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1.064μm脉冲激光作用下SiO2薄膜纹波损伤的模拟 被引量:4
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作者 袁晓东 李绪平 +8 位作者 郑万国 祖小涛 向霞 蒋晓东 尹烨 徐世珍 郭袁俊 田东斌 王毕艺 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期509-512,共4页
用1.064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层SiO2薄膜进行了辐照损伤实验。以扫描电镜对K9基底的断面进行分析,并采用表面热透镜装置对膜层中的缺陷进行了检测,最后采用Matlab偏微分工具箱对缺陷的散射光光场进行... 用1.064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层SiO2薄膜进行了辐照损伤实验。以扫描电镜对K9基底的断面进行分析,并采用表面热透镜装置对膜层中的缺陷进行了检测,最后采用Matlab偏微分工具箱对缺陷的散射光光场进行了有限元模拟。实验研究表明:膜层中存在缺陷,基底中也存在大量缺陷。模拟研究表明:缺陷的位置越深,形成的条纹间距也越宽;当缺陷的形状不规则时,在局部出现近似平行的纹波结构;当缺陷的数目增加时,这些缺陷的散射光的叠加就形成相互叠加的条纹。 展开更多
关键词 激光诱导损伤 sio2薄膜 电子束蒸发 纹波损伤
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SiO2薄膜涂覆层数对304不锈钢抗高温氧化性能的影响 被引量:2
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作者 马静 王瑞阳 温宁 《河北科技大学学报》 CAS 北大核心 2021年第1期75-81,共7页
为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法,在不锈钢表面制备了SiO2薄膜,通过氧化动力学,XRD,SEM和EDS分析,研究了涂覆层数对不锈钢900℃抗高温氧化性能的影响。结果表明,SiO2薄膜与不锈钢基体的附着... 为提高304不锈钢的抗高温氧化性能,以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法,在不锈钢表面制备了SiO2薄膜,通过氧化动力学,XRD,SEM和EDS分析,研究了涂覆层数对不锈钢900℃抗高温氧化性能的影响。结果表明,SiO2薄膜与不锈钢基体的附着性良好,促进了不锈钢表面发生选择性氧化,生成保护作用的Cr2O3和NiCr2O4氧化层,不锈钢的抗高温氧化性能显著提高,其中涂覆3层SiO2薄膜试样的抗高温氧化性能最佳,经900℃循环氧化100 h后氧化增重与氧化剥落仅为未涂覆试样的58.1%和41.4%。SiO2薄膜涂覆有效提高了不锈钢的抗高温氧化性能,是表面处理方法应用于高温环境的又一尝试,为溶胶-凝胶法制备其他薄膜提供了借鉴和参考。 展开更多
关键词 材料失效与保护 溶胶-凝胶法 sio2薄膜 涂覆层数 高温氧化 选择氧化
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磁场预退火对FeCo/SiO2薄膜结构和磁性的影响 被引量:1
3
作者 胡灵龙 冯明 +2 位作者 徐仕翀 李海波 刘梅 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期55-58,共4页
采用溶胶-凝胶旋涂工艺并结合氢气还原在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2薄膜。将薄膜样品在0、800 kA/m磁场中于400℃真空退火1 h后于900℃在氢气气氛中还原得到FeCo/SiO2薄膜。利用X射线衍射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行分... 采用溶胶-凝胶旋涂工艺并结合氢气还原在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2薄膜。将薄膜样品在0、800 kA/m磁场中于400℃真空退火1 h后于900℃在氢气气氛中还原得到FeCo/SiO2薄膜。利用X射线衍射仪和振动样品磁强计对样品的结构和磁性进行分析。结果表明:随着FeCo/SiO2薄膜中FeCo含量的增加,FeCo的晶粒尺寸增大,出现单畴-多畴转变,垂直膜面方向矫顽力先增大后减小,磁场预退火抑制FeCo晶粒生长,使单畴-多畴转变可在FeCo更高含量发生;平行膜面矫顽力变化相对复杂;饱和磁化强度值随着FeCo含量增加呈单调增加趋势,磁场退火对其影响较小。 展开更多
关键词 FeCo/sio2薄膜 溶胶-凝胶旋涂 磁场预退火 结构 磁性
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用传导原子力显微镜给SiO2薄膜和MOS器件的击穿点照相
4
《电子产品可靠性与环境试验》 2003年第6期68-68,共1页
关键词 原子力显微镜 sio2薄膜 MOS器件 击穿点 照相
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271用传导原子力显微镜对超薄SiO2薄膜的电传导进行纳米级观察
5
《电子产品可靠性与环境试验》 2002年第6期66-66,共1页
关键词 导电原子力显微镜 MOS结构 电传导 超薄sio2薄膜 纳米级观察
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宽谱增透双层TiO2-SiO2/SiO2薄膜的制备与性能 被引量:1
6
作者 马立云 汤永康 +3 位作者 鲍田 金良茂 甘治平 李刚 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第S02期161-164,共4页
采用溶胶-凝胶法制备了双层TiO2-SiO2/SiO2薄膜,调控了底层薄膜的折射率及双层薄膜不同的厚度匹配,研究了在不同厚度匹配下薄膜的光学性能。通过场发射扫描电子显微镜、椭偏仪、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的微观结构、厚度、... 采用溶胶-凝胶法制备了双层TiO2-SiO2/SiO2薄膜,调控了底层薄膜的折射率及双层薄膜不同的厚度匹配,研究了在不同厚度匹配下薄膜的光学性能。通过场发射扫描电子显微镜、椭偏仪、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的微观结构、厚度、折射率和光学透过率。研究表明:以TiO2与SiO2混合溶胶镀膜获得了折射率可调(1.5~2.0)的薄膜,在TiO2-SiO2层与SiO2层的厚度分别约为160 nm、90 nm时获得了光学性能较优的薄膜,薄膜在光学宽谱380~1100 nm范围内表现出明显的增透效果,可见光最高透过率可达97.5%,宽谱平均透过率为93.9%。 展开更多
关键词 宽谱增透 TiO2-sio2/sio2双层薄膜 折射率厚度调控
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Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2薄膜催化剂的结构对其光催化性能影响 被引量:42
7
作者 付宏刚 王建强 +4 位作者 任志宇 闫鹏飞 于海涛 辛柏福 袁福龙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期1671-1676,共6页
以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe^(3+)的TiO_2光催化剂(Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe^(3+)的最... 以硅胶为载体,采用溶胶-凝胶法制备了掺杂不同量Fe^(3+)的TiO_2光催化剂(Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2),以氙灯为光源,罗丹明B为目标降解物,对其光催化活性进行了研究。结果表明,Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2比TiO_2纳米粉有更好的催化活性,Fe^(3+)的最佳掺入量为0.03%。罗丹明B在粉体和膜催化剂的作用下遵循不同的光催化反应机理。根据XRD,SEM,Raman,XPS和FTIR的表征结果可认为,TiO_2在SIO_2表面薄膜化和Ti-O-Si键的形成是催化活性提高和降解机理不同的主要原因。 展开更多
关键词 Fe3+-TiO2/sio2薄膜 催化剂 结构 光催化性能 溶胶-凝胶法 制备 二氧化钛
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Ge/SiO_2和Ge/ZnO/SiO_2薄膜的磁控溅射制备及电学性能 被引量:1
8
作者 余乐 刘劲松 +7 位作者 李子全 陈建康 何明霞 彭洁 曹安 刘建宁 蒋维娜 万龙 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期103-105,共3页
采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团... 采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团簇结构,并且加入ZnO中间层可以有效的改善Ge层的质量。同时,对所得薄膜材料的电流-电压性能进行了研究,结果发现,Ge/SiO2薄膜的I-V曲线拟合后为斜线,相当于电阻;ZnO/SiO2薄膜为直线,可以认为是绝缘体;Ge/ZnO/SiO2薄膜在-10~10V之间电流电压呈线性关系,其电阻比Ge/SiO2薄膜小,当电压值超过15V之后,电流急剧增加而迅速使薄膜击穿,薄膜导通。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 Ge/sio2薄膜 Ge/ZnO/sio2薄膜 电流-电压性能
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热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 被引量:12
9
作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页
采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多
关键词 sio2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构
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SiO_2薄膜光学常数物理模型(英文) 被引量:7
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作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多
关键词 sio2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层
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不同氧氩比例对氧化硅(SiO_2)薄膜的结构及性能的影响 被引量:7
11
作者 何智兵 吴卫东 +2 位作者 唐永建 程丙勋 许华 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期169-171,178,共4页
在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Visible spectrum)等研究了氧氩比例的不同对SiO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形... 在不同氧氩比例气氛下,采用反应直流磁控溅射方法制备了SiO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见光谱(UV-Visible spectrum)等研究了氧氩比例的不同对SiO2薄膜的晶体结构、化学配比、表面形貌和光学性能的影响。结果显示:室温下,不同氧氩比例的SiO2薄膜都为非晶结构;随着氧分量的增加,Si2p与O1s向高结合能方向移动;在氧分量较大的气氛下,SiO2薄膜的化学失配度较小,薄膜均匀,致密,在400-1100nm有良好的光透过性。 展开更多
关键词 材料学 反应直流磁控溅射 sio2薄膜 性能
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热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响(英文) 被引量:5
12
作者 冷健 季一勤 +2 位作者 刘华松 庄克文 刘丹丹 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第6期186-191,共6页
光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750... 光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750℃退火条件下SiO_2薄膜的弹性模量(Er)增加到72 GPa,膜层硬度增加到10 GPa。镀完后未经退火处理的SiO_2薄膜表现为压应力,但是应力值在退火温度达到450℃以上时急剧降低,说明热处理有助于改善SiO_2薄膜内应力。经退火处理的SiO_2薄膜泊松比(vf)为0.18左右。退火前后SiO_2薄膜的杨氏模量(Ef)都要比石英块体材料大,并且750℃退火膜层杨氏模量增加了50 GPa以上。550℃退火的SiO_2薄膜热膨胀系数(αf)从6.78×10^(-7)℃^(-1)降到最小值5.22×10^(-7)℃^(-1)。 展开更多
关键词 双离子束溅射 sio2薄膜 退火 力学及热力学特性
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纳米多孔SiO_2薄膜疏水性的研究进展 被引量:5
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作者 高庆福 冯坚 +3 位作者 成慧梅 周仲承 王娟 张长瑞 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期39-42,共4页
超低介电常数纳米多孔 SiO_2薄膜在未来超大规模集成电路(ULSI)中有着广阔的应用前景,但其疏水性能的好坏是决定其能否在 ULSI 中应用的重要因素之一。介绍了国内外有关纳米多孔 SiO_2薄膜疏水性的原理、工艺以及表征方法。
关键词 纳米多孔 sio2薄膜 疏水处理 接触角 低介电常数 疏水性能 超大规模集成电路 超低介电常数 ULSI 表征方法
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氨基功能化有序介孔SiO_2薄膜组装Au纳米粒子复合材料的可调色散性质 被引量:4
14
作者 方靖岳 秦石乔 +3 位作者 张学骜 李新华 王飞 常胜利 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1460-1465,共6页
以聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷(P123)为模板剂,采用共溶胶的蒸发诱导自组装方法制备了氨基功能化介孔SiO2薄膜,然后利用氯金酸(HAuCl4)与介孔SiO2薄膜孔道内壁的氨基之间的中和反应组装Au纳米粒子,制备得到Au/SiO2纳米复合材料.用... 以聚环氧乙烷-聚环氧丙烷-聚环氧乙烷(P123)为模板剂,采用共溶胶的蒸发诱导自组装方法制备了氨基功能化介孔SiO2薄膜,然后利用氯金酸(HAuCl4)与介孔SiO2薄膜孔道内壁的氨基之间的中和反应组装Au纳米粒子,制备得到Au/SiO2纳米复合材料.用TEM,XRD和UV-Vis光谱对材料进行了测试.结果表明,无水乙醇萃取获得的氨基功能化介孔SiO2薄膜具有高度有序的介孔结构;利用中和反应及氢气氛围煅烧还原的方法将Au纳米粒子组装在介孔SiO2薄膜的孔道中,Au纳米颗粒分散均匀且晶化良好,表现出(111)晶面的择优取向生长;随着中和反应时间的延长,Au纳米颗粒的粒径呈增长趋势,Au/SiO2纳米复合材料的吸收光谱发生红移,表明存在Au量子点的量子尺寸效应,即说明通过改变浸渍时间可以调控Au/SiO2纳米复合材料的色散性质. 展开更多
关键词 有序介孔sio2薄膜 氨基功能化 AU纳米粒子 吸收光谱 色散性质
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氟化聚乙烯醇/SiO_2超疏水薄膜的制备及性能 被引量:6
15
作者 杜海燕 宋震 +3 位作者 郝晓刚 梁镇海 王永洪 申迎华 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期138-142,共5页
以亲水性高分子聚乙烯醇(PVA)为基体,二氧化硅(SiO_2)纳米颗粒为无机填料,旋涂在玻璃表面后的PVA/SiO_2再经十七氟癸基三甲氧基硅烷(C_(13)H_(13)F_(17)O_3Si,FAS)修饰,制备了具有超疏水性能的PVA/SiO_2-FAS薄膜。考察了PVA与SiO_2复合... 以亲水性高分子聚乙烯醇(PVA)为基体,二氧化硅(SiO_2)纳米颗粒为无机填料,旋涂在玻璃表面后的PVA/SiO_2再经十七氟癸基三甲氧基硅烷(C_(13)H_(13)F_(17)O_3Si,FAS)修饰,制备了具有超疏水性能的PVA/SiO_2-FAS薄膜。考察了PVA与SiO_2复合的比例及FAS修饰对膜疏水性的影响。用傅里叶变换红外光谱、X射线能谱和扫描电子显微镜分别对超疏水表面进行了结构分析和形貌表征,用接触角测量仪观察了水滴在膜表面的润湿性。结果显示,当PVA/SiO_2体积比为1∶5时,氟化PVA/SiO_2膜表面具有较好的超疏水功能,静态接触角可达151.24°,滚动角约为4°。这主要是膜表面含有低表面能氟原子及具有纳米粗糙结构共同作用的结果。 展开更多
关键词 氟化聚乙烯醇/sio2薄膜 超疏水表面 接触角
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热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析 被引量:3
16
作者 姜玉刚 王利栓 +4 位作者 刘华松 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第10期3334-3337,共4页
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为55... 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。 展开更多
关键词 sio2薄膜 光学特性 热处理 折射率 弱吸收
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还原温度对FeCo/SiO_2薄膜结构和磁性的影响 被引量:4
17
作者 刘梅 鲁铭 +2 位作者 王世苗 徐仕翀 李海波 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期23-26,共4页
采用溶胶-凝胶旋涂法并结合在氢气中的还原工艺,在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2复合薄膜,利用X线衍射和振动样品磁强计研究了还原温度对薄膜样品微观结构和磁性的影响。结果表明:当还原温度为700℃,薄膜中FeCo具有强的(110)择优取向,样... 采用溶胶-凝胶旋涂法并结合在氢气中的还原工艺,在Si(001)基片上制备FeCo/SiO2复合薄膜,利用X线衍射和振动样品磁强计研究了还原温度对薄膜样品微观结构和磁性的影响。结果表明:当还原温度为700℃,薄膜中FeCo具有强的(110)择优取向,样品矫顽力较大;随着还原温度的升高,FeCo出现(200)择优取向生长,样品矫顽力逐渐降低;当还原温度为1000℃,FeCo具有较强的(200)择优取向,晶面间距膨胀引致的相对形变最小,样品矫顽力较小;当还原温度为1200℃,样品中出现晶态SiO2,FeCo具有强的(110)择优取向,不利于复合薄膜软磁性能提高。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶旋涂 FeCo/sio2薄膜 结构 择优取向 磁性
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纳米多孔SiO_2功能薄膜制备方法的研究进展 被引量:4
18
作者 陈娟 蒋继富 +3 位作者 赵宗彦 张瑾 朱忠其 柳清菊 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第F05期58-60,共3页
纳米多孔SiO2薄膜的各种优异性能,使其在众多领域中占有极大的应用潜力。对一些新的制备纳米多孔SiO2薄膜的方法如自组装法、酸碱两步催化法、微波合成法进行了概括和总结,并分析了其原理、方法和特点。
关键词 纳米多孔sio2薄膜 溶胶-凝胶法 自组装法 酸碱两步催化法 微波合成法
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离子辅助沉积法制备SiO_2介质薄膜的应力研究 被引量:5
19
作者 张金胜 张金龙 宁永强 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1304-1308,共5页
在高功率垂直腔面发射激光器制作工艺中,生长出低应力、高质量、高稳定性的SiO2介质层非常关键。我们使用高效率LaB6离子源辅助,在低放电电流条件下,在GaAs衬底上沉积了SiO2,并对退火的应力影响进行了测试。在有离子辅助沉积时,对不同... 在高功率垂直腔面发射激光器制作工艺中,生长出低应力、高质量、高稳定性的SiO2介质层非常关键。我们使用高效率LaB6离子源辅助,在低放电电流条件下,在GaAs衬底上沉积了SiO2,并对退火的应力影响进行了测试。在有离子辅助沉积时,对不同生长速率、不同厚度的应力影响进行了研究,对沉积过程进行了分析。结果表明:离子辅助沉积的SiO2薄膜的应力远小于常规工艺条件下沉积的薄膜的应力,且退火后应力变化小。 展开更多
关键词 离子辅助沉积 sio2薄膜 应力 退火
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SiO_2光学薄膜的吸收边特性 被引量:3
20
作者 孔明东 李斌成 +2 位作者 郭春 柳存定 何文彦 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期11-17,共7页
二氧化硅(SiO_2)是光学系统中最常用光学薄膜材料之一,其微观结构、缺陷等信息对于研究和提高薄膜的性能具有重要作用。本文通过电子束蒸发、离子辅助、磁控溅射方法制备SiO_2薄膜并进行测试,计算出其吸收边光谱,对吸收边光谱的强吸收区... 二氧化硅(SiO_2)是光学系统中最常用光学薄膜材料之一,其微观结构、缺陷等信息对于研究和提高薄膜的性能具有重要作用。本文通过电子束蒸发、离子辅助、磁控溅射方法制备SiO_2薄膜并进行测试,计算出其吸收边光谱,对吸收边光谱的强吸收区、e指数区、弱吸收区进行分段分析得到SiO_2薄膜的带隙宽度、带尾能量和氧空位缺陷含量数据。进一步分析三种薄膜和其在常规退火温度下的带隙宽度、带尾能量和氧空位缺陷含量的数据,获得SiO_2薄膜的微观原子排列结构、微观缺陷信息,并对不同镀膜技术和不同退火温度下SiO_2薄膜的原子排列结构、微观缺陷的差异和变化进行了分析和讨论。 展开更多
关键词 sio2薄膜 带隙宽度 带尾能量 氧空位缺陷
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