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用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械
1
作者
周明宝
崔铮
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1998年第5期74-78,共5页
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。...
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。此外，用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后，结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。
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关键词
光致抗蚀剂
牺牲层
可动微机械
微机械
工艺
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职称材料
题名
用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械
1
作者
周明宝
崔铮
机构
中国科学院光电技术研究所
英国卢瑟福国家实验室微结构中心
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1998年第5期74-78,共5页
文摘
报道了用光致抗蚀剂作牺牲层材料制作可动微机械结构的一种新技术。用这种技术制作可动微机械，动件和固定件同时制作。同现有的牺牲层材料相比，光致抗蚀剂作牺牲层材料具有一些优越性。首先，光致抗蚀剂能直接涂敷，能直接光刻成形。此外，用光致抗蚀剂作牺牲层材料不影响结构的厚度和材料的选择。工艺优化后，结构洁净度、固定件与基片的结合强度及牺牲层去除速度都得到了改善。
关键词
光致抗蚀剂
牺牲层
可动微机械
微机械
工艺
Keywords
photoresist
,
sacrificial layers
,
movable micromechnical structures
分类号
TH－39 [机械工程]
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作者
出处
发文年
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1
用光致抗蚀剂作牺性层材料制作可动微机械
周明宝
崔铮
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1998
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