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双离子束溅射法制备SiO_xN_y薄膜的结构与发光
1
作者
李群
黎定国
+3 位作者
邓玲娜
刘义保
诸葛兰剑
吴雪梅
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期57-60,共4页
本文采用双离子束溅射沉积法制备了SiOxNy复合薄膜,XRD、TEM测试表明薄膜呈非晶态,FTIR及XPS测试表明薄膜成分由Si、O、N组成,在室温下可观察到样品有400 nm(紫光)、470 nm(蓝光)的光致发光。根据测试分析研究了SiOxNy薄膜的可能的发光...
本文采用双离子束溅射沉积法制备了SiOxNy复合薄膜,XRD、TEM测试表明薄膜呈非晶态,FTIR及XPS测试表明薄膜成分由Si、O、N组成,在室温下可观察到样品有400 nm(紫光)、470 nm(蓝光)的光致发光。根据测试分析研究了SiOxNy薄膜的可能的发光机理:470 nm处发光峰为来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O3≡Si-Si≡O3),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化,800℃时最大,高于800℃时慢慢减弱;400 nm发光峰的发射与薄膜中的Si、O、N所形成的结构有关,它可能来自于Si、O、N结构所形成的发光中心,该峰位的强度随退火温度的升高而增强。
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关键词
双离子束测射
sioxny薄膜
结构与发光
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职称材料
题名
双离子束溅射法制备SiO_xN_y薄膜的结构与发光
1
作者
李群
黎定国
邓玲娜
刘义保
诸葛兰剑
吴雪梅
机构
东华理工学院物理系
苏州大学物理科学与技术学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第1期57-60,共4页
基金
苏州大学薄膜材料重点实验室资助课题
东华理工学院硕博基金课题(No.DHS0511)
文摘
本文采用双离子束溅射沉积法制备了SiOxNy复合薄膜,XRD、TEM测试表明薄膜呈非晶态,FTIR及XPS测试表明薄膜成分由Si、O、N组成,在室温下可观察到样品有400 nm(紫光)、470 nm(蓝光)的光致发光。根据测试分析研究了SiOxNy薄膜的可能的发光机理:470 nm处发光峰为来自于硅基薄膜中中性氧空位缺陷(O3≡Si-Si≡O3),是由于氧原子配位的二价硅的单态-单态之间的跃迁所致,其发光强度随退火温度的升高而变化,800℃时最大,高于800℃时慢慢减弱;400 nm发光峰的发射与薄膜中的Si、O、N所形成的结构有关,它可能来自于Si、O、N结构所形成的发光中心,该峰位的强度随退火温度的升高而增强。
关键词
双离子束测射
sioxny薄膜
结构与发光
Keywords
Dual ion beam sputtering,
sioxny
film, Structure and luminescence
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
双离子束溅射法制备SiO_xN_y薄膜的结构与发光
李群
黎定国
邓玲娜
刘义保
诸葛兰剑
吴雪梅
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
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