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ST-石英的湿法腐蚀工艺研究
被引量：
4
1
作者
林丙涛
唐光庆
+3 位作者
周倩
张巧云
翁邦英
班亚娟
《压电与声光》
CSCD
北大核心
2014年第5期779-781,共3页
对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩蔽膜材料为Cr/Au双层金属膜,腐蚀液为HF和NH4F的混合溶液;主要研究了基片清洗、腐蚀液成分配比及腐蚀温...
对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩蔽膜材料为Cr/Au双层金属膜,腐蚀液为HF和NH4F的混合溶液;主要研究了基片清洗、腐蚀液成分配比及腐蚀温度等工艺参数对基片表面腐蚀质量的影响,并通过选择最佳的试验参数,以约0.7μm/min的适中腐蚀速率加工出了满足要求的晶体表面。
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关键词
st-切石英
湿法腐蚀
掩蔽膜
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职称材料
题名
ST-石英的湿法腐蚀工艺研究
被引量：
4
1
作者
林丙涛
唐光庆
周倩
张巧云
翁邦英
班亚娟
机构
中国电子科技集团公司第
中国人民解放军驻重庆气体压缩机厂军事代表室
出处
《压电与声光》
CSCD
北大核心
2014年第5期779-781,共3页
文摘
对影响ST-切向石英表面湿法腐蚀质量的因素进行了试验研究,并对结果进行了详细分析。试验基片材料为双面抛光的ST-切向石英晶体,掩蔽膜材料为Cr/Au双层金属膜,腐蚀液为HF和NH4F的混合溶液;主要研究了基片清洗、腐蚀液成分配比及腐蚀温度等工艺参数对基片表面腐蚀质量的影响,并通过选择最佳的试验参数,以约0.7μm/min的适中腐蚀速率加工出了满足要求的晶体表面。
关键词
st-切石英
湿法腐蚀
掩蔽膜
Keywords
st-
cut quartz
wet etching
etch mask
分类号
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
ST-石英的湿法腐蚀工艺研究
林丙涛
唐光庆
周倩
张巧云
翁邦英
班亚娟
《压电与声光》
CSCD
北大核心
2014
4
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