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吐温80─H_2O_2化学发光新体系测定痕量lr（Ⅳ）
被引量：
2
1
作者
韩鹤友
罗庆尧
余席茂
《贵金属》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第3期41-44,共4页
建立了吐温８０─Ｎ＿２Ｏ＿２体系测定痕量铱的新的化学发光分析法，方法的检测限为３．０×１０￣（－９）ｇ／ｍｌ；线性范围为１．０×１Ｏ￣（－８）～１．０×１０￣（－５）ｇ／ｍｌ；测定１００ｐｐｂ铱溶液的相对...
建立了吐温８０─Ｎ＿２Ｏ＿２体系测定痕量铱的新的化学发光分析法，方法的检测限为３．０×１０￣（－９）ｇ／ｍｌ；线性范围为１．０×１Ｏ￣（－８）～１．０×１０￣（－５）ｇ／ｍｌ；测定１００ｐｐｂ铱溶液的相对标准偏差为６．５％。
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关键词
铱
吐温
80
化学发光
痕量分析
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职称材料
题名
吐温80─H_2O_2化学发光新体系测定痕量lr（Ⅳ）
被引量：
2
1
作者
韩鹤友
罗庆尧
余席茂
机构
武汉大学化学系
出处
《贵金属》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第3期41-44,共4页
文摘
建立了吐温８０─Ｎ＿２Ｏ＿２体系测定痕量铱的新的化学发光分析法，方法的检测限为３．０×１０￣（－９）ｇ／ｍｌ；线性范围为１．０×１Ｏ￣（－８）～１．０×１０￣（－５）ｇ／ｍｌ；测定１００ｐｐｂ铱溶液的相对标准偏差为６．５％。
关键词
铱
吐温
80
化学发光
痕量分析
Keywords
iridium
,
tween-80
,
chemiluminescence analysis
分类号
O614.825 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
吐温80─H_2O_2化学发光新体系测定痕量lr（Ⅳ）
韩鹤友
罗庆尧
余席茂
《贵金属》
CAS
CSCD
北大核心
1994
2
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