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Fabrication of integrated resistors in printed circuit boards 被引量:1
1
作者 王守国 陈清远 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2011年第3期739-743,共5页
In order to utilize integrated passive technology in printed circuit boards (PCBs), manufacturing processing for integrated resistors by lamination method was investigated. Integrated resistors fabricated from Ohmeg... In order to utilize integrated passive technology in printed circuit boards (PCBs), manufacturing processing for integrated resistors by lamination method was investigated. Integrated resistors fabricated from Ohmega technologies in the experiment were 1 408 pieces per panel with four different patterns A, B, C and D and four resistance values of 25, 50, 75 and 100 fL Six panel per batch and four batches were performed totally. The testing was done for 960 pieces of integrated resistors randomly selected with the same size. The value distribution ranges and the relative standard deviation (RSD) show that the scatter degree of the resistance decreases with the resistor size increasing and/or with the resistance increasing. Patterns D with resistance of 75 and 100% for four patterns have the resistance value variances less than 10%. Patterns C and D with resistance of 100 Ω have the manufacturing tolerance less than 10%. The process capabilities are from about 0.6 to 1.6 for the designed testing patterns, which shows that the integrated resistors fabricated have the potential to be used in multilayer PCBs in the future. 展开更多
关键词 integrated resistors lamination method printed circuit boards integrated passive technology
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Development of 0.50μm CMOS Integrated Circuits Technology
2
作者 Yu Shan, Zhang Dingkang and Huang Chang 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期7-10,2,共5页
Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation ... Submicron CMOS IC technology, including triple layer resist lithography technology, RIE, LDD, Titanium Salicide, shallow junction, thin gate oxide, no bird's beak isolation and channel's multiple implantation doping technology have been developed. 0.50μm. CMOS integrated circuits have been fabricated using this submicron CMOS process. 展开更多
关键词 In m CMOS integrated circuits Technology Development of 0.50 CMOS
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Development of Physical Library for Short Channel CMOS / SOI Integrated Circuits
3
作者 Zhang Xing, Lu Quan, Shi Yongguan, Yang Yinghua, Huang Chang 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期16-18,2-6,共5页
An 'Integrated Device and Circuit simulator' for thin film (0.05-0.2μm) submicron (0.5μm) and deep submicron (0.15, 0.25,0.35μm) CMOS/ SOI integrated circuit has been developed. This simulator has been used... An 'Integrated Device and Circuit simulator' for thin film (0.05-0.2μm) submicron (0.5μm) and deep submicron (0.15, 0.25,0.35μm) CMOS/ SOI integrated circuit has been developed. This simulator has been used for design and fabrication and physical library development of thin film submicron and deep submicron CMOS/ SOI integrated circuit. 展开更多
关键词 Development of Physical Library for Short Channel CMOS In SOI integrated circuits
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Device Physics Research for Submicron and Deep Submicron Space Microelectronics Devices and Integrated Circuits
4
作者 Huang Chang, Yang Yinghua, Yu Shan, Zhang Xing, Xu Jun, Lu Quan, Chen Da 《Journal of Systems Engineering and Electronics》 SCIE EI CSCD 1992年第4期3-4,6-2,共4页
Device physics research for submicron and deep submicron space microelectronics devices and integrated circuits will be described in three topics.1.Thin film submicron and deep submicron SOS / CMOS devices and integra... Device physics research for submicron and deep submicron space microelectronics devices and integrated circuits will be described in three topics.1.Thin film submicron and deep submicron SOS / CMOS devices and integrated circuits.2.Deep submicron LDD CMOS devices and integrated circuits.3.C band and Ku band microwave GaAs MESFET and III-V compound hetrojunction HEM T and HBT devices and integrated circuits. 展开更多
关键词 GaAs MESFET CMOS Device Physics Research for Submicron and Deep Submicron Space Microelectronics Devices and integrated circuits MOSFET length
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Microwave Integrated Circuit Design Handbook
5
作者 顾墨琳 《微波学报》 1987年第3期43-43,共1页
作者:Reinmut K.Hoffmann(1984 IEEE微波奖获得者) 出版:Artech House公司(美国)1987年本书给出适于微波工程师和研究人员应用的有关MIC方面的基础技术、电性能和设计。侧重于电性能分析和设计,强调应用。对于每一种设计技术和应用均作... 作者:Reinmut K.Hoffmann(1984 IEEE微波奖获得者) 出版:Artech House公司(美国)1987年本书给出适于微波工程师和研究人员应用的有关MIC方面的基础技术、电性能和设计。侧重于电性能分析和设计,强调应用。对于每一种设计技术和应用均作出较清楚的叙述和完整的处理。本书尽量给出电路的物理描述,避免过于冗长的数学公式,内容包含对下列议题的详细评述与研讨: 展开更多
关键词 微带传输线 微带线 Microwave integrated circuit Design Handbook
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基于SEM—模糊综合评价的集成电路产业链韧性评价研究 被引量:2
6
作者 吴松强 戴颖茏 潘杰 《中国软科学》 北大核心 2025年第5期166-178,共13页
集成电路产业作为国民经济的重要支柱,兼具高技术、高投入与高风险特征。针对当前产业链韧性不足导致的“断链”风险,从抵抗吸收能力、调整适应能力和恢复更新能力3个维度构建包含9个二级指标及29个三级指标的集成电路产业链韧性评价体... 集成电路产业作为国民经济的重要支柱,兼具高技术、高投入与高风险特征。针对当前产业链韧性不足导致的“断链”风险,从抵抗吸收能力、调整适应能力和恢复更新能力3个维度构建包含9个二级指标及29个三级指标的集成电路产业链韧性评价体系。通过结构方程模型(SEM)量化指标权重,揭示各维度间的内在关联,并结合模糊综合评价法,以南京江北新区为实证案例,评估其产业链韧性水平。研究表明:江北新区集成电路产业链总体韧性表现良好,其中恢复更新能力显著优于抵抗吸收能力与调整适应能力,与区域创新驱动发展现状相符。这个模型突破了传统方法对数据变异和主观判断的依赖,通过SEM-模糊综合评价的融合方法,实现了指标权重的客观赋权与韧性等级的科学划分,为产业链韧性动态监测与精准提升提供了理论工具和实践范式。 展开更多
关键词 集成电路产业链 产业链韧性 结构方程模型 模糊评价
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“十五五”时期中国集成电路产业创新发展:外部形势、发展趋势与政策选择 被引量:1
7
作者 李先军 《改革》 北大核心 2025年第3期38-52,共15页
集成电路产业是“十五五”时期全球竞争的核心产业之一。“十五五”时期是人工智能技术发展和“再全球化”的关键时期,全球集成电路产业依然将保持较高的增长速度。预期“十五五”时期中国集成电路产业继续保持高速增长态势,尤其是人工... 集成电路产业是“十五五”时期全球竞争的核心产业之一。“十五五”时期是人工智能技术发展和“再全球化”的关键时期,全球集成电路产业依然将保持较高的增长速度。预期“十五五”时期中国集成电路产业继续保持高速增长态势,尤其是人工智能芯片需求快速增长;3~5纳米尖端制程有望突破,22纳米以下制程实现国产化“贯通”,装备、材料、软件和EDA工具等自主可控水平显著提升;“卡脖子”问题解决与“国产替代”进程进一步加速;国际合作持续加强,与南方国家尤其是共建“一带一路”国家和地区的合作不断深化。“十五五”时期,建议着眼未来竞争战略性调整产业发展目标,将解决“卡脖子”的“应对式”发展策略转向推动产业创新发展的“主动式”发展战略,重点推动人工智能和大算力“两类先进芯片”的聚力突破,促进传统技术路线有序推进和新技术路线涌现“两类技术路线”并行发展。探索“技术突破+工艺创新+智能赋能”的融合发展路径,构建“高质量供给+超大规模需求”共同推动的产业链协同融合发展体系,强化技术体系和产业体系的“再全球化”,在市场、技术、研发和标准等方面全面嵌入并引领全球产业生态建设。 展开更多
关键词 集成电路产业 人工智能 产业链协同
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集成电路行业人才需求与职业院校专业设置匹配分析
8
作者 居水荣 陆渊章 黄玮 《中国职业技术教育》 北大核心 2025年第11期5-13,24,共10页
集成电路产业是支撑国家经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。通过对我国集成电路行业技术技能人才需求与职业院校人才培养的匹配分析,建议科学合理构建集成电路类职业教育专业体系,引导职业院校合理设置专业,优... 集成电路产业是支撑国家经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。通过对我国集成电路行业技术技能人才需求与职业院校人才培养的匹配分析,建议科学合理构建集成电路类职业教育专业体系,引导职业院校合理设置专业,优化集成电路技术技能人才培养路径,加大行业支持力度,助力高质量人才培养,注重专业技能和职业素养高度融合,为集成电路行业技术技能人才培养提供依据和指导。 展开更多
关键词 集成电路 职业院校 人才培养 行业需求 专业设置 匹配分析
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微型高集成可压缩电缆组件设计制造及互联阵列实施
9
作者 周三三 朱建军 +1 位作者 曹志伟 苏扬 《现代雷达》 北大核心 2025年第3期58-61,共4页
机载雷达综合层的层间空间狭小,层内器件布局密集,实现有限空间各模块、元器件间的互联互通结构复杂,装配工艺难度高。常规的导线对接方式如分线环转接、焊锡环对接、U型搭接等的对接区域约30 mm,无法满足高集成空间内电信号的多点互联... 机载雷达综合层的层间空间狭小,层内器件布局密集,实现有限空间各模块、元器件间的互联互通结构复杂,装配工艺难度高。常规的导线对接方式如分线环转接、焊锡环对接、U型搭接等的对接区域约30 mm,无法满足高集成空间内电信号的多点互联。文中提出一种基于嵌入微型电路板的微型高集成可压缩、互联阵列的电缆组件的转接方式,创新性地将微型电路板引入电缆组件中,由微型电路板作为转接媒介实现电缆组件的多孔位转接,同时将电缆组件的导线束预成型使电连接器头部可浮动伸缩,实现了可压缩功能,通过多个电缆组件组合可实现互联阵列,解决了低矮空间内的高可靠性电信号转接与机载雷达综合层间的高密度、高集成的电缆互联的难题。 展开更多
关键词 微型电缆组件 高集成 可压缩 微型电路板 互联阵列
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面向双频DC-DC变换器的EIE型磁集成电感器设计
10
作者 高圣伟 金从众 +1 位作者 于冠恒 王玺然 《天津工业大学学报》 北大核心 2025年第1期75-82,90,共9页
为提高双频DC-DC变换器的功率密度,提出一种将独立的高低频电感集成在一个EIE型磁芯上的磁集成电感器设计方案,通过建立集成磁件的电路-磁路等效模型,设计了双频DC-DC变换器的EIE型磁集成电感器的结构,建立了集成电感的等效模型,对磁集... 为提高双频DC-DC变换器的功率密度,提出一种将独立的高低频电感集成在一个EIE型磁芯上的磁集成电感器设计方案,通过建立集成磁件的电路-磁路等效模型,设计了双频DC-DC变换器的EIE型磁集成电感器的结构,建立了集成电感的等效模型,对磁集成双频DC-DC变换器进行了仿真分析,并通过实验平台验证了新型磁件的运行效果。结果表明:新型磁件设计合理,可以在系统中稳定运行,通过测量得到集成磁元件的体积和质量分别为原来的27.6%和23.3%,使得双频变换器系统的功率密度得到了提升。 展开更多
关键词 EIE型集成电感器 磁集成技术 双频DC-DC变换器 磁路等效模型
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金属封装管壳随机振动失效分析及抗振优化
11
作者 龚宝明 张杰 李海龙 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 北大核心 2025年第2期167-174,共8页
混合集成电路(HIC)在服役过程中,壳体长边焊缝内侧区域容易出现裂纹导致失效.本文针对这一问题对失效现象进行振动研究,通过仿真软件ABAQUS对大尺寸混合集成电路封装管壳进行模态和随机振动实验与仿真,确定器件的薄弱位置,通过有限元仿... 混合集成电路(HIC)在服役过程中,壳体长边焊缝内侧区域容易出现裂纹导致失效.本文针对这一问题对失效现象进行振动研究,通过仿真软件ABAQUS对大尺寸混合集成电路封装管壳进行模态和随机振动实验与仿真,确定器件的薄弱位置,通过有限元仿真和实验结合的方法确定随机激励作用下盖板的危险位置和危险共振频率.针对薄弱位置设计不同载荷下的正弦振动实验,通过振动实验和仿真相结合的方式拟合得到材料的S-N曲线.分析危险位置的失效原因为由于随机振动的应力集中现象导致的振动疲劳失效,并针对失效原因设计减振方案对原模块进行结构优化设计,对危险位置进行减振加固,提升器件的抗振性能. 展开更多
关键词 混合集成电路 随机振动 结构优化:有限元分析
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考虑温度和电池寿命下风储微电网容量双层优化配置及经济性
12
作者 虞启辉 李宇慧 +2 位作者 孙国鑫 秦日鹏 李丰 《科学技术与工程》 北大核心 2025年第25期10726-10734,共9页
为持续推进国家“双碳”目标,优化储能电池的寿命和经济性,通过建立计及温度和循环次数的电池寿命模型,并结合开路电压测试、混合脉冲功率特性(hybrid pulse power characterization,HPPC)实验、充放电循环实验和日历老化实验等方法,研... 为持续推进国家“双碳”目标,优化储能电池的寿命和经济性,通过建立计及温度和循环次数的电池寿命模型,并结合开路电压测试、混合脉冲功率特性(hybrid pulse power characterization,HPPC)实验、充放电循环实验和日历老化实验等方法,研究了储能电池的寿命特性及经济性优化策略。结果表明,采用全寿命周期经济等值为上层优化目标、系统日区间最优运行策略为下层优化目标的双层优化配置模型,可有效提升储能系统的经济性。在内蒙古自治区某牧区风储微电网的算例分析中,优化后风机装机功率由60 kW调整为30 kW,储能电池容量优化为1103 kW·h,储能系统总运行成本减少5.02×10^(5)元,并揭示了温度和循环次数对系统运行成本的影响规律。可见,该优化方法可在确保系统稳定运行的前提下,提升储能系统的经济性与可推广性,为储能技术的工程应用提供理论支撑。 展开更多
关键词 风储并网 电池寿命 循环次数 等效电路模型 容量优化配置
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MMC-HVDC系统换流器桥臂保护的新方法
13
作者 张艳霞 马锦婷 《南方电网技术》 北大核心 2025年第7期90-102,共13页
针对模块化多电平换流器型高压直流输电(modular multilevel converter-high voltage direct current,MMC-HVDC)系统,提出了一种创新的换流器桥臂保护方法。首先,分析了在换流器单桥臂接地以及单相桥臂间接地情况下电流的流通路径,构建... 针对模块化多电平换流器型高压直流输电(modular multilevel converter-high voltage direct current,MMC-HVDC)系统,提出了一种创新的换流器桥臂保护方法。首先,分析了在换流器单桥臂接地以及单相桥臂间接地情况下电流的流通路径,构建了等值电路,并推导了换流器闭锁前后桥臂电流的表达式。基于此,剖析了故障后三相桥臂电流之和的独有特征,提出了通过检测三相桥臂和电流的基频分量是否为零来区分桥臂内部故障与外部故障的保护策略。鉴于现有桥臂保护方法无法有效应对换流器单相桥臂间短路的问题,进一步研究了此类短路情况下的特性,发现故障相上、下桥臂电流仅包含基频分量而不含直流分量,从而制定了相应的动作判据。将三相桥臂和电流保护与单相桥臂间短路保护判据进行,能够全面识别换流器桥臂上发生的各种故障,丰富和完善了换流器桥臂的保护原理。最终,通过在MATLAB/SimulinK中搭建双极MMC-HVDC系统仿真模型验证了所提出保护方法的有效性和可靠性。 展开更多
关键词 MMC-HVDC 换流器桥臂保护 单桥臂 接地 短路 半周积分算法
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面向标准单元布局的自适应加权平均线长模型
14
作者 迟元晓 王志君 +1 位作者 梁利平 邱昕 《湖南大学学报(自然科学版)》 北大核心 2025年第4期170-176,共7页
现有EDA工具通过在密度约束条件下使半周长线长(half-perimeter wirelength,HPWL)总和最小化方法来解决集成电路物理版图设计中标准单元的全局布局问题.然而,HPWL的不可导性使得基于梯度的先进求解方法无法直接应用于全局布局.因此,布... 现有EDA工具通过在密度约束条件下使半周长线长(half-perimeter wirelength,HPWL)总和最小化方法来解决集成电路物理版图设计中标准单元的全局布局问题.然而,HPWL的不可导性使得基于梯度的先进求解方法无法直接应用于全局布局.因此,布局中通常使用加权平均线长(weighted-average wirelength,WAWL)模型来近似HPWL,但无法兼顾平滑度和精度.因此,本文提出了一种改进的自适应加权平均线长(SaWAWL)模型,通过每条连线实际长度自适应地调整各自的加权因子γ,在保证平滑度的同时使拟合HPWL的误差更小,提高了标准单元全局布局质量.基于所提出的模型实现了一个全局布局器,并完成了在DAC2012开源基准上的验证.结果表明,该模型可以使半周长线长总和减少3.69%. 展开更多
关键词 集成电路 版图 物理设计 布局算法
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硅基前体在先进集成电路制造中的应用与技术进展
15
作者 刘见华 袁振军 +4 位作者 常欣 赵喜哲 万烨 余学功 杨德仁 《化工进展》 北大核心 2025年第9期5255-5264,共10页
随着集成电路制造技术的发展,特别是进入28nm/14nm/7nm等先进制程,对晶体管器件、工艺和材料提出了新的要求。硅基前体材料因其高纯度和特定性能参数,在晶圆制造的外延工艺、光刻工艺、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)中扮演着关键... 随着集成电路制造技术的发展,特别是进入28nm/14nm/7nm等先进制程,对晶体管器件、工艺和材料提出了新的要求。硅基前体材料因其高纯度和特定性能参数,在晶圆制造的外延工艺、光刻工艺、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)中扮演着关键角色。文章重点分析和讨论了几种主要的硅基前体材料在先进集成电路制造中的应用现状、研究进展以及合成和提纯工艺技术,包括五氯乙硅烷(PCDS)、新戊硅烷(NPS)、二甲基二甲氧基硅烷(DMDMOS)、二乙氧基甲基硅烷(DEMS)、二异丙胺基硅烷(DIPAS)、六甲基二硅氮烷(HMDS)、正硅酸乙酯(TEOS)、一氯硅烷(MCS)、三甲硅烷基胺(TSA)和双(叔丁氨基)硅烷(BTBAS)等。 展开更多
关键词 硅基前体 先进集成电路 化学气相沉积 原子层沉积 合成工艺 提纯技术
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基于主路径分析和引文文本挖掘的关键核心技术基础研究结构识别 被引量:2
16
作者 陶治宇 刘小平 +1 位作者 梁爽 李函羲 《情报杂志》 北大核心 2025年第2期72-81,共10页
[研究目的]准确识别关键核心技术的基础研究结构,为聚力突破“卡脖子”关键核心技术提供参考。[研究方法]提出了一套用以识别关键核心技术基础研究结构的理论框架--科技知识树,构建了针对“纯基础研究-应用型基础研究-关键核心技术-常... [研究目的]准确识别关键核心技术的基础研究结构,为聚力突破“卡脖子”关键核心技术提供参考。[研究方法]提出了一套用以识别关键核心技术基础研究结构的理论框架--科技知识树,构建了针对“纯基础研究-应用型基础研究-关键核心技术-常规技术”关联的分析方法,通过综合应用复杂网络分析与文本挖掘技术,理清了基础研究与应用研究间的知识流动关系,识别出了关键核心技术的基础研究结构。[研究结果/结论]以集成电路技术为例进行实证分析,识别得到关键核心技术分布于21个领域,涵盖11类应用型基础研究,包括Petri网、算法优化、光子学原理等;14类纯基础研究,包括半导体原理、数字电路建构原理等。经验证,提出的方法能够有效识别支撑技术研发的基础研究结构,为成果转化、技术攻关与基础研究布局提供了参考。 展开更多
关键词 关键核心技术 基础研究 科技知识树 引文文本挖掘 集成电路 主路径分析 共词网络分析
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基于语义加权网络的重点领域科学基金资助态势识别研究
17
作者 王伟 梁继文 杨建林 《现代情报》 北大核心 2025年第1期46-59,111,共15页
[目的/意义]科学基金制度是各国(地区)提升科学研究水平的重要方式,准确识别科学基金的资助方向和资助成效是感知科技发展态势的关键。[方法/过程]为识别科学基金资助态势,在提出关键短语抽取规则后,利用语义相似度消除同、近义词的歧... [目的/意义]科学基金制度是各国(地区)提升科学研究水平的重要方式,准确识别科学基金的资助方向和资助成效是感知科技发展态势的关键。[方法/过程]为识别科学基金资助态势,在提出关键短语抽取规则后,利用语义相似度消除同、近义词的歧义影响,利用动态滑动窗口和语义相似度构建语义加权的词共现网络,并基于社团划分方法识别基金主题。在集成电路领域比较1812项中国国家自然科学基金和2807项美国国家科学基金的资助主题分布、资助力度变化和资助效果,该方法能够准确识别基金主题分布和资助成效。[结果/结论]中国国家自然科学基金和美国国家科学基金均涵盖了集成电路领域的主要研究主题,在重点资助方向和资助力度上有较大差异;中国国家自然科学基金资助的论文平均被引频次相对较低,受资助机构相对单一。 展开更多
关键词 科学基金 资助态势 社团划分 词共现网络 主题分析 集成电路
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基于短波红外偏振成像的集成电路芯片污染缺陷检测
18
作者 贺泽斌 陈昌 +4 位作者 杨君聖 杨秉林 王爽 李克武 吴倩楠 《应用光学》 北大核心 2025年第2期388-394,共7页
针对集成电路芯片污染缺陷高速、高精度的检测需求,设计并研制了一种基于短波红外显微成像技术与偏振测量技术相结合的高精度短波红外偏振显微成像系统。检测光源透射穿过样品,样品偏振光经过显微镜收集,入射到由波片和检偏器构成的偏... 针对集成电路芯片污染缺陷高速、高精度的检测需求,设计并研制了一种基于短波红外显微成像技术与偏振测量技术相结合的高精度短波红外偏振显微成像系统。检测光源透射穿过样品,样品偏振光经过显微镜收集,入射到由波片和检偏器构成的偏振分析装置,从而完成样品偏振图像测量。利用偏振图像融合技术将测量得到的图像进行融合,完成样品偏振图像特征提取,从而实现对集成电路芯片污染的缺陷检测。采用Op-Amp集成芯片对芯片的边缘和中心进行了测试实验。实验结果显示,本系统所测试的缺陷特征清晰、数量完整,能够提供重要依据,确保了集成电路芯片污染缺陷检测的准确性。 展开更多
关键词 短波红外 偏振成像 集成电路芯片 偏振图像融合 缺陷检测
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面向集成应用的二维半导体生长进展及展望
19
作者 朱世同 吴隽 +5 位作者 吴浪 邹彩旗 刘蕾 邹茜璐 王欣然 李涛涛 《材料导报》 北大核心 2025年第18期1-9,共9页
以过渡金属硫族化合物(TMDC)为代表的二维半导体材料拥有原子级的极限厚度、短沟道免疫效应,在场效应晶体管、光电器件、传感器、柔性电子等领域展示出巨大的应用潜力。大面积、高质量的二维半导体材料的可控制备是实现上述应用的基础... 以过渡金属硫族化合物(TMDC)为代表的二维半导体材料拥有原子级的极限厚度、短沟道免疫效应,在场效应晶体管、光电器件、传感器、柔性电子等领域展示出巨大的应用潜力。大面积、高质量的二维半导体材料的可控制备是实现上述应用的基础。本文综述了近年来二维半导体材料制备的研究进展,主要探讨了二维半导体材料的大面积制备方法、单晶薄膜的外延生长策略和机理、缺陷的控制、材料的转移、低温生长策略和主流的生长设备。最后对二维半导体材料未来生长方向进行了展望,通过深入的梳理和分析,以期为二维半导体材料的制备和应用提供更全面的支持和指导,推动二维材料领域的进一步发展。 展开更多
关键词 二维半导体材料 化学气相沉积 单晶 集成电路
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基于图注意力网络的门级网表功能识别
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作者 秦永旺 张洋 +2 位作者 胡星 刘胜 李少青 《计算机工程》 北大核心 2025年第6期29-37,共9页
随着集成电路设计复杂度的急剧攀升,其呈现出全球化和分工化的发展趋势,需要越来越多的第三方知识产权(IP)核提供者的参与。第三方IP核的广泛使用会引入硬件木马,为了检测和评估第三方IP核是否存在硬件木马以及硬件木马的功能,迫切需要... 随着集成电路设计复杂度的急剧攀升,其呈现出全球化和分工化的发展趋势,需要越来越多的第三方知识产权(IP)核提供者的参与。第三方IP核的广泛使用会引入硬件木马,为了检测和评估第三方IP核是否存在硬件木马以及硬件木马的功能,迫切需要探索出一种可行的IP核硬件安全评估方法,数字电路模块的功能识别作为硬件木马分析的基础研究引起了人们的广泛关注。将电路功能检测任务转换为多分类任务,结合电路结构和图数据结构的特点,提出一种基于图注意力网络(GAT)的门级电路功能分类和检测方法。首先,针对门级网表缺乏功能识别数据集的问题,通过搜集具有代表性的寄存器传输级(RTL)代码并综合生成门级网表,构建一个规模适当、种类多样的门级电路数据集。然后,为了提取和处理电路特征信息,开发了一种基于文本识别的软件工具,将复杂的电路互连结构映射为结构简单的JSON(JavaScript Object Notation)格式,便于神经网络处理。最后,采用图注意力神经网络,利用构建的门级网表数据集对多分类器进行训练,经过训练后的多分类器能够对未知门级电路进行分类和识别。实验结果表明,该多分类器通过对自建数据集中6类共计3000多条网表数据进行学习后,最终对6类645个网表能够达到90%的分类正确率。 展开更多
关键词 集成电路 电路网表 功能识别 深度学习 图神经网络
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