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SAGCM-APD增益影响因子分析与优化
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作者 胡大鹏 郭方敏 +1 位作者 朱晟伟 熊大元 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第2期213-217,235,共6页
应用二维漂移扩散模型研究具有分立吸收层、渐变层、电荷层和倍增层结构(SAGCM)的InGaAsP蛳InP雪崩光电探测器(APD),仿真分析了不同电荷层、倍增层厚度和掺杂浓度对电场分布、电流响应及击穿电压的影响,特别是参数变量对增益计算模型的... 应用二维漂移扩散模型研究具有分立吸收层、渐变层、电荷层和倍增层结构(SAGCM)的InGaAsP蛳InP雪崩光电探测器(APD),仿真分析了不同电荷层、倍增层厚度和掺杂浓度对电场分布、电流响应及击穿电压的影响,特别是参数变量对增益计算模型的影响,载流子传输过程的时间依赖关系和倍增层中所处位置的影响。仿真结果表明:较高掺杂浓度和较薄电荷层结构可以改变器件内部的电场分布,进而提高增益值。当入射光波长为1.55μm,光功率为500 W/m2时,光电流响应量级在10-2 A;阈值电压降低到10 V以下,击穿电压为42.6 V时,器件倍增增益值大于100。 展开更多
关键词 sagcm-apd 雪崩光电探测器 倍增增益 电流响应 仿真分析
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光通信用InGaAs/InP雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 尹顺政 齐利芳 +3 位作者 赵永林 张豫黔 车向辉 张宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第10期759-763,共5页
针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通... 针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通电压、击穿电压、倍增因子等特性的影响,实验结果与模拟结果相吻合,表明此方法可以用于器件的结构设计优化及特性分析。在此方法指导下,制作出了SAGCM APD。测试结果表明器件穿通电压小于30V,击穿电压小于45V,在倍增因子为1时,器件响应度大于0.9A/W,在倍增因子为10时,器件暗电流小于10nA,在倍增因子为5-12时,-3dB带宽均大于3GHz,其性能满足2.5Gbit/s光纤通信应用要求。 展开更多
关键词 InP 吸收、渐变、电荷、倍增层分离结构的雪崩二极管(SAGCM APD) 雪崩 本地电场模型 光通信
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10 Gbit/s InGaAs/InP雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 尹顺政 郝文嘉 +4 位作者 张宇 于浩 李庆伟 赵润 车相辉 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第7期516-520,共5页
基于InGaAs/InP吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD)器件结构,利用数值计算方法,模拟了各层参数对器件频率响应特性的影响。模拟结果表明,吸收层、倍增层厚度及电荷层面电荷密度可影响器件的-3dB带宽;随增益... 基于InGaAs/InP吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD)器件结构,利用数值计算方法,模拟了各层参数对器件频率响应特性的影响。模拟结果表明,吸收层、倍增层厚度及电荷层面电荷密度可影响器件的-3dB带宽;随增益的增加,器件带宽会逐渐降低;电荷层面电荷密度对器件击穿电压有明显影响。结合此模拟结果,制作出了高速InGaAs/InP雪崩光电二极管,并对器件进行了封装测试。测试结果表明,该结果与模拟结果相吻合。器件击穿电压为30V;在倍增因子为1时,器件响应度大于0.8A/W;在倍增因子为9时,器件暗电流小于10nA,-3dB带宽大于10GHz,其性能满足10Gbit/s光纤通信应用要求。 展开更多
关键词 INGAAS/INP 吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离雪崩光电二极管(SAGCM APD) 雪崩 频率响应 光通信
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10Gb/s APD-TIA组件的最佳光接收灵敏度 被引量:4
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作者 丁国庆 徐建锋 《光通信技术》 CSCD 北大核心 2008年第11期40-43,共4页
介绍了10Gb/s APD-TIA组件结构和基本特性,分析了APD的最佳光电倍增和APD-TIA组件的最佳接收光灵敏度,报告和讨论了10Gb/s APD-TIA组件光接收灵敏度测量结果,指出了APD光电倍增与器件结构和偏置电压紧密相关,通过仔细调测,在0.85~0.95V... 介绍了10Gb/s APD-TIA组件结构和基本特性,分析了APD的最佳光电倍增和APD-TIA组件的最佳接收光灵敏度,报告和讨论了10Gb/s APD-TIA组件光接收灵敏度测量结果,指出了APD光电倍增与器件结构和偏置电压紧密相关,通过仔细调测,在0.85~0.95Vb下可测得最佳光接收灵敏度。 展开更多
关键词 sagcm-apd 最佳光电倍增 最佳光接收灵敏度
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基于Matlab的APD器件模拟
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作者 程涛 周金运 李文静 《现代电子技术》 2006年第13期146-148,共3页
为了迅速了解雪崩光电二极管(APD)的特性以确保量子保密通信系统的质量,在适当的假设前提下,依据经验公式并借助于Matlab的矩阵运算功能计算吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM APD)的电场分布,然后以此得出电子、空穴倍增系数... 为了迅速了解雪崩光电二极管(APD)的特性以确保量子保密通信系统的质量,在适当的假设前提下,依据经验公式并借助于Matlab的矩阵运算功能计算吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM APD)的电场分布,然后以此得出电子、空穴倍增系数,最后再利用这些系数及传递函数计算出SAGCM APD的增益-电压特性及频率响应特性,模拟的结果较好地与实验结果一致。 展开更多
关键词 MATLAB 吸收渐变电荷倍增分离型雪崩光电二极管(SAGCM—APD) 传递函数 量子保密通信
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In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP高速光电二极管材料生长及光电性能
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作者 吴超瑜 刘超 +4 位作者 冯彦斌 高文浩 高鹏 付贤松 宁振动 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2019年第2期123-126,共4页
利用低压MOCVD技术制备PIN结构的InP基InGaAs外延材料。采用分层吸收渐变电荷倍增(SAGCM)结构,通过两次Zn扩散、多层介质膜淀积、Au/Zn p型欧姆接触、Au/Ge/Ni n型欧姆接触等标准半导体平面工艺,设计制造正入射平面In_(0.53)Ga_(0.47)As... 利用低压MOCVD技术制备PIN结构的InP基InGaAs外延材料。采用分层吸收渐变电荷倍增(SAGCM)结构,通过两次Zn扩散、多层介质膜淀积、Au/Zn p型欧姆接触、Au/Ge/Ni n型欧姆接触等标准半导体平面工艺,设计制造正入射平面In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP雪崩光电二极管器件。该器件采用与InP衬底晶格匹配的In_(0.53)Ga_(0.47)As材料做吸收层,InP材料做倍增层,同时引入InGaAsP梯度层。探测器件光敏面直径50μm,器件测试结果表明该器件光响应特性正常,击穿电压约43 V,在低于击穿电压3 V左右可以得到大约10 A/W的光响应度,在0 V到小于击穿电压1 V的偏压范围内,暗电流只有1 nA左右。光电二极管在8 GHz以下有平坦的增益,适用于5 Gbit/s光通信系统。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积 通信 分层吸收渐变电荷倍增 雪崩光电二极管
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