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溅射方位对IBS沉积TbDy-Fe薄膜性质的影响 被引量:4
1
作者 周白杨 卢志红 +2 位作者 林梅 姜华 邓光华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期367-371,共5页
本文采用铸造合金靶材和离子束溅射 (IBS)技术制备TbDy Fe超磁致伸缩薄膜 (GMFs) ,研究了不同溅射方位 (α角 )对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响。结果表明 ,在给定的溅射角范围内 ,薄膜表面平整光滑 ,组织致密 ,膜厚均匀且与基片结合... 本文采用铸造合金靶材和离子束溅射 (IBS)技术制备TbDy Fe超磁致伸缩薄膜 (GMFs) ,研究了不同溅射方位 (α角 )对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响。结果表明 ,在给定的溅射角范围内 ,薄膜表面平整光滑 ,组织致密 ,膜厚均匀且与基片结合良好 ,膜的结构均为非晶态 ;成膜生长速率、膜层成份以及λ值随α角的改变均呈现规律性的变化 ,当α角为α6左右时 ,沉积速率最大 ;在α角为α5左右范围内 ,膜层的成份最接近于靶材成份 ;α角在α4附近时用Tam法试验测定在Hmax=0 5 7T下的磁伸值λ∥ 可达 970× 10 -6,在中低场强H =0 2 5T下 ,λ∥ 值达到 710× 10 -6。 展开更多
关键词 膜层 平整 离子束溅射 铸造合金 靶材 组织 非晶态 薄膜 基片 性质
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试片取向与IBS沉积TbDy-Fe膜应力及磁伸性能 被引量:2
2
作者 周白杨 邓光华 林庆彬 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期268-270,274,共4页
本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响。结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸... 本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响。结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸缩性能产生相应的影响。 展开更多
关键词 金属材料 TbDy—Fe薄膜 离子束溅射 应力 磁伸性能
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退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响 被引量:1
3
作者 刘浩 马平 +1 位作者 蒲云体 赵祖珍 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期7-14,共8页
结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力。研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值... 结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力。研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值最高,EBE HfO2薄膜次之,IBS HfO2薄膜的损伤阈值最低;300℃退火对各工艺薄膜抗激光损伤能力的影响均为负面,500℃退火则会显著降低ALD HfO2薄膜的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 HFO2薄膜 激光损伤阈值 电子束蒸发 离子束溅射 原子层沉积
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离子束溅射技术在X射线光电子能谱(XPS)深度剖析中的应用 被引量:1
4
作者 周传强 袁干印 +1 位作者 龚翔翔 黄学武 《中国无机分析化学》 北大核心 2025年第1期56-63,共8页
X射线光电子能谱技术是唯一一种既能检测材料表面元素组成又可分析元素价态或化学态的现代分析测试方法,但它只能探测样品表面1~10个原子层深度。离子束溅射技术能够实现材料表面层的逐层可控剥离,广泛应用于功能材料的X射线光电子能谱... X射线光电子能谱技术是唯一一种既能检测材料表面元素组成又可分析元素价态或化学态的现代分析测试方法,但它只能探测样品表面1~10个原子层深度。离子束溅射技术能够实现材料表面层的逐层可控剥离,广泛应用于功能材料的X射线光电子能谱深度剖析。对近年来离子束溅射技术在材料X射线光电子能谱深度剖析中的应用研究进行综述,分析了当前单原子离子束与气体团簇离子束溅射技术在材料深度剖析中面临的瓶颈难题,讨论了离子束溅射技术的应用前景和发展趋势。 展开更多
关键词 X射线光电子能谱 表面分析 溅射 深度剖析
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热处理对离子束溅射Ta_2O_5薄膜特性的影响 被引量:5
5
作者 刘华松 姜承慧 +3 位作者 王利栓 刘丹丹 季一勤 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期2645-2651,共7页
利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究.研究显示,随着热... 利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100~600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究.研究显示,随着热处理温度增加,薄膜折射率整体呈下降趋势,折射率非均匀性和物理厚度呈增加趋势,结果有效地改善了薄膜的消光系数和应力,但薄膜的晶向和表面形貌均未出现明显的变化.结果表明:热处理可以有效改变薄膜特性,但需要根据Ta2O5薄膜具体应用综合选择最优的热处理温度.本文对离子束溅射Ta2O5薄膜的热处理参数选择具有指导意义. 展开更多
关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 退火温度 光学常数 薄膜折射率
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纳米二氧化钒薄膜的制备及红外光学性能 被引量:19
6
作者 梁继然 胡明 +6 位作者 王晓东 李贵柯 季安 杨富华 刘剑 吴南健 陈弘达 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1523-1529,共7页
采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄膜晶体结构、表面形貌和组分的影响,利... 采用双离子束溅射方法在Si3N4/SiO2/Si基底表面沉积氧化钒薄膜,在氮气气氛下热处理获得二氧化钒薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了热处理温度对氧化钒薄膜晶体结构、表面形貌和组分的影响,利用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)对二氧化钒薄膜的红外透射性能进行了测试分析.结果表明,所制备的氧化钒薄膜以非晶态V2O5和四方金红石结构VO2为主,经400℃、2h热处理后获得了(011)择优取向的单斜金红石结构纳米VO2薄膜,提高热处理温度至450℃,纳米结构VO2薄膜的晶粒尺寸减小.FT-IR结果显示,纳米VO2薄膜透射率对比因子超过0.99,高温关闭状态下透射率接近0.小晶粒尺寸纳米VO2薄膜更适合在热光开关器件领域应用. 展开更多
关键词 双离子束溅射 纳米二氧化钒薄膜 透射率
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电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响 被引量:16
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作者 王英剑 李庆国 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期841-844,共4页
 运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影...  运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响,以判断合理的沉积工艺。 展开更多
关键词 电子束 离子辅助 离子束溅射 薄膜特性
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离子束溅射沉积Ta_2O_5光学薄膜的实验研究 被引量:10
8
作者 刘洪祥 熊胜明 +1 位作者 李凌辉 张云洞 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期41-43,55,共4页
根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,... 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta2O5薄膜光学特性的影响。结果表明,在薄膜生长的过程中,由于氩离子的轰击作用,薄膜中的氧原子被优先溅射出来,造成了薄膜化学剂量比失调、吸收增加。但是,通过优化辅助离子源中氧气的比例,可获得合理化学剂量比、低损耗的Ta2O5薄膜。 展开更多
关键词 离子束溅射 光学薄膜 离子辅助沉积 光学特性
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离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜 被引量:6
9
作者 才玺坤 张立超 +3 位作者 时光 贺健康 武潇野 梅林 《中国光学》 EI CAS CSCD 2016年第6期649-655,共7页
采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10^(-4)和3.0×10^(-4... 采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10^(-4)和3.0×10^(-4)的低损耗AlF_3和GdF_3薄膜,对应的折射率分别为1.43和1.67,193 nm减反膜系的透过率为99.6%,剩余反射几乎为零,而高反膜系的反射率为99.2%,透过率为0.1%。应力测量结果表明,AlF_3薄膜表现为张应力而GdF_3薄膜具有压应力,与沉积条件相关的低生长应力是AlF_3和GdF_3薄膜残余应力较小的主要原因,采用这两种材料制备的减反及高反膜系应力均低于50 MPa。针对平面和曲率半径为240 mm的凸面元件,通过设计修正挡板,250 mm口径膜厚均匀性均优于97%。为亚纳米精度的平面元件镀制193 nm减反膜系,镀膜后RMS由0.177 nm变为0.219 nm。 展开更多
关键词 离子束溅射 应力 光学特性 膜厚均匀性
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离子束溅射制备CuInSe_2薄膜的研究 被引量:9
10
作者 范平 郑壮豪 +4 位作者 张东平 梁广兴 蔡兴民 汝丽丽 李红奕 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期659-663,共5页
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2(CIS)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。实验结果表明:使用离子束... 利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2(CIS)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。实验结果表明:使用离子束溅射沉积技术制备的CIS薄膜具有黄铜矿结构,在一定的条件下,适当温度的热处理可以制备结构紧密、颗粒均匀、致密性和结晶性良好的CIS薄膜,具有强烈的单一晶向生长现象。 展开更多
关键词 离子束溅射 CIS薄膜 衬底温度 退火温度
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基于离子束溅射Ta_2O_5薄膜的紫外吸收膜技术 被引量:5
11
作者 姜玉刚 刘华松 +5 位作者 陈丹 王利栓 李士达 刘丹丹 姜承慧 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期527-532,共6页
为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量。本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta_2O_5薄膜的制备。以Ta_2O_5薄膜作为高折射率材料,设计了355nm的紫外高反射吸收... 为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量。本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta_2O_5薄膜的制备。以Ta_2O_5薄膜作为高折射率材料,设计了355nm的紫外高反射吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了355nm的吸收薄膜,对于A=5%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,95.0%和4.9%;对于A=12%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,87.4%和12.5%。实验结果表明,采用离子束溅射沉积技术,可以实现不同吸收率的355nm高反射吸收薄膜的制备,对于基于光热偏转测量技术的紫外光学薄膜弱吸收测量仪的定标具有重要的意义。 展开更多
关键词 离子束溅射技术 紫外吸收薄膜 吸收率 透射率 反射率
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ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究 被引量:10
12
作者 周咏东 方家熊 +2 位作者 李言谨 龚海梅 汤定元 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期1127-1130,共4页
用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积.用X射线光电子能借(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究.实验表明:离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好... 用Ar+束溅射沉积技术在HgCdTe表面实现了ZnS的低温沉积.用X射线光电子能借(XPS)对上述ZnS薄膜以及热蒸发ZnS薄膜中的Zn、S元素的化学环境进行了对比实验研究.实验表明:离子束溅射沉积ZnS薄膜具有很好的组份均匀性,未探测到元素Zn、S的沉积. 展开更多
关键词 硫化锌薄膜 离子束溅射沉积 XPS HGCDTE
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Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层的研究 被引量:9
13
作者 牛仕超 余志明 +3 位作者 代明江 林松盛 候惠君 李洪武 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2007年第3期34-38,共5页
采用中频磁控溅射结合离子源技术沉积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)、Raman光谱和俄歇深层剥层分别对膜层微观形貌、成分组成、键结构及梯度成分深层分布进行分析;采用努氏显微硬度计、摩擦磨损试验机... 采用中频磁控溅射结合离子源技术沉积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)、Raman光谱和俄歇深层剥层分别对膜层微观形貌、成分组成、键结构及梯度成分深层分布进行分析;采用努氏显微硬度计、摩擦磨损试验机、划痕仪及洛氏硬度计测评膜层机械性能。结果表明:采用中频磁控溅射可沉积出大面积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层;Cr溅射功率对C键结构影响不大,但表层DLC中Cr的含量和膜层厚度随中频功率增大而增大;随DLC中掺Cr量增多,膜层硬度及摩擦因数略有上升;采用梯度过渡层及掺入金属Cr提高了膜层附着力,但过高的中频功率使沉积离子能量偏高,膜层压应力增加反而降低了膜层附着性能。 展开更多
关键词 Cr-DLC 中频磁控溅射 离子源 附着力
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非致冷红外探测器用氧化钒多晶薄膜的制备 被引量:8
14
作者 王宏臣 易新建 +2 位作者 陈四海 黄光 李雄伟 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期64-66,共3页
采用离子束溅射镀膜和氧化工艺在Si(110 )和石英衬底上制备了用于非致冷红外探测器阵列热敏材料的混合相氧化钒多晶薄膜 .扫描电子显微镜 (SEM)照片显示 :薄膜表面呈针状晶粒状 ,而且薄膜表面光滑、致密 ,均匀性好 .测试结果表明 :氧化... 采用离子束溅射镀膜和氧化工艺在Si(110 )和石英衬底上制备了用于非致冷红外探测器阵列热敏材料的混合相氧化钒多晶薄膜 .扫描电子显微镜 (SEM)照片显示 :薄膜表面呈针状晶粒状 ,而且薄膜表面光滑、致密 ,均匀性好 .测试结果表明 :氧化钒薄膜的方块电阻和电阻温度系数 (TCR)在 2 0℃分别为 5 0KΩ和 - 0 .0 2 1K-1. 展开更多
关键词 非致冷红外探测器 氧化钒多晶薄膜 离子束溅射镀膜 电阻温度系数 半导体材料 薄膜结构
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离子束溅射淀积光学薄膜的膜厚均匀性实验 被引量:6
15
作者 李凌辉 熊胜明 +2 位作者 申林 刘洪祥 张云洞 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第B12期67-69,72,共4页
介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结... 介绍了离子束溅射技术改善薄膜均匀性的两种方法。研究了修正板技术,根据工程需要将修正板技术应用于行星转动条件下的光学薄膜的均匀性修正。分别研究了靶摆动和不摆动的情况下,淀积薄膜的均匀性修正。实验结果表明,修正后的均匀性结果优于 1%,能满足实际应用的要求;靶摆动修正的均匀性结果优于修正板技术。 展开更多
关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 膜厚均匀性 修正板
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离子束溅射制备Si/Ge多层膜的结晶研究 被引量:5
16
作者 邓书康 陈刚 +4 位作者 高立刚 陈亮 俞帆 刘焕林 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期288-291,共4页
采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明... 采用离子束溅射制备Si/Ge多层膜,通过X射线小角衍射计算其周期厚度及各子层的厚度,用Raman光谱对Si/Ge多层膜的微观结构及Si子层的结构进行表征。结果表明,所制备的Si/Ge多层膜中,当Ge子层的厚度为6. 2nm时, Si子层的结晶质量较好,表明适量的Ge含量有诱导Si结晶的作用。 展开更多
关键词 Si/Ge多层膜 离子束溅射 拉曼光谱 制备方法 薄膜 结构分析
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工艺参数对离子束溅射ZnO∶Al薄膜结构与性能的影响 被引量:9
17
作者 梁广兴 范平 +2 位作者 张东平 蔡兴民 郑壮豪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期529-534,共6页
以ZnO(掺杂2%Al2O3)陶瓷靶作为靶材,采用离子束溅射技术在BK7玻璃基底上制备AZO透明导电薄膜。研究不同工艺参数对ZnO∶Al(AZO)薄膜结构与光电性能的影响。结果表明,不同等离子体能量下制备的AZO薄膜均出现ZnO(002)特征衍射峰,具有纤锌... 以ZnO(掺杂2%Al2O3)陶瓷靶作为靶材,采用离子束溅射技术在BK7玻璃基底上制备AZO透明导电薄膜。研究不同工艺参数对ZnO∶Al(AZO)薄膜结构与光电性能的影响。结果表明,不同等离子体能量下制备的AZO薄膜均出现ZnO(002)特征衍射峰,具有纤锌矿结构且c轴择优取向;AZO薄膜的结晶质量和性能对基底温度有较强的依赖性,只有在适当的基底温度下,可改善结晶程度且利于颗粒的生长,呈现较低的电阻率;不同厚度的AZO薄膜均出现较强的ZnO(002)特征衍射峰且随着厚度的增加,ZnO(110)峰强度不断加强,相应晶粒尺寸变大,但缺陷也随之增多;同时得出利用离子束溅射方法制备AZO薄膜的最佳工艺为:等离子体能量为1.3 keV、基底温度200℃和沉积厚度为420 nm,该参数下制备的薄膜结晶程度较高、生长的颗粒较大,相应薄膜的电阻率较低且薄膜透射率在可见光区均达到80%以上。 展开更多
关键词 AZO薄膜 离子束溅射 微结构 光电性能
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氧化钒热敏薄膜的制备及其性质的研究 被引量:11
18
作者 周进 茹国平 +1 位作者 李炳宗 梁平治 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期291-295,共5页
报道一种制备氧化钒热敏薄膜的新方法 .采用离子束溅射 V2 O5粉末靶淀积和氮氢混合气体热处理相结合的薄膜技术 ,可制备热敏性能较好的低价氧化钒薄膜 VOx(x<2 .5 ) .对不同温度退火后氧化钒薄膜在 10~ 10 0℃范围内测定了薄层电阻... 报道一种制备氧化钒热敏薄膜的新方法 .采用离子束溅射 V2 O5粉末靶淀积和氮氢混合气体热处理相结合的薄膜技术 ,可制备热敏性能较好的低价氧化钒薄膜 VOx(x<2 .5 ) .对不同温度退火后氧化钒薄膜在 10~ 10 0℃范围内测定了薄层电阻随温度的变化 ,得到的电阻温度系数 (TCR)值为 (- 1~ - 4) % K- 1 .研究结果表明通过这种方法可在较低温度下制备氧化钒薄膜 ,这种薄膜具有较低的电阻率和较高的 TCR值 。 展开更多
关键词 氧化钒 非致冷红外微测辐射热计 离子束溅射 电阻温度系数 氮氢退火 热敏薄膜
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离子束溅射La_(0.5)Sr_(0.5)CoO_(3-δ)薄膜的XRD和XPS研究 被引量:8
19
作者 朱志强 丁铁柱 +2 位作者 张利文 王强 赵倩 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期494-499,共6页
采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)和铝酸镧(LaAlO3)上溅射RE0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜,测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构及化学状态。实验表明,随着热处理温度的升高,La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜在YSZ和LaAlO3上生长时有取向... 采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)和铝酸镧(LaAlO3)上溅射RE0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜,测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构及化学状态。实验表明,随着热处理温度的升高,La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜在YSZ和LaAlO3上生长时有取向增强的趋势,并且晶粒度增大,晶格氧减少,氧空位增加,氧输运性能提高。当热处理温度为750℃时薄膜结晶度最好,晶粒度最大,氧输运性能最好。 展开更多
关键词 离子束溅射 La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜 XRD谱 XPS谱
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离子束辅助磁控溅射制备类石墨碳膜的结构与性能研究 被引量:7
20
作者 赵蕾 付永辉 +2 位作者 刘登益 朱晓东 何家文 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期181-186,共6页
采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等... 采用离子束辅助磁控溅射技术(IBMSD)制备了高硬度、低电阻率的类石墨碳膜(GLC),用TEM和XRD考察其组成相,用XPS、FTIR和电阻率间接确定其碳键结构,并测定了不同气体和离子能量辅助轰击下制备的几组薄膜的沉积速率、成分、硬度和粗糙度等.结果表明:采用IBMSD制备的GLC是一种以sp2键为主的非晶硬质碳膜.CH4辅助轰击较Ar有利于提高沉积速率.辅助轰击能量的增大使薄膜表面粗糙度先减小后增大,硬度的变化一定程度上与粗糙度相关. 展开更多
关键词 离子束辅助沉积(ibAD) 磁控溅射 类石墨碳膜 结构
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