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Effect of GaInP and GaAsP inserted into waveguide/barrier interface on carrier leakage in InAlGaAs quantum well 808-nm laser diode
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作者 FU Meng-jie DONG Hai-liang +3 位作者 JIA Zhi-gang JIA Wei LIANG Jian XU Bing-she 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第1期186-197,共12页
There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresse... There is nonradiative recombination in waveguide region owing to severe carrier leakage,which in turn reduces output power and wall-plug efficiency.In this paper,we designed a novel epitaxial structure,which suppresses carrier leakage by inserting n-Ga_(0.55)In_(0.45)P and p-GaAs_(0.6)P_(0.4) between barriers and waveguide layers,respectively,to modulate the energy band structure and to increase the height of barrier.The results show that the leakage current density reduces by 87.71%,compared to traditional structure.The nonradiative recombination current density of novel structure reduces to 37.411 A/cm^(2),and the output power reaches 12.80 W with wall-plug efficiency of 78.24%at an injection current density 5 A/cm^(2) at room temperature.In addition,the temperature drift coefficient of center wavelength is 0.206 nm/℃at the temperature range from 5℃to 65℃,and the slope of fitted straight line of threshold current with temperature variation is 0.00113.The novel epitaxial structure provides a theoretical basis for achieving high-power laser diode. 展开更多
关键词 808-nm laser diode Ga_(0.55)In_(0.45)P and GaAs_(0.6)P_(0.4)insertion layers inalgaas quantum well carrier leakage
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AlGaAs插入结构对InAlGaAs/AlGaAs多量子阱发光特性的影响
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作者 赵书存 王海珠 +4 位作者 王登魁 甘露露 王祯胜 吕明辉 马晓辉 《发光学报》 北大核心 2025年第4期683-690,共8页
InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理... InAlGaAs/AlGaAs多量子阱(MQWs)因其较宽的光谱范围,在近红外及可见光区域受到越来越多的关注,并已经成为新兴的研究热点。本研究采用MOCVD生长技术制备InAlGaAs/AlGaAs多量子阱材料,依据选取插入层(ISL)材料时需要考虑的主要因素及理论计算,探究插入层结构对量子阱发光性质的影响。设计并生长了无插入层的InAlGaAs量子阱及不同厚度不同Al组分的AlGaAs插入层。实验结果表明,插入层的引入显著提高了量子阱的发光强度,虽然样品中本身存在局域态,但插入层的存在并未引入更多局域态,同时插入层的存在不会改变量子阱中载流子复合机制。研究结果为InAlGaAs量子阱的结构优化及插入层技术提供了重要的理论分析和实验数据,表明通过合理设计插入层可以显著提高InAlGaAs量子阱的光学性能。 展开更多
关键词 inalgaas多量子阱 插入层 金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
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InP衬底上晶格匹配四元系InAlGaAs的气态源分子束外延生长(英文)
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作者 王凯 顾溢 +4 位作者 方祥 周立 李成 李好斯白音 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期385-388,398,共5页
采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着A... 采用高分辨率X射线衍射摇摆曲线、光致发光以及霍尔测试对采用气态源分子束外延方法生长的四元系In-AlGaAs材料性质进行了表征。摇摆曲线结果表明,根据计算数据所生长的InAlGaAs样品与InP衬底基本匹配.光致发光和霍尔测试结果显示随着Al组分的增加,样品的光致发光强度、电子浓度和迁移率均有所下降.样品的三族元素组分由光致发光及X射线衍射实验获得,测试结果与设计值吻合,Al组分的实验设计值与测试结果的关系提供了一种实用的精确控制组分的方法. 展开更多
关键词 化合物半导体 分子束外延 inalgaas X射线衍射 光致发光
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