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反应溅射(Al,Ti)(O,N)涂层的微结构与力学性能
被引量：
5
1
作者
刘艳
董云杉
+2 位作者
许辉
祝新发
李戈扬
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期1307-1309,共3页
采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列（Al，Ti）（O，N）涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明，随氧分压的提高，涂层中氧含量逐步增加，氮含量相应...
采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列（Al，Ti）（O，N）涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明，随氧分压的提高，涂层中氧含量逐步增加，氮含量相应减少，（Al＋Ti）：（O＋N）的化学计量比仍约为1：1，涂层保持与（Al，Ti）N涂层相同的NaCl结构。低氧含量时薄膜在（111）方向上择优生长，随着氧含量的提高，涂层生长的择优取向发生改变，高氧含量薄膜样品呈现强烈（200）织构的柱状晶。与此同时，（Al，Ti）（O，N）涂层的硬度和弹性模量也仍保持在与（Al，Ti）N涂层相当的35GPa和370～420GPa的高值。由于涂层中形成了相当含量的氧化物，这类涂层的抗氧化能力有望得到提高。
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关键词
反应溅射
(Al
Ti)(O
n
)
复合
涂层
微结构
力学性能
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职称材料
反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能
被引量：
2
2
作者
吴莹
吴昕蔚
+1 位作者
李广泽
李戈扬
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2007年第6期39-41,共3页
采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮...
采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaC l结构。少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa。进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变。
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关键词
反应磁控溅射
Ti(O
n
)
复合
涂层
微结构
力学性能
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职称材料
题名
反应溅射(Al,Ti)(O,N)涂层的微结构与力学性能
被引量：
5
1
作者
刘艳
董云杉
许辉
祝新发
李戈扬
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
上海工具厂有限公司
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第8期1307-1309,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(50571062)
文摘
采用Al—Ti镶嵌复合靶在Ar、N2和O2混合气体中反应溅射制备了一系列（Al，Ti）（O，N）涂层。并采用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了薄膜的化学成分、微结构和力学性能。结果表明，随氧分压的提高，涂层中氧含量逐步增加，氮含量相应减少，（Al＋Ti）：（O＋N）的化学计量比仍约为1：1，涂层保持与（Al，Ti）N涂层相同的NaCl结构。低氧含量时薄膜在（111）方向上择优生长，随着氧含量的提高，涂层生长的择优取向发生改变，高氧含量薄膜样品呈现强烈（200）织构的柱状晶。与此同时，（Al，Ti）（O，N）涂层的硬度和弹性模量也仍保持在与（Al，Ti）N涂层相当的35GPa和370～420GPa的高值。由于涂层中形成了相当含量的氧化物，这类涂层的抗氧化能力有望得到提高。
关键词
反应溅射
(Al
Ti)(O
n
)
复合
涂层
微结构
力学性能
Keywords
reactive sputteri
n
g
（Al, Ti） （O,
n
） coati
n
g
microstructure
mecha
n
ical properties
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能
被引量：
2
2
作者
吴莹
吴昕蔚
李广泽
李戈扬
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2007年第6期39-41,共3页
基金
国家自然科学基金项目资助(50571062)
文摘
采用反应磁控溅射方法在Ar、N2和O2混合气氛中制备了一系列Ti(O,N)涂层,并采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针研究了氧分压对涂层的化学成分、微结构和力学性能的影响。结果表明:随混合气氛中氧分压的提高,涂层中的氧含量逐步增加,氮含量相应减少,但涂层始终保持与TiN相同的NaC l结构。少量氧的加入,可以改善涂层的结晶状态,涂层的硬度也相应升高,明显高于未含氧的TiN涂层的硬度。氧含量为8.0%(原子数分数)时,涂层硬度达到最大值26.2 GPa。进一步增加氧含量,涂层的硬度基本保持不变。
关键词
反应磁控溅射
Ti(O
n
)
复合
涂层
微结构
力学性能
Keywords
Reactive mag
n
etro
n
sputteri
n
g
Ti （ O,
n
） coati
n
g
Microstructure
Mecha
n
ical properties
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG174.45 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
反应溅射(Al,Ti)(O,N)涂层的微结构与力学性能
刘艳
董云杉
许辉
祝新发
李戈扬
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
5
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职称材料
2
反应溅射Ti(O,N)涂层的微结构与力学性能
吴莹
吴昕蔚
李广泽
李戈扬
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2007
2
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