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关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题
被引量:
4
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作者
尤大伟
任荆学
+1 位作者
黄小刚
武建军
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期279-282,共4页
本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。
关键词
光学镀膜
离子束辅助镀膜
等离子体加速器
霍尔离子源
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职称材料
端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究
被引量:
14
2
作者
潘永强
朱昌
+1 位作者
陈智利
杭凌侠
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003年第1期57-60,共4页
研制了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔等离子体离子源 ,论述了该源的工作原理以及伏安特性。着重研究了用五栅网探针测试该源所发射的离子能量的原理和方法 ,并对测量结果进行了分析、比较。
关键词
离子束辅助沉积
光学薄膜
端部霍尔等离子体
离子源
工作原理
束流密度
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职称材料
题名
关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题
被引量:
4
1
作者
尤大伟
任荆学
黄小刚
武建军
机构
中科院空间科学与应用研究中心
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期279-282,共4页
文摘
本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。
关键词
光学镀膜
离子束辅助镀膜
等离子体加速器
霍尔离子源
Keywords
optical cating
,
ion beam assisted deposition
,
plasma accelerator
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究
被引量:
14
2
作者
潘永强
朱昌
陈智利
杭凌侠
机构
西安工业学院光电科学与工程系
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003年第1期57-60,共4页
文摘
研制了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔等离子体离子源 ,论述了该源的工作原理以及伏安特性。着重研究了用五栅网探针测试该源所发射的离子能量的原理和方法 ,并对测量结果进行了分析、比较。
关键词
离子束辅助沉积
光学薄膜
端部霍尔等离子体
离子源
工作原理
束流密度
Keywords
End Hall
ion
source,
plasma
,
ion
beam
assisted
deposition
(IBAD),
optical
thin film
分类号
TB43 [一般工业技术]
O53 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题
尤大伟
任荆学
黄小刚
武建军
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
4
在线阅读
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职称材料
2
端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究
潘永强
朱昌
陈智利
杭凌侠
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2003
14
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职称材料
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