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金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工
被引量:
6
1
作者
刘柱方
蒋利民
+4 位作者
汤儆
刘品宽
孙立宁
田中群
田昭武
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期227-230,共4页
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采...
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。
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关键词
约束刻蚀剂层技术(CELT)
金属铜
三维微加工
化学刻蚀
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职称材料
金属的电化学微区刻蚀方法
被引量:
3
2
作者
蒋利民
田中群
+3 位作者
刘柱方
毛秉伟
黄海苟
孙建军
《电化学》
CAS
CSCD
2002年第2期139-147,共9页
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工...
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 。
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关键词
金属
电化学刻蚀
约束刻蚀剂层技术
微加工
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职称材料
镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
3
作者
刘柱方
蒋利民
+5 位作者
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)...
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
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关键词
镍
三维微图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微系统技术
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职称材料
题名
金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工
被引量:
6
1
作者
刘柱方
蒋利民
汤儆
刘品宽
孙立宁
田中群
田昭武
机构
厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室
哈尔滨工业大学机器人研究所
出处
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期227-230,共4页
基金
科技部"八六三"计划资助项目 (2 0 0 2AA40 4170 )
文摘
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。
关键词
约束刻蚀剂层技术(CELT)
金属铜
三维微加工
化学刻蚀
Keywords
confined etchant layer technique
(CELT),copper
metal
,3D-
microfabrication
,chemical
etching
分类号
O646.6 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
金属的电化学微区刻蚀方法
被引量:
3
2
作者
蒋利民
田中群
刘柱方
毛秉伟
黄海苟
孙建军
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《电化学》
CAS
CSCD
2002年第2期139-147,共9页
基金
国家自然科学基金重点项目 ( 2 983 3 0 70 )
国家重点基础研究发展规划项目 (G1 9990 3 3 1 0 7)
国家自然科学基金 ( 60 0 760 0 2 )资助项目
文摘
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法 ,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特点 .从加工精度 (能否进行微米和纳米级加工 )、加工效率 (工序复杂程度 ,能否批量制造或复制 )、可用范围 (主要是能否加工复杂三维立体结构 )等各项因素进行了综合分析 ,结果表明 ,各种加工方法各有其优缺点 ,从总的效果来看 。
关键词
金属
电化学刻蚀
约束刻蚀剂层技术
微加工
Keywords
metal etching
,
electrochemical etching
,
confined etchant layer technique
,
microfabrication.
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
镍表面三维微图形的复制加工
被引量:
2
3
作者
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室
哈尔滨工业大学机器人研究所
出处
《电化学》
CAS
CSCD
2004年第3期249-253,共5页
基金
科技部 863计划项目 (2 0 0 2AA40 41 70 )资助
文摘
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工,以规整的三维齿状微结构作模板,获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系,在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维微结构并应用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征刻蚀图案,证实CELT可用于金属表面Ni的三维微图形刻蚀加工.
关键词
镍
三维微图形
复制加工
约束刻蚀剂层技术
化学刻蚀
捕捉体系
微系统技术
Keywords
confined etchant layer technique
(CELT), Nickel, 3D-
microfabrication
, Chemical
etching
, Electrochemistry
分类号
TG176 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工
刘柱方
蒋利民
汤儆
刘品宽
孙立宁
田中群
田昭武
《应用化学》
CAS
CSCD
北大核心
2004
6
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职称材料
2
金属的电化学微区刻蚀方法
蒋利民
田中群
刘柱方
毛秉伟
黄海苟
孙建军
《电化学》
CAS
CSCD
2002
3
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
镍表面三维微图形的复制加工
刘柱方
蒋利民
汤儆
张力
田中群
田昭武
刘品宽
孙立宁
《电化学》
CAS
CSCD
2004
2
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职称材料
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