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ODC在软件过程度量与分析中的应用
被引量：
1
1
作者
孙蔚
刘美红
周光
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2003年第23期98-101,共4页
正交缺陷分类(ODC)是软件过程度量与分析中的一种新技术。文章介绍了ODC的概念、发展过程、总体结构以及各种ODC缺陷属性的含义,阐述了如何使用ODC来度量开发过程和识别过程中的问题。最后,文章对ODC的应用和实施进行了总结与分析。
关键词
odc
缺陷数据分析
过程度量
软件过程改进
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题名
ODC在软件过程度量与分析中的应用
被引量：
1
1
作者
孙蔚
刘美红
周光
机构
北京航空航天大学计算机科学与工程系
出处
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2003年第23期98-101,共4页
文摘
正交缺陷分类(ODC)是软件过程度量与分析中的一种新技术。文章介绍了ODC的概念、发展过程、总体结构以及各种ODC缺陷属性的含义,阐述了如何使用ODC来度量开发过程和识别过程中的问题。最后,文章对ODC的应用和实施进行了总结与分析。
关键词
odc
缺陷数据分析
过程度量
软件过程改进
Keywords
odc
,
defect data analysis
,
process measurements
,
software process improvement
分类号
TP311 [自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ODC在软件过程度量与分析中的应用
孙蔚
刘美红
周光
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2003
1
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