅读 下载PDF 职称材料

Cu/Ta/SiO2/Si多层膜纳米压痕与压痕下微观结构的研究

11

作者 卢茜 吴子景 +2 位作者 吴晓京 Weidian Shen 蒋宾 《电子显微学报》 CAS CSCD 2008年第4期282-286,共5页

Cu/Ta/SiO2/Si多层膜结构是目前集成电路制造工艺中的常见结构,其硬度与弹性模量通过纳米压入技术测得。为了表征纳米压痕下的形变微观区域,采用聚焦离子束加工出压痕截面,同时进行扫描电子、扫描离子显微观察,发现样品衬底发生开裂,多... Cu/Ta/SiO2/Si多层膜结构是目前集成电路制造工艺中的常见结构,其硬度与弹性模量通过纳米压入技术测得。为了表征纳米压痕下的形变微观区域,采用聚焦离子束加工出压痕截面,同时进行扫描电子、扫描离子显微观察,发现样品衬底发生开裂,多层膜结构出现分层现象。TEM分析表明分层出现在Ta/SiO2界面,说明这是该结构的一个薄弱环节。 展开更多

关键词 Cu/Ta/sio2/si多层膜结构 纳米压入技术 压痕下微观结构

在线阅读 下载PDF 职称材料

电子束蒸发SiO_2薄膜残余应力在不同湿度环境下的对比 被引量：4

12

作者 叶晓雯 丁涛 +5 位作者 程鑫彬 沈正祥 王孝东 刘永利 鲍刚华 何文彦 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第3期713-717,共5页

采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表... 采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表明:SiO2薄膜的残余应力在两个环境中均表现为压应力,且随沉积温度的升高均逐渐增大。干燥环境下与大气环境相比,应力值减小了约100MPa。此外,随沉积温度的升高,薄膜折射率不断增大,表面粗糙度逐渐减小。说明:随着沉积温度的变化,SiO2薄膜的微结构发生了改变。相应地,由水诱发的应力随薄膜致密度的增加而逐渐减小。 展开更多

关键词 sio2单层膜 沉积温度 残余应力 由水诱发的应力 折射率 表面形貌

在线阅读 下载PDF 职称材料

LCD工艺中使用的碱性溶液对SiO_2膜层的刻蚀作用

13

作者 汤安东 刘金瑞 +1 位作者 王秋花 黄永卓 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第3期74-78,共5页

钠钙玻璃基片上的ＳｉＯ２膜层在很大程度上决定了液晶显示器件（ＬＣＤ）的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的ＳｉＯ２膜层为样品，结合ＬＣＤ工艺特点，初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对ＳｉＯ２膜层不... 钠钙玻璃基片上的ＳｉＯ２膜层在很大程度上决定了液晶显示器件（ＬＣＤ）的化学稳定性及使用寿命。本文以射频溅射法制备的ＳｉＯ２膜层为样品，结合ＬＣＤ工艺特点，初步研究分析了其工艺流程中所使用的不同碱性溶液对ＳｉＯ２膜层不同的刻蚀作用。本文的结论有利于在ＬＣＤ工艺中更好地保护ＳｉＯ２膜层。 展开更多

关键词 液晶显示器件 sio2膜层 碱性溶液 刻蚀

在线阅读 下载PDF 职称材料

TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜的制备及其结构和性能分析 被引量：3

14

作者 董磊 刘广庆 +3 位作者 孙延东 龚杰 刘孟寅 李德军 《天津师范大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2010年第1期29-32,共4页

利用超高真空离子束辅助沉积(IBAD)系统,在225℃条件下,制备一系列TiB2/Si3N4纳米多层膜,通过X射线衍射(XRD)仪、表面轮廓仪、原子力显微镜(AFM)和纳米力学测试系统分析该体系合成中调制比对多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:一定... 利用超高真空离子束辅助沉积(IBAD)系统,在225℃条件下,制备一系列TiB2/Si3N4纳米多层膜,通过X射线衍射(XRD)仪、表面轮廓仪、原子力显微镜(AFM)和纳米力学测试系统分析该体系合成中调制比对多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:一定条件下制备的多层膜其纳米硬度值高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制比为15∶1,调制周期为(13±1)nm时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量和膜基结合性能均达到最佳.多层膜机械性能的明显改善与其多层结构和多晶结构存在直接联系.实验证明通过选择合适的个体层材料、厚度以及调制比等条件,制备具有高硬度、低应力和良好膜基结合力的纳米多层膜是可以实现的. 展开更多

关键词 离子束辅助沉积 TiB2/si3N4纳米多层膜 调制比 硬度

在线阅读 下载PDF 职称材料

含纳米SiO_2液体石蜡润滑下FeS固体润滑复合层的摩擦学性能 被引量：2

15

作者 胡春华 马世宁 +3 位作者 乔玉林 刘秋普 倪娜 王海涛 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2010年第7期46-50,共5页

采用离子氮碳共渗与离子渗硫复合处理技术在45#钢表面形成FeS固体润滑复合层,在摩擦磨损试验机上考察其在含0.1%(质量分数)纳米SiO2液体石蜡润滑下的摩擦学性能。结果表明:制备的FeS固体润滑复合层表面微纳米量级的硫化物颗粒与微纳孔... 采用离子氮碳共渗与离子渗硫复合处理技术在45#钢表面形成FeS固体润滑复合层,在摩擦磨损试验机上考察其在含0.1%(质量分数)纳米SiO2液体石蜡润滑下的摩擦学性能。结果表明:制备的FeS固体润滑复合层表面微纳米量级的硫化物颗粒与微纳孔隙分布均匀,其相组成主要为FeS、FeS2和Fe3N;在0.1%纳米SiO2液体石蜡润滑下,复合层与纳米SiO2添加剂产生协同作用,磨损表面形成了由硫化物、硫酸盐、氮化物等组成的化学反应膜,使FeS固体润滑复合层表面摩擦因数最低,始终保持在0.08左右,体积磨损量最小,比未渗表面(摩擦6min)降低了96%,比渗硫表面和氮碳共渗表面分别降低了89%和22%。 展开更多

关键词 FeS固体润滑复合层 纳米sio2 化学反应膜 减摩耐磨

在线阅读 下载PDF 职称材料

纳米SiO_2改性聚合物渗透汽化膜 被引量：3

16

作者 刘鲜红 孙元 胡玥 《天津工业大学学报》 CAS 2008年第2期13-15,共3页

以丙烯酸、丙烯腈为单体,添加纳米SiO2进行水溶液共聚,由共聚物水溶液制备主体膜,并与聚乙烯醇膜复合,制备出水优先透过的3层夹芯复合渗透汽化膜.通过TG分析、机械性能测试和渗透汽化分离实验研究了纳米SiO2改性膜的性能.与不含纳米SiO... 以丙烯酸、丙烯腈为单体,添加纳米SiO2进行水溶液共聚,由共聚物水溶液制备主体膜,并与聚乙烯醇膜复合,制备出水优先透过的3层夹芯复合渗透汽化膜.通过TG分析、机械性能测试和渗透汽化分离实验研究了纳米SiO2改性膜的性能.与不含纳米SiO2的膜相比,改性膜的热稳定性和机械稳定性明显改善.使用该膜分离甲醇质量分数98%的水溶液,膜的分离因子显著提高,且有不错的渗透通量. 展开更多

关键词 甲醇/水溶液 3层夹芯复合膜 纳米sio2

在线阅读 下载PDF 职称材料

离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi_2薄膜的研究 被引量：2

17

作者 张娟 沈鸿烈 +5 位作者 鲁林峰 唐正霞 江丰 李斌斌 刘恋慈 沈洲 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期886-888,891,共4页

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表... 采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1。 展开更多

关键词 Β-FEsi2 离子束溅射沉积 Fe/si多层膜 石英衬底

在线阅读 下载PDF 职称材料

Fe/Si多层膜经快速热退火合成β-FeSi_2薄膜的研究

18

作者 郭艳 沈鸿烈 +2 位作者 张娟 唐正霞 鲁林峰 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期167-170,共4页

采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s的快速热退火。为了比较,也进行了880℃,30min的常规退火。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、光谱仪和... 采用磁控溅射仪在高阻Si(100)衬底上沉积了[Fe(0.5nm)/Si(1.6nm)]120和[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜,并在Ar气气氛下进行了1000℃,10s的快速热退火。为了比较,也进行了880℃,30min的常规退火。采用X射线衍射仪、原子力显微镜、光谱仪和霍尔效应仪分析了样品的晶体结构、表面形貌、光吸收特性和电学性能。结果表明:Fe/Si多层膜法合成的样品均为β-FeSi2相且在(220)/(202)方向择优生长;经快速热退火合成的β-FeSi2薄膜光学带隙约为0.9 eV。[Fe(1nm)/Si(3.2nm)]60多层膜经快速热退火合成的β-FeSi2薄膜表面粗糙度最小,该薄膜样品为p型导电,载流子浓度为4.1×1017cm-3,迁移率为48cm2/V.s。 展开更多

关键词 Β-FEsi2 Fe/si多层膜 快速热退火 磁控溅射

在线阅读 下载PDF 职称材料

改性剂对旋转法SiO2减反膜均匀性的影响 被引量：2

19

作者 杨伟 李海波 +4 位作者 张清华 马红菊 惠浩浩 刘志超 马平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期2865-2870,共6页

分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以... 分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理,利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性,使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析,对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征。结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷,表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm,膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%～99.89%,膜层激光损伤阈值为21.0～25.3 J/cm2。 展开更多

关键词 改性剂 旋转法 sio2 减反膜 均匀性 silica 膜层 表面粗糙度 条纹缺陷 溶胶 透射比 激光损伤阈值 链段柔顺性 对比和分析 膜法制备 显微镜下 石英基片 均方根值 表面质量 表面形貌

在线阅读 下载PDF 职称材料

声表面波器件用SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构制备 被引量：1

20

作者 陈良贤 刘金龙 +4 位作者 闫雄伯 邵明阳 安康 魏俊俊 李成明 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2019年第2期1-7,共7页

为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄... 为获得高频、高性能金刚石声表面波器件的多层结构,在金刚石/Si衬底使用磁控溅射方法优化ZnO与SiO_2薄膜沉积工艺参数,制备了具有正负温度系数组合的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构,并对多层结构进行表征。结果表明:随着氩氧比增加,ZnO薄膜的沉积速率不断加快,薄膜的表面粗糙度不断增大;ZnO薄膜中的原子摩尔分数比随O_2输入量的减少而逐渐接近理想的1∶1。不同氩氧比下制备的ZnO薄膜均呈(002)面择优取向生长,其中在氩氧比7∶1时,获得了具有细小柱状晶特征、C轴择优取向程度较高的ZnO薄膜。采用最优的ZnO和SiO_2薄膜沉积工艺,在金刚石/Si衬底获得了具有清晰界面的SiO_2/ZnO/金刚石/Si多层结构。 展开更多

关键词 金刚石膜 磁控溅射 sio2/ZnO/金刚石/硅多层结构 声表面波器件

在线阅读 下载PDF 职称材料