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皮秒脉冲激光对4H-SiC材料内部烧蚀改性的分子动力学模拟研究
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作者 华军 谢云龙 +2 位作者 黄磊 王宇烜 姚建武 《激光技术》 北大核心 2025年第4期597-603,共7页
为了分析超快脉冲激光与4H-SiC在原子尺度的相互作用,采用双温模型的分子动力学方法,模拟研究了皮秒激光烧蚀4H-SiC内部的表现过程,并对不同激光能量强度辐照下4H-SiC内部的熔化温度、温度场、原子轨迹、烧蚀区域进行了分析。结果表明,... 为了分析超快脉冲激光与4H-SiC在原子尺度的相互作用,采用双温模型的分子动力学方法,模拟研究了皮秒激光烧蚀4H-SiC内部的表现过程,并对不同激光能量强度辐照下4H-SiC内部的熔化温度、温度场、原子轨迹、烧蚀区域进行了分析。结果表明,皮秒激光与4H-SiC相互作用的过程主要是热烧蚀,烧蚀过程在激光脉冲结束后才会剧烈进行,且激光能量强度越大烧蚀过程越剧烈,烧蚀区域也越不规则;4H-SiC晶格熔化温度与体系压强有关,当系统体系压强为6.1 GPa时,晶格熔化温度为3230 K,高于其常压下晶格熔化温度2827 K约400 K,且当体系压强越大时,晶格熔化所需温度越高。这一结果为皮秒激光用于隐形切割4H-SiC提供了理论参考。 展开更多
关键词 激光技术 隐形切割 分子动力学 双温模型 4H-sic
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分子动力学模拟样品温度对F刻蚀SiC的影响 被引量:7
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作者 宁建平 秦尤敏 +2 位作者 吕晓丹 A.Bogaerts 苟富君 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期111-115,共5页
利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响。由模拟结果可知,随着温度的升高,F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生成挥发物质的F的量逐渐增加。Si的刻蚀量... 利用分子动力学模拟方法研究了在低能F原子刻蚀SiC表面过程中样品温度对刻蚀的影响。由模拟结果可知,随着温度的升高,F在样品表面的沉积量和散射量均呈下降趋势,而发生溅射的F的量和与样品作用生成挥发物质的F的量逐渐增加。Si的刻蚀量均随着温度的升高而升高。样品中Si原子的刻蚀主要是通过生成SiF4得以实现的,C原子的刻蚀主要是通过生成CFx(x=1~3)等挥发性物质实现的。 展开更多
关键词 分子动力学 刻蚀 样品温度 sic
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3C-SiC辐照诱发缺陷演化及温度效应分子动力学模拟 被引量:6
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作者 马小强 袁大庆 +5 位作者 夏海鸿 范平 张乔丽 左(走翼) 艾尔肯.阿不列木 朱升云 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期219-226,共8页
运用分子动力学方法,采用LAMMPS程序模拟了3C-SiC中的级联碰撞过程。研究了不同初始运动方向、不同能量下的PKA级联碰撞产生点缺陷的演化,结果表明,级联碰撞产生的空位数与PKA初始运动方向无关而与PKA能量之间呈线性关系。通过对级联碰... 运用分子动力学方法,采用LAMMPS程序模拟了3C-SiC中的级联碰撞过程。研究了不同初始运动方向、不同能量下的PKA级联碰撞产生点缺陷的演化,结果表明,级联碰撞产生的空位数与PKA初始运动方向无关而与PKA能量之间呈线性关系。通过对级联碰撞过程中热峰、损伤区域瞬态温度分布分析可看出,级联碰撞过程中会产生高温区域,且此区域大小随时间的变化与PKA能量无关。 展开更多
关键词 3C-sic 分子动力学 级联碰撞 缺陷 温度效应
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分子动力学模拟不同入射角度的SiF_3^+对SiC表面的作用
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作者 贺平逆 吕晓丹 +1 位作者 赵成利 苟富均 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期144-149,共6页
采用分子动力学模拟方法研究了300K入射能量150eV时,以不同角度(5°、30°、60°和75°)入射的SiF3+与SiC表面的相互作用过程。模拟中使用了用于Si-F-C体系的Tersoff-Brenner势能函数。模拟结果显示,入射SiF3+与SiC表... 采用分子动力学模拟方法研究了300K入射能量150eV时,以不同角度(5°、30°、60°和75°)入射的SiF3+与SiC表面的相互作用过程。模拟中使用了用于Si-F-C体系的Tersoff-Brenner势能函数。模拟结果显示,入射SiF3+与SiC表面相互作用后会分解,分解率随着入射角度的增加而减小。分解产物除少量散射外,大部分会沉积在SiC表面,Si和F在SiC表面的平均饱和沉积量随入射角度的增加而减少。随着SiF3+不断轰击SiC表面,SiC表面会形成Si-F-C反应层,且反应层厚度随着入射角度的增加而减少。同时发现SiC中的Si原子较C原子更容易被刻蚀,与实验结果一致。当刻蚀达到稳定,入射角度为5°、30°、60°和75°时,C的刻蚀率分别约为0.026、0.038、0.018、0.005,Si的刻蚀率分别约为0.043、0.051、0.043和0.023。各入射角度下,产物分子种类主要为F、SiF和SiF2。F和SiF产物量随入射角度增加而增加,而SiF2产量随入射角度增加而减少。在入射角度等于5°和30°时,SixFyCz是主要的含C产物;而在入射角度等于60°和75°时,CF是主要的含C产物。在入射角度等于5°和30°时,SiF2是主要的含Si产物;在入射角度等于60°和75°时,SiF是主要的含Si产物。刻蚀主要通过化学增强的物理溅射进行。 展开更多
关键词 分子动力学 SiF3+刻蚀sic 分子动力学模拟 sic
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Ar+与氟化的Si样品相互作用机制的研究:分子动力学模拟 被引量:4
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作者 秦尤敏 吕晓丹 +2 位作者 宁建平 A.Bogaerts 苟富君 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期229-235,共7页
采用分子动力学方法模拟了Ar+与表面含有C,F反应层的Si样品的相互作用过程,以了解Ar+与氟化的Si的作用机制。为了和相对应的实验结果做比较,选择了两种样品,表面富F样品和表面富C样品。模拟结果表明,对于表面富F样品,能清楚地看到Si的... 采用分子动力学方法模拟了Ar+与表面含有C,F反应层的Si样品的相互作用过程,以了解Ar+与氟化的Si的作用机制。为了和相对应的实验结果做比较,选择了两种样品,表面富F样品和表面富C样品。模拟结果表明,对于表面富F样品,能清楚地看到Si的刻蚀且随着入射能量的增加Si的刻蚀增加。当入射Ar+数量到达一定程度后Si的刻蚀完全停止。对于富C样品,几乎没有发生Si的刻蚀,这是由于Si-C键对Si的刻蚀起阻碍作用。 展开更多
关键词 分子动力学 作用机制 刻蚀 表面富F样品表 面富C样品
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