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微空气桥隔离的自对准AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管
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作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期132-133,136,共3页
利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流... 利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流增益截止频率fT 大于 30GHz,最高振荡频率fmax约为 5 0GHz. 展开更多
关键词 ALgaas/gaas 异质 双极晶体管 微空气桥隔离
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基于Darlington Cascode结构的SiGe异质结双极晶体管UWB低噪声放大器的设计 被引量:4
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作者 丁春宝 张万荣 +7 位作者 金冬月 谢红云 陈亮 沈佩 张东晖 刘波宇 周永强 郭振杰 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2012年第10期1070-1076,共7页
详细地分析了Cascode结构的线性度和3dB带宽,利用Cascode结构的高线性度和Darlington结构的高增益的优点构成了Darlington—Cascode结构,在此基础上,基于台积电TSMC0.35μm SiGe工艺,设计了一款芯片面积小的满足超宽带(UWB)标准... 详细地分析了Cascode结构的线性度和3dB带宽,利用Cascode结构的高线性度和Darlington结构的高增益的优点构成了Darlington—Cascode结构,在此基础上,基于台积电TSMC0.35μm SiGe工艺,设计了一款芯片面积小的满足超宽带(UWB)标准的无电感SiGe异质结双晶体管(HBT)低噪声放大器(LNA)。该放大器利用电阻反馈结构替代了电感-电容(LC)匹配网络结构,实现了输入、输出阻抗匹配,未采用无源电感,节省了芯片面积,芯片面积仅为0.046mm2,并将Darlington—Cascode结构作为LNA的输出级,既提高了增益,又提高了线性度。LNA版图仿真结果表明,在UWB频带范围内,LNA的增益为19.5~20dB,增益平坦度为4-0.25dB;输入、输出匹配良好;线性度为-5- -2dBm;在整个频段内,无条件稳定。 展开更多
关键词 低噪声放大器(LNA) SiGe异质双极晶体管(hbt) 电阻反馈 线性度 共射-共基放大器
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SiGe/Si异质结双极晶体管 被引量:3
3
作者 杨亚光 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期10-16,共7页
介绍了SiGe/Si异质结双极晶体管(HBT)的特点、自对准HBT、非自对准HBT的结构以及通过低温热循环、SPOTEL、重硼掺杂等工艺使fT从20GHz增至110GHz的方法。
关键词 hbt 设计 异质 双极晶体管
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
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作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质双极晶体管(hbt) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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InGaP/GaAs HBT器件的制备及其特性 被引量:3
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作者 周国 何先良 +3 位作者 谭永亮 杜光伟 孙希国 崔玉兴 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期279-282,320,共5页
采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得... 采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得到:保留InGaP钝化层的HBT器件最大直流增益(β)为130,最高振荡频率(fmax)大于53 GHz,功率附加效率达到61%,线性功率增益为23 dB;而去除InGaP钝化层的器件最大β为50,f_(max)大于43 GHz,功率附加效率为57%,线性功率增益为18 dB。测试结果表明,InGaP钝化层作为一种耗尽型的钝化层能有效抑制基区表面电流的复合,提高器件直流增益,改善器件的射频微波特性。 展开更多
关键词 ingap/gaas异质双极晶体管(hbt) ingap钝化 直流增益 射频微波特性 表面复合
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基于InGaP/GaAs HBT工艺X波段低相噪压控振荡器 被引量:1
6
作者 陈君涛 李世峰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期421-424,共4页
基于InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一款X波段低相噪单片集成压控振荡器(VCO),该VCO采用Colpitts双推(push-push)电路结构,芯片上集成了负阻振荡电路、分布式谐振器、变容二极管和耦合输出电路。通过优化HBT器件尺寸... 基于InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一款X波段低相噪单片集成压控振荡器(VCO),该VCO采用Colpitts双推(push-push)电路结构,芯片上集成了负阻振荡电路、分布式谐振器、变容二极管和耦合输出电路。通过优化HBT器件尺寸以降低其引入的1/f噪声,同时设计高Q值分布式谐振电路,从而有效降低了VCO的输出相位噪声。通过采用背靠背变容二极管对来增加VCO输出频率调谐带宽。测试结果表明,所设计芯片在5 V供电时的电流约180 m A,电调电压在1-13 V变化下输出频率覆盖8.8-10 GHz,典型输出功率为10 d Bm,单边带相位噪声为-115 d Bc/Hz@100 k Hz。芯片尺寸为2.5 mm×1.6 mm。 展开更多
关键词 ingap/gaas异质双极晶体管(hbt) 压控振荡器(VCO) 双推(push-push)电路 负阻 相位噪声
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基于GaAsHBT的C波段RLC负反馈功率放大器设计 被引量:1
7
作者 傅海鹏 姚攀辉 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期101-108,共8页
提出了一款基于GaAs HBT C波段的线性负反馈功率放大器(power amplifier,PA).本设计采用三级共发射极(common emitter,CE)结构,使用两种不同的有源线性偏置来提升PA的线性度,同时使用RLC负反馈网络来提高稳定性和拓展工作带宽.针对传统... 提出了一款基于GaAs HBT C波段的线性负反馈功率放大器(power amplifier,PA).本设计采用三级共发射极(common emitter,CE)结构,使用两种不同的有源线性偏置来提升PA的线性度,同时使用RLC负反馈网络来提高稳定性和拓展工作带宽.针对传统的负反馈网络结构PA的增益下降问题,RLC负反馈网络可以通过调整负反馈网络中的电感值来有效减小负反馈带来的增益下降的影响.测试结果表明:室温下,在5.1~7.4 GHz范围内,实现增益大于28 dB.在5.9~7.1 GHz的线性工作频段内,平均增益大约为29.5 dB,S11和S22均小于-10 dB;在满足无线局域网标准802.11a,采用20 MHz 64-QAM信号,EVM达到-30 dB的输出功率为18.9~22.5 dBm.在5.9~6.2 GHz时,饱和输出功率大于30 dBm,最大的附加功率效率大于35%. 展开更多
关键词 功率放大器 负反馈 异质双极晶体管(hbt)
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InGaP/GaAs微波HBT器件与电路研究及应用进展 被引量:2
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作者 林玲 徐安怀 +1 位作者 孙晓玮 齐鸣 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期5-7,共3页
概述了近年来微波InGaP/GaAs异质结双极晶管(HBT)器件和集成电路的研究和应用现状,着重阐述了HBT器件的热设计、降低偏移电压、离子注入隔离、湿法腐蚀,以及用于电路设计的等效电路模型等关键问题。
关键词 异质双极晶体管 ingap/gaas 微波单片集成电路
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Al_(0.3)Ga_(0.22)In_(0.48)P/GaAsHBT高温特性的研究
9
作者 吴杰 夏冠群 +3 位作者 束伟民 顾伟东 张兴宏 P.A.Houston 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第11期31-33,36,共4页
本文研制了Al03Ga022In048P/GaAs高温HBT器件,详细地研究了器件在300K~623K范围内HBT的直流电学特性.结果表明Al03Ga022In048P/GaAsHBT器件具有良好的高温特性,在300K~623K温度范围内,动态电流增益变化小于10%.Al03Ga022In048P/GaAsHB... 本文研制了Al03Ga022In048P/GaAs高温HBT器件,详细地研究了器件在300K~623K范围内HBT的直流电学特性.结果表明Al03Ga022In048P/GaAsHBT器件具有良好的高温特性,在300K~623K温度范围内,动态电流增益变化小于10%.Al03Ga022In048P/GaAsHBT可工作至623K,工作温度超过623K后,器件就不能正常工作,经分析发现导致HBT失效的直接原因是BC结短路.BC结短路的机制有待今后进一步探讨. 展开更多
关键词 异质 双极晶体管 高温 直流电学特性 hbt
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基于GaAs HBT工艺的低相位噪声锁相环 被引量:3
10
作者 王增双 朱大成 +2 位作者 孔祥胜 廖文生 高晓强 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第4期268-273,共6页
设计了一款低相位噪声的锁相环(PLL),该PLL主要由可编程分频器、鉴相器和锁定指示电路等组成,通过外接参考时钟、有源环路滤波器和压控振荡器(VCO)构成完整的PLL频率源。研究了PLL频率源中各个噪声源及其传递函数,通过降低可编程分频器... 设计了一款低相位噪声的锁相环(PLL),该PLL主要由可编程分频器、鉴相器和锁定指示电路等组成,通过外接参考时钟、有源环路滤波器和压控振荡器(VCO)构成完整的PLL频率源。研究了PLL频率源中各个噪声源及其传递函数,通过降低可编程分频器的相位噪声和提高鉴相器工作频率的方法,降低PLL频率源环路内的相位噪声。采用GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺对PLL进行了设计、仿真和流片,PLL芯片面积为1.95 mm×1.95 mm。测试结果表明,在电源电压5 V条件下,该PLL电流为250 mA,射频输入频率为0.01~2.2 GHz,鉴相器工作频率为0.01~1 GHz,分频比为2~32,典型归一化本底噪声为-232 dBc/Hz;当VCO输出频率为6 GHz,鉴相频率为500 MHz时,PLL频率源的相位噪声为-121 dBc/Hz@10 kHz。 展开更多
关键词 锁相环(PLL) 分频器 鉴相器 相位噪声 gaas异质双极晶体管(hbt)工艺
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重离子导致的SOI SiGe HBT的SET效应数值模拟研究
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作者 李府唐 郭刚 +4 位作者 张峥 孙浩瀚 刘翠翠 史慧琳 欧阳晓平 《半导体技术》 北大核心 2025年第7期714-722,共9页
锗硅异质结双极晶体管(SiGe HBT)具有优异的低温性能以及抗总剂量效应和位移损伤的能力,但是其对单粒子效应(SEE)较敏感。利用计算机辅助设计技术(TCAD)构建了SiGe HBT模型,研究了衬底类型、重离子入射位置、器件温度和重离子线性能量转... 锗硅异质结双极晶体管(SiGe HBT)具有优异的低温性能以及抗总剂量效应和位移损伤的能力,但是其对单粒子效应(SEE)较敏感。利用计算机辅助设计技术(TCAD)构建了SiGe HBT模型,研究了衬底类型、重离子入射位置、器件温度和重离子线性能量转移(LET)值对SiGe HBT单粒子瞬态(SET)效应的影响。研究结果表明,集电极/衬底结及其附近是器件的SET效应敏感区域,绝缘体上硅(SOI)工艺的引入有助于提高SiGe HBT的抗SEE能力。此外,载流子迁移率与自由载流子浓度是影响器件SET温度依赖性的最主要因素,随着温度进一步降低至极端低温,杂质不完全电离的影响也愈发凸显。随着LET值升高,SOI SiGe HBT的SET效应显著增强。尤其在低温与高LET耦合作用下,器件的SET电流峰值和电荷收集量远超在其他辐照条件下的。 展开更多
关键词 锗硅异质双极晶体管(SiGe hbt) 绝缘体上硅(SOI)工艺 单粒子瞬态(SET) 单粒子效应(SEE) 计算机辅助设计技术(TCAD)
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应用于WLAN的GaAs HBT功率放大器设计
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作者 傅海鹏 寇宁 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第2期122-128,共7页
提出了一款基于GaAs HBT工艺的高功率功率放大器(Power Amplifier,PA).设计采用三级放大器级联的结构以提高功率放大器的功率增益,在功率晶体管的基极处串联RC有耗稳定网络来提高稳定性及改善增益平坦度,采用电流镜有源偏置的方式提升... 提出了一款基于GaAs HBT工艺的高功率功率放大器(Power Amplifier,PA).设计采用三级放大器级联的结构以提高功率放大器的功率增益,在功率晶体管的基极处串联RC有耗稳定网络来提高稳定性及改善增益平坦度,采用电流镜有源偏置的方式提升大信号输出时的功率、效率及线性度表现,同时在输出级放大器处添加功率检测电路以得到随输出功率变化的直流电压信号.EM仿真结果表明:PA的输出频率范围为5.1~6.5 GHz,增益为33~33.7dB,S11、S22<-9.8 dB,饱和输出功率为32.8~34.9 dBm,峰值效率为38.7%~42%,在满足无线局域网标准802.11ax、调制策略为MCS7的情况下,EVM达到-30 dB时输出功率为20~21 dBm,芯片面积为1.69 mm×0.73 mm.测试结果表明:S参数测试结果与仿真结果表现出较好的一致性,PA在满足前述无线局域网标准时输出功率为13.6~19.8 dBm. 展开更多
关键词 功率放大器 线性度 异质双极晶体管(hbt)
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具有高频高压大电流优值的超结集电区SiGe HBT 被引量:1
13
作者 金冬月 王肖 +4 位作者 张万荣 高光渤 赵馨仪 郭燕玲 付强 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期994-1000,共7页
为了在兼顾特征频率(fT)和电流增益(β)的情况下有效提高器件的击穿电压(BVCBO/BVCEO),利用SILVACO TCAD建立了npn型超结集电区Si Ge异质结双极晶体管(heterojunction bipolar transistor,HBT)的器件模型.研究表明:通过在集电结空间电荷... 为了在兼顾特征频率(fT)和电流增益(β)的情况下有效提高器件的击穿电压(BVCBO/BVCEO),利用SILVACO TCAD建立了npn型超结集电区Si Ge异质结双极晶体管(heterojunction bipolar transistor,HBT)的器件模型.研究表明:通过在集电结空间电荷区(collector-base space charge region,CB SCR)内引入p型超结层可有效降低"死区"内的电场强度,使较高的电场强度转移至"死区"外较深的CB SCR内,进而在几乎不增加CB SCR宽度的情况下抑制碰撞电离,达到提高击穿电压、改善fT和β的目的.随着p型超结层厚度(dp)的增加,击穿电压BVCBO和BVCEO的改善也越明显.但dp值需优化,较大的dp值将引发Kirk效应,大幅降低器件的fT和β.进一步通过优化p型超结层的dp值,设计出一款dp为0.2μm且具有高频高压大电流优值(fT×BVCEO×β)的新型超结集电区Si Ge HBT.结果表明:与传统Si Ge HBT相比,新器件的fT×BVCEO×β优值改善高达35.5%,有效拓展了功率Si Ge HBT的高压大电流工作范围. 展开更多
关键词 SiGe异质双极晶体管(hbt) 击穿电压
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SiGe HBT基区渡越时间模型 被引量:11
14
作者 林大松 张鹤鸣 +2 位作者 戴显英 孙建诚 何林 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期456-461,共6页
建立了SiGeHBT基区渡越时间模型 .该模型考虑了电流密度及基区掺杂和Ge组分所引起的各种物理效应 ,适用于基区掺杂和Ge组分为均匀和非均匀分布 ,以及器件在小电流到大电流密度下的应用 .模拟结果表明 ,基区集电结边界处载流子浓度引起... 建立了SiGeHBT基区渡越时间模型 .该模型考虑了电流密度及基区掺杂和Ge组分所引起的各种物理效应 ,适用于基区掺杂和Ge组分为均匀和非均匀分布 ,以及器件在小电流到大电流密度下的应用 .模拟结果表明 ,基区集电结边界处载流子浓度引起的基区附加延时对基区渡越时间有较大的影响 . 展开更多
关键词 异质双极晶体管 锗化硅 hbt 基区渡越时间模型
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UVCVD/UHVCVD技术制备SiGe HBT材料 被引量:4
15
作者 戴显英 胡辉勇 +1 位作者 张鹤鸣 孙建诚 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期306-308,325,共4页
介绍了一种新的制备SiGe/Si材料的化学气相沉积技术.该技术组合了紫外光化学气相沉积和超高真空化学气相沉积两种技术的优点,具有超高真空背景和低温淀积的特点.应用该技术在10-7Pa超高真空背景、450℃淀积温度及低于10Pa反应压力的条件... 介绍了一种新的制备SiGe/Si材料的化学气相沉积技术.该技术组合了紫外光化学气相沉积和超高真空化学气相沉积两种技术的优点,具有超高真空背景和低温淀积的特点.应用该技术在10-7Pa超高真空背景、450℃淀积温度及低于10Pa反应压力的条件下,外延生长了器件级SiGeHBT材料.SIMS分析表明,材料层界面清晰,Ge组分和掺杂分布平坦.此外,还研制出了SiGeHBT器件. 展开更多
关键词 紫外光化学气相沉积 超高真空化学气相沉积 SIGE异质双极晶体管 hbt UVCVD UHVCVD
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低温SiGe/Si HBT的研制及性能分析 被引量:1
16
作者 徐晨 沈光地 +5 位作者 邹德恕 陈建新 邓军 魏欢 杜金玉 高国 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期285-286,274,共3页
用MBE(分子束外延 ,MolecularBeamEpitaxy)生长的材料研制了在低温工作的SiGe/SiHBT(异质结双极型晶体管 ,HeterojunctionBipolarTransistor) .其在液氮下的直流增益hfe(Ic/Ib)为 16 0 0 0 ,交流增益 β(ΔIc/ΔIb)为 2 6 0 0 0 ,分别... 用MBE(分子束外延 ,MolecularBeamEpitaxy)生长的材料研制了在低温工作的SiGe/SiHBT(异质结双极型晶体管 ,HeterojunctionBipolarTransistor) .其在液氮下的直流增益hfe(Ic/Ib)为 16 0 0 0 ,交流增益 β(ΔIc/ΔIb)为 2 6 0 0 0 ,分别比室温增益提高 5 1和 73倍 .测试了该HBT直流特性从室温到液氮范围内随温度的变化 ,并作了分析讨论 . 展开更多
关键词 SIGE/SI hbt 分子束外延 异质双极晶体管 低温电子学
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超薄基区SiGe HBT基区渡越时间模型
17
作者 李垚 廖小平 +2 位作者 吴晓洁 魏同立 许居衍 《应用科学学报》 CAS CSCD 2000年第3期259-262,共4页
通过分析SiGe HBT超薄基区中非平衡效应对载流子温度,扩散系数等参量的影响,建立了超薄SiGeHBT基区渡越时间模型。
关键词 SIGE 异质双极晶体管 超薄基区 hbt
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一种低附加相位噪声的放大器设计
18
作者 王增双 张加程 +1 位作者 朱大成 耿栋 《微波学报》 北大核心 2025年第4期67-70,76,共5页
文中设计了一款低附加相位噪声的达林顿放大器。文中首先介绍了放大器的噪声系数和附加相位噪声的基本概念,然后通过公式推导的方式阐述了两者的关系,最后通过工艺选择、电路优化等方面来降低放大器的附加相位噪声。该放大器采用GaAs异... 文中设计了一款低附加相位噪声的达林顿放大器。文中首先介绍了放大器的噪声系数和附加相位噪声的基本概念,然后通过公式推导的方式阐述了两者的关系,最后通过工艺选择、电路优化等方面来降低放大器的附加相位噪声。该放大器采用GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺进行了设计仿真和流片,芯片尺寸为0.6 mm×0.6 mm×0.1 mm。测试结果表明,在电源电压为+5 V条件下,该放大器电流为60 mA,工作频率为0.01 GHz~2.00 GHz,P1 dB为19 dBm,噪声系数为2.7 dB,工作频率100 MHz时的附加相位噪声为-162 dBc/Hz@1 kHz、-170 dBc/Hz@10 kHz、-172 dBc/Hz@100 kHz。 展开更多
关键词 附加相位噪声 达林顿放大器 噪声系数 gaas异质双极晶体管工艺
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SiGe HBT高增益宽带低噪声放大器设计 被引量:2
19
作者 李国军 徐永祥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期259-262,296,共5页
基于锗硅异质结双极晶体管(SiGe HBT)工艺设计了一款单片集成高增益宽带低噪声放大器(LNA)。该放大器采用复合型电阻负反馈结构,通过调整不同的反馈电阻,同时实现了良好的端口匹配、低噪声系数和高增益等特性,适合于射频或中频信号处理... 基于锗硅异质结双极晶体管(SiGe HBT)工艺设计了一款单片集成高增益宽带低噪声放大器(LNA)。该放大器采用复合型电阻负反馈结构,通过调整不同的反馈电阻,同时实现了良好的端口匹配、低噪声系数和高增益等特性,适合于射频或中频信号处理系统。芯片采用板上芯片(COB)方式测试,结果表明:在10~800 MHz工作频带内,单片集成低噪声放大器的噪声系数为1.62~1.90 dB,增益35 dB,输入输出端口反射系数分别小于-16 dB和-13 dB,1 dB压缩点输出功率为13 dBm,工作电流35 mA。单片集成低噪声放大器的芯片面积仅为0.48 mm×0.38 mm。 展开更多
关键词 锗硅异质双极晶体管(hbt) 高增益 宽带 低噪声放大器(LNA) 噪声系数(NF)
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SiGe HBT小信号和大信号建模与分析 被引量:3
20
作者 孟煜晗 何庆国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期520-526,共7页
基于异质结双极晶体管(HBT)优良的微波特性,精确建模对使用该类器件进行电路设计具有重要的意义。介绍了HBT所具有的独特优越性,采用Gummel-Poon等效电路模型对常用HBT进行了小信号和大信号模型的建立,加入了寄生电感等效衬底寄生参数,... 基于异质结双极晶体管(HBT)优良的微波特性,精确建模对使用该类器件进行电路设计具有重要的意义。介绍了HBT所具有的独特优越性,采用Gummel-Poon等效电路模型对常用HBT进行了小信号和大信号模型的建立,加入了寄生电感等效衬底寄生参数,测试了SiGe HBT在不同偏置下的S参数及I-V特性曲线,利用半解析方法分析了非线性模型的参数提取,讨论了本征参数和寄生参数的拟合优化。给出了关于HBT大信号和小信号等效电路模型,对比实测参数进行验证,建立模型在测试频率范围内拟合结果和测试结果吻合良好。 展开更多
关键词 SIGE 异质双极晶体管(hbt) 建模 大小信号 参数提取
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