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Ni_xCu_(1-x)复合团簇镶嵌薄膜的微结构和磁特性
被引量：
1
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作者
宋学萍
金震
孙兆奇
《安徽大学学报（自然科学版）》
CAS
2004年第2期34-39,共6页
用直流磁控溅射的方法在室温Si基片上制备体积百分比分别为5%,10%,20%,40%的系列Ni Cu磁性复合团簇镶嵌薄膜样品,并利用X射线衍射技术、振动样品磁强计等方法对团簇的微结构和磁性能进行了测试研究。微结构分析表明:薄膜呈多晶状态,晶...
用直流磁控溅射的方法在室温Si基片上制备体积百分比分别为5%,10%,20%,40%的系列Ni Cu磁性复合团簇镶嵌薄膜样品,并利用X射线衍射技术、振动样品磁强计等方法对团簇的微结构和磁性能进行了测试研究。微结构分析表明:薄膜呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方,随着Ni组份的增加,复合团簇膜的晶粒尺寸与平均晶格常数均减小。磁性分析表明:所有样品均表现出铁磁性,随着Ni百分比含量的增加,矫顽力Hc减小,饱和磁化强度MS增加,磁性逐渐增强,且尺寸效应明显。
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关键词
ni-cu镶嵌团簇膜
微结构
磁性
直流磁控溅射
铁磁材料
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职称材料
题名
Ni_xCu_(1-x)复合团簇镶嵌薄膜的微结构和磁特性
被引量：
1
1
作者
宋学萍
金震
孙兆奇
机构
安徽大学物理系
出处
《安徽大学学报（自然科学版）》
CAS
2004年第2期34-39,共6页
文摘
用直流磁控溅射的方法在室温Si基片上制备体积百分比分别为5%,10%,20%,40%的系列Ni Cu磁性复合团簇镶嵌薄膜样品,并利用X射线衍射技术、振动样品磁强计等方法对团簇的微结构和磁性能进行了测试研究。微结构分析表明:薄膜呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方,随着Ni组份的增加,复合团簇膜的晶粒尺寸与平均晶格常数均减小。磁性分析表明:所有样品均表现出铁磁性,随着Ni百分比含量的增加,矫顽力Hc减小,饱和磁化强度MS增加,磁性逐渐增强,且尺寸效应明显。
关键词
ni-cu镶嵌团簇膜
微结构
磁性
直流磁控溅射
铁磁材料
Keywords
ni-cu
composite films
microstructure
magnetic properties
分类号
TM271 [一般工业技术—材料科学与工程]
O484.43 [理学—固体物理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ni_xCu_(1-x)复合团簇镶嵌薄膜的微结构和磁特性
宋学萍
金震
孙兆奇
《安徽大学学报（自然科学版）》
CAS
2004
1
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