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LDMOS漂移区结构优化的模拟 被引量:1
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作者 徐亮 刘先锋 郑国祥 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第1期6-10,共5页
RESURF LDM O S很难兼顾击穿电压和导通电阻对结构的要求。文中采用了D oub le RESURF(双重降低表面电场)新结构,使漂移区更易耗尽。从理论和模拟上验证了D oub le RESURF在漂移区浓度不变时对击穿电压的提高作用以及在保持击穿电压不... RESURF LDM O S很难兼顾击穿电压和导通电阻对结构的要求。文中采用了D oub le RESURF(双重降低表面电场)新结构,使漂移区更易耗尽。从理论和模拟上验证了D oub le RESURF在漂移区浓度不变时对击穿电压的提高作用以及在保持击穿电压不变的情况下减小导通电阻的效果。同时,在LDM O S结构中加入D oub leRESURF结构也降低了工艺上对精度的要求。为新结构和新工艺的开发研制作前期设计和评估。 展开更多
关键词 横向双扩散金属氧化物晶体管 双重降低表面电场 p型表面注入层 导通电阻 击穿电压
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