用 PL谱测试研究了 Ga As和不同 In组份 Inx Ga1 - x As(x=0 .1,0 .2 ,0 .3)覆盖层对分子束外延生长的 In As/Ga As自组织量子点发光特性的影响 .用 Inx Ga1 - x As外延层覆盖 In As/ Ga As量子点 ,比用 Ga As做覆盖层其发光峰能量向低...用 PL谱测试研究了 Ga As和不同 In组份 Inx Ga1 - x As(x=0 .1,0 .2 ,0 .3)覆盖层对分子束外延生长的 In As/Ga As自组织量子点发光特性的影响 .用 Inx Ga1 - x As外延层覆盖 In As/ Ga As量子点 ,比用 Ga As做覆盖层其发光峰能量向低能端移动 ,发光峰半高宽变窄 ,量子点发光峰能量随温度的红移幅度变小 .理论计算证实这是由于覆盖层 Inx Ga1 - x As减小了 In As表面应力导致发光峰红移 ,而 In元素有效抑制了 In As/ Ga As界面组份的混杂 ,量子点的均匀性得到改善 ,PL 谱半高宽变窄 .用 In Ga As覆盖的 In0 .5 Ga0 .5 As/ Ga As自组织量子点实现了 1.3μm发光 ,室温下 PL谱半高宽为 19.2 me V。展开更多
针对高应变InGaAs/GaAs多量子阱中存在的局域态问题,利用金属有机化合物气相外延(MOCVD)技术,设计并生长了五周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs高应变多量子阱材料。通过原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和变温光致发光(Photolum...针对高应变InGaAs/GaAs多量子阱中存在的局域态问题,利用金属有机化合物气相外延(MOCVD)技术,设计并生长了五周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs高应变多量子阱材料。通过原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和变温光致发光(Photoluminescence,PL)测试,发现量子阱内部存在缺陷及组分波动的材料无序性表现,验证了多量子阱内部局域态的存在及起源。同时发现在不同测试位置,局域态在低温下对光谱的影响也不同,分别表现为双峰分布和峰位“S”型变化。这进一步说明材料内部无序化程度不同,导致局域态的深度也不同。依据温度-带隙关系的拟合,提出了包含局域态的多量子阱材料的电势分布,并揭示了局域态载流子和自由载流子的复合机制。并且借助变功率PL测试,研究了在不同激发功率密度下不同深度的局域态的发光特性。展开更多
文摘用 PL谱测试研究了 Ga As和不同 In组份 Inx Ga1 - x As(x=0 .1,0 .2 ,0 .3)覆盖层对分子束外延生长的 In As/Ga As自组织量子点发光特性的影响 .用 Inx Ga1 - x As外延层覆盖 In As/ Ga As量子点 ,比用 Ga As做覆盖层其发光峰能量向低能端移动 ,发光峰半高宽变窄 ,量子点发光峰能量随温度的红移幅度变小 .理论计算证实这是由于覆盖层 Inx Ga1 - x As减小了 In As表面应力导致发光峰红移 ,而 In元素有效抑制了 In As/ Ga As界面组份的混杂 ,量子点的均匀性得到改善 ,PL 谱半高宽变窄 .用 In Ga As覆盖的 In0 .5 Ga0 .5 As/ Ga As自组织量子点实现了 1.3μm发光 ,室温下 PL谱半高宽为 19.2 me V。
文摘针对高应变InGaAs/GaAs多量子阱中存在的局域态问题,利用金属有机化合物气相外延(MOCVD)技术,设计并生长了五周期的In_(0.3)Ga_(0.7)As/GaAs高应变多量子阱材料。通过原子力显微镜(Atomic force microscope,AFM)和变温光致发光(Photoluminescence,PL)测试,发现量子阱内部存在缺陷及组分波动的材料无序性表现,验证了多量子阱内部局域态的存在及起源。同时发现在不同测试位置,局域态在低温下对光谱的影响也不同,分别表现为双峰分布和峰位“S”型变化。这进一步说明材料内部无序化程度不同,导致局域态的深度也不同。依据温度-带隙关系的拟合,提出了包含局域态的多量子阱材料的电势分布,并揭示了局域态载流子和自由载流子的复合机制。并且借助变功率PL测试,研究了在不同激发功率密度下不同深度的局域态的发光特性。
