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Simulation and Experimental Analysis of Mechanical Properties of a Bidirectional Adjustable Magnetorheological Fluid Damper
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作者 YANG Zhi−rong YE Zhong−min +2 位作者 LIU Jin−liang RAO Zhu−shi XIAO Wang−qiang 《船舶力学》 北大核心 2025年第6期1000-1012,共13页
The aim of this study is to address the issues associated with traditional magnetorheological fluid(MRF)dampers,such as insufficient damping force after power failure and susceptibility to settlement.In order to achie... The aim of this study is to address the issues associated with traditional magnetorheological fluid(MRF)dampers,such as insufficient damping force after power failure and susceptibility to settlement.In order to achieve this,a bidirectional adjustable MRF damper was designed and developed.Magnetic field simulation analysis was conducted on the damper,along with simulation analysis on its dynamic characteristics.The dynamic characteristics were ultimately validated through experimental testing on the material testing machine,thereby corroborating the theoretical simulation results.Concurrently,this process generated valuable test data for subsequent implementation of the semi-active vibration control system.The simulation and test results demonstrate that the integrated permanent magnet effectively accomplishes bidirectional regulation.The magnetic induction intensity of the damping channel is 0.2 T in the absence of current,increases to 0.5 T when a maximum forward current of 4 A is applied,and becomes 0 T when a maximum reverse current of 3.8 A is applied.When the excitation amplitude is 8 mm and the frequency is 2 Hz,with the applied currents varying,the maximum damping force reaches 8 kN,while the minimum damping force measures at 511 N.Additionally,at zero current,the damping force stands at 2 kN,which aligns closely with simulation results.The present paper can serve as a valuable reference for the design and research of semi-active MRF dampers. 展开更多
关键词 magnetorheological fluid(mrf) DAMPER permanent magnet finite element analysis test of mechanical properties
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Magnetorheological finishing of low-gradient curved surfaces based on four-axis linkage technique 被引量:3
2
作者 宋辞 戴一帆 彭小强 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2013年第9期2349-2358,共10页
Based on the distribution characteristic of magnetic field along the polish wheel,the four-axis linkage technique is advanced to replace a standard five-axis one to figure low-gradient optical surfaces with a raster t... Based on the distribution characteristic of magnetic field along the polish wheel,the four-axis linkage technique is advanced to replace a standard five-axis one to figure low-gradient optical surfaces with a raster tool-path in magnetorheological finishing(MRF).After introducing the fundaments of such simplification,the figuring reachability of a four-axis system for the low-gradient optics was theoretically analyzed.Further validation including magnetic field intensity and influence function characteristic was performed to establish its application.To demonstrate the correctness,feasibility and applicability of such technique,a K4 spherical part was figured by two iterations of MRF with surface form error improved to 0.219λPV and 0.027λRMS.Meanwhile,the surface roughness was also improved a lot in MRF process.These theoretical analyses and experimental results both indicate that high form accuracy and excellent surface quality can be obtained by using the four-axis linkage technique in the process of figuring low-gradient optical elements,and the four-axis linkage system undoubtedly is much more easy to control and much more economical. 展开更多
关键词 magnetorheological finishing low-gradient curved surfaces four-axis linkage technique
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磁流变液环境下密封副非线性磨损行为研究
3
作者 李姗姗 孙兴伟 +1 位作者 杨恒 乔赫廷 《中国机械工程》 北大核心 2025年第9期1968-1979,共12页
为研究磁流变液摩擦动力学行为对密封副磨损机理的影响,建立表面粗糙度与铁粉耦合效应下的动态密封磨损模型,利用ANSYS对其进行微观接触力学仿真分析,并通过自制往复式动态密封磨损试验装置测试不同表面粗糙度活塞杆样本在两种介质下的... 为研究磁流变液摩擦动力学行为对密封副磨损机理的影响,建立表面粗糙度与铁粉耦合效应下的动态密封磨损模型,利用ANSYS对其进行微观接触力学仿真分析,并通过自制往复式动态密封磨损试验装置测试不同表面粗糙度活塞杆样本在两种介质下的摩擦磨损性能。结果表明,粗糙纹理与铁粉瞬时接触不仅能够缓解O形圈在微凸体交变剪切作用下表面出现的疲劳裂纹,还有助于削弱铁粉对活塞杆产生的微切割效应,使密封副在磁流变液工况下展现出良好的摩擦学性能;铁粉介于抛光样本与O形圈之间长期承受微观纹理施加的横向剪切力及纵向挤压力,迫使大量铁粉嵌入O形圈内部,并在往复运动的活塞杆表面产生明显的犁沟式磨痕,导致系统因两体磨粒磨损而过早引发密封失效。 展开更多
关键词 磁流变液 表面粗糙度 磨损特性 摩擦动力学行为 磨粒磨损
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Halbach阵列的磁流变化学抛光工艺研究
4
作者 徐泽超 尹韶辉 +1 位作者 王哲 马双琪 《表面技术》 北大核心 2025年第14期141-150,共10页
目的 提高磁流变化学抛光(MRFC)方法加工碳化硅的抛光效率与效果。方法 通过使用电磁场有限元分析软件Ansys Maxwell对Halbach阵列励磁装置进行仿真分析,磁感应强度B>400 mT的区域大致覆盖整个励磁装置上方,励磁面积达到18 000 mm^(... 目的 提高磁流变化学抛光(MRFC)方法加工碳化硅的抛光效率与效果。方法 通过使用电磁场有限元分析软件Ansys Maxwell对Halbach阵列励磁装置进行仿真分析,磁感应强度B>400 mT的区域大致覆盖整个励磁装置上方,励磁面积达到18 000 mm^(2),验证其能满足磁流变抛光的要求。采用正交实验方法对工艺参数进行优化,结合响应函数模型与极差分析获取最佳工艺参数;进行单因素实验,研究磨粒种类、磨粒粒径、混合磨粒对碳化硅磁流变化学抛光加工性能的影响,并测量加工面粗糙度以分析抛光效果。结果 最佳的工艺参数组合为工件转速200 r/min,抛光盘转速15 r/min,励磁间隙13 mm,工作间隙1 mm。金刚石磨粒抛光60 min后,表面粗糙度Ra达到1.6 nm,优于其他种类磨粒。金刚石磨粒粒径降低能够提升抛光效果,加工面粗糙度随磨粒粒径降低而降低,但磨粒粒径降低至0.5 um以下时,粗糙度变化不再符合此规律。复合磨粒抛光液在0.4比例下可获得更优异的抛光效果,可获得表面粗糙度Ra为0.45 nm的超光滑表面。结论 应用Halbach阵列励磁的磁流变抛光方法加工碳化硅材料,能够获得亚纳米级表面粗糙度。 展开更多
关键词 碳化硅 磁流变化学抛光 HALBACH阵列 表面粗糙度 金刚石磨粒
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高陡度曲面光学元件的虚拟轴磁流变抛光
5
作者 付志伟 周涛 +4 位作者 张桂梅 谢炳贤 苏星 黄文 海阔 《光学精密工程》 北大核心 2025年第5期751-762,共12页
为了克服传统抛光轮上置式磁流变抛光机床在加工高陡度曲面光学元件时的工艺限制,并解决现有虚拟轴技术仅适用于小角度范围的局限性,提出了一种抛光轮下置固定式机械轴与虚拟轴复合联动抛光技术。基于抛光轮下置式磁流变抛光机床的结构... 为了克服传统抛光轮上置式磁流变抛光机床在加工高陡度曲面光学元件时的工艺限制,并解决现有虚拟轴技术仅适用于小角度范围的局限性,提出了一种抛光轮下置固定式机械轴与虚拟轴复合联动抛光技术。基于抛光轮下置式磁流变抛光机床的结构特点,采用Denavit-Hartenberg(DH)法建立了机床机械轴与虚拟轴复合联动抛光的后置处理模型,并通过几何法进行了理论验证。通过虚拟轴凹球面采斑实验和均抛一块口径为150 mm、曲率半径为150 mm的熔石英凹球面,验证了后置处理模型的准确性。最后,对一块口径为170 mm、曲率半径为158 mm、最大法向角为32.54°的熔石英凹球面进行抛光修形。实验结果表明,修形后裁边5 mm的工件面形PV值收敛至0.04λ,RMS值收敛至0.005λ。所提出的机械轴与虚拟轴复合联动抛光模型具有较高的准确性,且能够有效提高高精度、高陡度曲面光学元件的加工能力,为磁流变抛光技术在高陡度复杂曲面光学元件加工中的应用提供了重要参考。 展开更多
关键词 磁流变抛光 高陡度曲面 虚拟轴 下置式 后置处理
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一阶不连续光学元件MRF流体动力学分析方法 被引量:5
6
作者 杨航 刘小雍 +3 位作者 马登秋 张云飞 黄文 何建国 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期25-31,共7页
一阶不连续光学元件的磁流变抛光问题是制约我国高精高效光学制造领域发展的难题之一,其涉及锥形、矩形等几何形貌元件的光学元件加工问题以及常见光学元件的边缘效应控制问题。提出了基于一阶不连续光学元件的磁流变抛光流体动力学方法... 一阶不连续光学元件的磁流变抛光问题是制约我国高精高效光学制造领域发展的难题之一,其涉及锥形、矩形等几何形貌元件的光学元件加工问题以及常见光学元件的边缘效应控制问题。提出了基于一阶不连续光学元件的磁流变抛光流体动力学方法,建立了该类元件抛光区域流体动力分析的理论方法和数值手段。首先,对磁流变抛光工况下的流场进行了合理假设,其次,从微元流体动力方程出发,建立了适用于一阶不连续面形的流场分析方法,最后,基于有限差分法和数值迭代方法建立了流场控制方程的数值计算方法。通过对切入距离为1~18mm的抛光过程进行数值仿真,发现该方法所获取的一阶不连续面形的压力分布形态是正确的,产生的不连续压降与实验观测一致。 展开更多
关键词 一阶不连续光学元件 边缘效应 磁流变抛光 流体动力学分析 超精密加工
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光学元件磁流变加工不确定度误差工艺方法 被引量:2
7
作者 高博 范斌 +2 位作者 王佳 吴湘 辛强 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第3期203-212,共10页
为减少磁流变抛光过程中误差对加工精度的影响,实现光学元件磁流变高精度加工,采用一种不确定度误差工艺方法对加工中的误差进行抑制。通过对磁流变加工过程中的位置误差和去除函数误差进行不确定度分析,在理论分析与实验分析的基础上... 为减少磁流变抛光过程中误差对加工精度的影响,实现光学元件磁流变高精度加工,采用一种不确定度误差工艺方法对加工中的误差进行抑制。通过对磁流变加工过程中的位置误差和去除函数误差进行不确定度分析,在理论分析与实验分析的基础上进行验证实验。由仿真与实验结果可知,加工中面形误差与中频误差均存在3.5 nm的不确定度误差值,通过验证实验,得到了加工后的面形误差RMS值为20 nm,中频误差RMS值为14 nm。结果表明,采用误差不确定度的方法可优化加工工艺流程,减少误差对加工过程的影响,可以达到不确定度下的面形精度。该方法为磁流变高精度确定性加工以及面形误差与中频误差的抑制问题提供了一种解决方案。 展开更多
关键词 光学加工 面形误差 磁流变抛光 中频误差
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磁流变抛光技术研究进展 被引量:1
8
作者 戴立达 张争艳 乔国朝 《机械设计与制造》 北大核心 2024年第3期254-260,共7页
表面质量是精密零部件最重要的性能之一,零件的表面质量主要是由加工过程中不同的工艺参数和方法决定的。传统的磨抛工艺由于作用在工件上的力很大、嵌入的磨料颗粒、对工艺的控制有限等原因很难使表面粗糙度降低到精密零部件的要求精... 表面质量是精密零部件最重要的性能之一,零件的表面质量主要是由加工过程中不同的工艺参数和方法决定的。传统的磨抛工艺由于作用在工件上的力很大、嵌入的磨料颗粒、对工艺的控制有限等原因很难使表面粗糙度降低到精密零部件的要求精度。磁流变抛光(MRF)提供了一种新型高效的方法使工件加工质量达到预期的精度水平。MRF对工艺控制具有更大的灵活性,并且可以在不破坏表面形貌的情况下完成加工。综述了磁流变抛光液组分对加工效果的影响、材料去除模型的建立和发展、不同的MRF加工方式和未来磁流变抛光技术发展的新方向,最后总结了目前MRF技术存在的问题总结,并提出了MRF技术未来可能的发展方向。 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变抛光液 材料去除模型 磁流变抛光方法 磁流变复合抛光
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光学材料研磨亚表面损伤的快速检测及其影响规律 被引量:33
9
作者 王卓 吴宇列 +2 位作者 戴一帆 李圣怡 周旭升 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期16-21,共6页
提出了一种光学材料研磨亚表面损伤的非破坏性快速检测方法。基于印压断裂力学理论建立了亚表面损伤深度与表面粗糙度的关系模型。使用磁流变抛光斑点技术测量了K9玻璃在不同研磨条件下的亚表面损伤深度,并验证了上述模型。最后,分析了... 提出了一种光学材料研磨亚表面损伤的非破坏性快速检测方法。基于印压断裂力学理论建立了亚表面损伤深度与表面粗糙度的关系模型。使用磁流变抛光斑点技术测量了K9玻璃在不同研磨条件下的亚表面损伤深度,并验证了上述模型。最后,分析了研磨加工参数对亚表面损伤深度的影响规律,提出了高效率的研磨加工策略。研究表明:光学材料研磨后亚表面损伤深度与表面粗糙度成单调递增的非线性关系,即SSD^SR4/3。磨粒粒度对亚表面损伤深度的影响最显著,研磨盘硬度的影响次之,而研磨压力和研磨盘公转速度的影响基本可以忽略。利用建立的亚表面损伤深度与表面粗糙度间的关系模型能够实现亚表面损伤深度的快速、准确和非破坏性检测。 展开更多
关键词 光学材料 研磨 磁流变抛光 光学检验 亚表面损伤
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磁流变抛光消除磨削亚表面损伤层新工艺 被引量:35
10
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 王卓 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期162-168,共7页
针对传统光学加工技术难于精确测量和控制亚表面损伤的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序并直接衔接磨削的新工艺流程。采用自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验... 针对传统光学加工技术难于精确测量和控制亚表面损伤的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序并直接衔接磨削的新工艺流程。采用自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验研究。结果显示,直径为100mm的K9材料平面玻璃,经过156min的磁流变粗抛,去除了50μm深度的亚表面损伤层,表面粗糙度Ra值进一步提升至0.926nm,经过17.5min磁流变精抛,去除玻璃表面200nm厚的材料,并消除磁流变粗抛产生的抛光纹路,表面粗糙度Ra值提升至0.575nm。由此表明,应用磁流变抛光可以高效消除磨削产生的亚表面损伤层,提出的新工艺流程可以实现近零亚表面损伤和纳米级精度抛光两个工艺目标。 展开更多
关键词 磁流变抛光 亚表面损伤 光学加工
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磁流变光整加工技术研究进展 被引量:20
11
作者 陈逢军 尹韶辉 +1 位作者 余剑武 徐志强 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第19期2382-2392,共11页
介绍了近年来磁流变光整加工(MRF)技术的研究状况及最新进展,对磁流变光整加工机理研究、加工机床与相关装置的开发、加工工艺试验研究、加工算法与模型研究、磁流变液流体开发与应用等五个方面进行了详细的综述与分析。最后探讨了磁流... 介绍了近年来磁流变光整加工(MRF)技术的研究状况及最新进展,对磁流变光整加工机理研究、加工机床与相关装置的开发、加工工艺试验研究、加工算法与模型研究、磁流变液流体开发与应用等五个方面进行了详细的综述与分析。最后探讨了磁流变光整加工中的关键技术与存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 磁流变光整加工(mrf) 磁流变液 光学制造 超精密加工
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高精度光学表面磁流变修形 被引量:16
12
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 宋辞 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1859-1864,共6页
系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理,给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流... 系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理,给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流变抛光机床和KDMRW-1水基磁流变抛光液对直径80mm的K4材料平面反射镜和直径145mm的K9材料球面反射镜进行修形实验。实验显示,样件一面形收敛到PV值55.3nm,RMS值5.5nm;样件二面形收敛到PV值40.5nm,RMS值5nm;样件的表面粗糙度均有显著改善。结果表明,磁流变修形技术具有高精度、高效率、高表面质量的特点。 展开更多
关键词 磁流变抛光 磁流变液 高精度光学表面
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光学镜面磁流变抛光的后置处理 被引量:14
13
作者 宋辞 戴一帆 +1 位作者 彭小强 石峰 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1715-1721,共7页
分析了自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000的拓扑结构以及坐标变换关系,对其进行了运动求解,建立了光学镜面的磁流变抛光后置处理算法模型。针对机床四轴联动的特点,对建立的磁流变抛光后置处理模型进行了近似处理。以球面镜的后置处... 分析了自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000的拓扑结构以及坐标变换关系,对其进行了运动求解,建立了光学镜面的磁流变抛光后置处理算法模型。针对机床四轴联动的特点,对建立的磁流变抛光后置处理模型进行了近似处理。以球面镜的后置处理为例,推导了具有普适性的以光栅扫描方式加工光学镜面的后置处理算法,同时分析了这种近似处理引入的误差,仿真了其对不同口径和不同相对口径球面镜的影响,得到了这种近似处理算法对球面镜的加工范围。最后,对一块口径为200mm,相对口径为1∶1.6的K9材料球面镜进行了磁流变抛光实验,在不考虑边缘效应的情况下其面形误差的PV值和RMS值分别达到了65nm和9nm以下,有效地验证了后置处理算法模型的准确性以及四轴联动近似处理的可行性。该算法对各类形状和大小的光学镜面加工均有参考意义。 展开更多
关键词 光学镜面 磁流变抛光 后置处理 四轴联动
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磁流变抛光技术 被引量:64
14
作者 张峰 余景池 +1 位作者 张学军 王权陡 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第5期1-8,共8页
对磁介质辅助抛光技术20 年来的发展作了简要的回顾,进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型,同时提出了这种抛光技术的关键所在,并对其发展未来进行了展望。
关键词 磁介质辅助抛光 磁流变抛光 磁流变抛光液 抛光
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光学元件精密加工中的磁流变抛光技术工艺参数 被引量:11
15
作者 秦北志 杨李茗 +4 位作者 朱日宏 侯晶 袁志刚 郑楠 唐才学 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2281-2286,共6页
为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,... 为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究,设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索,分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系,得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明:工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律,掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障,同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。 展开更多
关键词 精密加工 磁流变抛光 去除函数 磁流变液 Preston方程
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磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定 被引量:11
16
作者 郑立功 李龙响 +2 位作者 王孝坤 薛栋林 张学军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期8-14,共7页
为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床... 为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030mm。实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持。 展开更多
关键词 光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定
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超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响 被引量:18
17
作者 王慧军 张飞虎 +2 位作者 赵航 栾殿荣 陈亚春 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1583-1588,共6页
提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁... 提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响。在一定实验条件下,获得的材料去除率为0.139μm/min,并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线,得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律。 展开更多
关键词 材料去除率 超声波磁流变复合抛光 超声波抛光 磁流变抛光 超精密加工
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光学材料磨削的亚表面损伤预测 被引量:13
18
作者 吕东喜 王洪祥 黄燕华 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期680-686,共7页
基于压痕断裂力学理论,建立了工件表面粗糙度与亚表层损伤深度的理论关系模型,用于预测磨削加工脆性光学材料引起的亚表层损伤深度。利用磁流变角度抛光技术检测了不同磨削加工工艺条件下亚表层的损伤深度,验证了理论模型的正确性。分... 基于压痕断裂力学理论,建立了工件表面粗糙度与亚表层损伤深度的理论关系模型,用于预测磨削加工脆性光学材料引起的亚表层损伤深度。利用磁流变角度抛光技术检测了不同磨削加工工艺条件下亚表层的损伤深度,验证了理论模型的正确性。分析了加工工艺参数对工件表面粗糙度及亚表层损伤深度的影响规律,提出了提高材料去除率的磨削加工工艺方案。分析结果表明:脆性材料工件的亚表层损伤深度与工件的表面粗糙度呈非线性单调递增关系。工件亚表层损伤深度及工件表面粗糙度均随着切削深度和进给速度的增加而增加,随着主轴转速的增加而减小。对比实验结果与理论模型预测结果表明,提出的模型可以准确、无损伤地的预测磨削加工引起的工件亚表层损伤深度。 展开更多
关键词 脆性材料 磨削 压痕 磁流变抛光 表面粗糙度 亚表层损伤
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热压多晶氟化镁的磁流变抛光研究 被引量:5
19
作者 戴一帆 袁征 +1 位作者 陈浩锋 尹自强 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期99-102,共4页
热压多晶氟化镁是一种被广泛应用的红外光学材料。磁流变抛光因其抛光效率高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为倍受瞩目的超精密光整加工技术。在利用传统抛光方法得到热压多晶氟化镁的抛光特性的基础上配制了适用于该材... 热压多晶氟化镁是一种被广泛应用的红外光学材料。磁流变抛光因其抛光效率高、磨头无磨损、可实现确定性加工等优点而日益成为倍受瞩目的超精密光整加工技术。在利用传统抛光方法得到热压多晶氟化镁的抛光特性的基础上配制了适用于该材料的磁流变抛光液。通过抛光实验证明,与传统抛光方法相比,采用磁流变抛光方法对热压多晶氟化镁进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,并且抛光的效率也大大提高。 展开更多
关键词 氟化镁 磁流变抛光 磁流变液
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基于矩阵运算的光学零件磁流变加工的驻留时间算法 被引量:9
20
作者 石峰 戴一帆 +1 位作者 彭小强 宋辞 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期103-106,共4页
提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算... 提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,经过2次迭代加工后,有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40.5nm(约为λ/15),RMS值达到5nm(约为λ/125),表面粗糙度Ra值达到0.57nm。 展开更多
关键词 磁流变抛光 计算机控制光学表面成型(CCOS) 驻留时间算法
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