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锗硅BiCMOS中的低成本、高性能PNP器件设计与制备
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作者 钱文生 刘冬华 石晶 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期341-345,共5页
设计了一种新颖的伪垂直结构PNP晶体管。在锗硅BiCMOS工艺基础上,仅增加基区和集电区两道离子注入,以低成本工艺实现了优良的性能。晶体管电流增益在30以上,击穿电压大于7V,特征频率10GHz,满足高速电路设计的要求。
关键词 pnp三极管 锗硅双极-互补金属氧化物半导体 电流增益 特征频率
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纪念中国第一只晶体管诞生50周年 被引量:1
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作者 吴锡九 邓先灿 《微纳电子技术》 CAS 2006年第11期503-504,共2页
50年前,中国自行研制的第一个晶体管在应用物理研究所半导体器件实验室诞生了。本文介绍了参加第一次研制的工作人员以及他们克服各种困难,研制出锗pnp合金三极管的过程。
关键词 pnp合金三极管 中国第一个晶体管
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