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等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
被引量：
5
1
作者
马胜利
徐可为
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期39-43,50,共6页
PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了 PCVD硬质膜的成膜理论、特点 ,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化 ,给出了现阶段 PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势。
关键词
等离子体化学气相沉积
硬质膜
成膜理论
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职称材料
题名
等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
被引量：
5
1
作者
马胜利
徐可为
机构
西安交通大学
出处
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第2期39-43,50,共6页
基金
国家 8 6 3计划资助项目
文摘
PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了 PCVD硬质膜的成膜理论、特点 ,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化 ,给出了现阶段 PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势。
关键词
等离子体化学气相沉积
硬质膜
成膜理论
Keywords
pcvd
,
thin hard coating
,
deposition theory
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜成膜理论
马胜利
徐可为
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000
5
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