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Asymmetric resistive switching processes in W:AlO_x/WO_y bilayer devices
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作者 吴华强 吴明昊 +4 位作者 李辛毅 白越 邓宁 余志平 钱鹤 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第5期135-139,共5页
Asymmetric resistive switching processes were observed in W:AlOx/WOy bilayer RRAM devices. During pulse programming measurements, the RESET speed is in the range of hundreds of microseconds under - 1.1 V bias, while ... Asymmetric resistive switching processes were observed in W:AlOx/WOy bilayer RRAM devices. During pulse programming measurements, the RESET speed is in the range of hundreds of microseconds under - 1.1 V bias, while the SET speed is in the range of tens of nanoseconds under 1.2 V bias. Electrical measurements with different pulse conditions and different temperatures were carded out to understand these significant differences in switching time. A redox reaction model in the W:AlOx/WOy device structure is proposed to explain this switching time difference. 展开更多
关键词 rram tungsten oxide asymmetric resistive switching
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Pt/Yb2O3/Pt的阻变性质
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作者 张智方 赵霜 +1 位作者 方泽波 朱燕艳 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第4期234-238,共5页
采用电子束蒸发的方法制备了Yb薄膜,对这些样品在不同条件下进行退火,得到Yb2O3薄膜。用热蒸发法在衬底和薄膜表面分别制备了Pt电极,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,发现随着退火时间延长和退火温度升高,薄膜的表面粗糙度... 采用电子束蒸发的方法制备了Yb薄膜,对这些样品在不同条件下进行退火,得到Yb2O3薄膜。用热蒸发法在衬底和薄膜表面分别制备了Pt电极,用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,发现随着退火时间延长和退火温度升高,薄膜的表面粗糙度增加。采用电流-电压法研究了Pt/Yb2O3/Pt结构的阻变性质。研究发现,阻变性质与制备薄膜的衬底温度和后期退火温度有直接关系。用不同的电流原理仔细分析电流性质之后发现,制备的薄膜内部有一定的缺陷,出现阻变现象,这些薄膜的缺陷态决定了阻变性质。如果选择合适的条件,Yb2O3可以作为阻变存储器薄膜。 展开更多
关键词 Yb2O3薄膜 阻变存储器(rram) 阻变性质 稀土氧化物 电流-电压法
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