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InAlAs/InGaAs/InP基PHEMTs小信号建模及低噪声应用(英文) 被引量:1
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作者 刘军 于伟华 +3 位作者 杨宋源 侯彦飞 崔大胜 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期683-687,共5页
利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管... 利用改进的小信号模型对采用100nmInAlAs/InGaAs/InP工艺设计实现的PHEMTs器件进行建模,并设计实现了一款W波段单片低噪声放大器进行信号模型的验证。为了进一步改善信号模型低频S参数拟合差的精度,该小信号模型考虑了栅源和栅漏二极管微分电阻,在等效电路拓扑中分别用Rfs和Rfd表示.为了验证模型的可行性,基于该信号模型研制了W波段低噪声放大器单片.在片测试结果表明:最大小信号增益为14.4dB@92.5GHz,3dB带宽为25GHz@85-110GHz.而且,该放大器也表现出了良好的噪声特性,在88GHz处噪声系数为4.1dB,相关增益为13.8dB.与同频段其他芯片相比,该放大器单片具有宽3dB带宽和高的单级增益. 展开更多
关键词 inalas/ingaas/inp 赝高电子迁移率晶体管(PHEMTs) 小信号模型 毫米波和亚毫米波 单片微波集成电路(MMIC) 低噪声放大器
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栅长90nm的晶格匹配InAlAs/InGaAs/InP HEMT 被引量:1
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作者 高喜庆 高建峰 +1 位作者 康耀辉 张政 《电子与封装》 2009年第7期34-36,共3页
文章报道了90nm栅长的晶格匹配InP基HEMT器件。栅图形是通过80kV的电子束直写的,并采用了优化的三层胶工艺。器件做在匹配的InAlAs/InGaAs/InPHEMT材料上。当Vds=1.0V时,两指75μm栅宽器件的本征峰值跨导达到720ms/mm,最大电流密度为500... 文章报道了90nm栅长的晶格匹配InP基HEMT器件。栅图形是通过80kV的电子束直写的,并采用了优化的三层胶工艺。器件做在匹配的InAlAs/InGaAs/InPHEMT材料上。当Vds=1.0V时,两指75μm栅宽器件的本征峰值跨导达到720ms/mm,最大电流密度为500mA/mm,器件的阈值电压为-0.8V,截止频率达到127GHz,最大振荡频率达到152GHz。 展开更多
关键词 截止频率 高电子迁移率晶体管 inalas/ingaas inp
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电流增益截止频率为441 GHz的InGaAs/InAlAs InP HEMT
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作者 封瑞泽 曹书睿 +4 位作者 冯识谕 周福贵 刘同 苏永波 金智 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期329-333,共5页
本文设计并制作了fT>400 GHz的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT)。采用窄栅槽技术优化了寄生电阻。器件栅长为54.4 nm,栅宽为2×50μm。最大漏极电流IDS.max为957 mA/mm,最大跨导gm.... 本文设计并制作了fT>400 GHz的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As铟磷高电子迁移率晶体管(InP HEMT)。采用窄栅槽技术优化了寄生电阻。器件栅长为54.4 nm,栅宽为2×50μm。最大漏极电流IDS.max为957 mA/mm,最大跨导gm.max为1265 mS/mm。即使在相对较小的VDS=0.7 V下,电流增益截止频率fT达到了441 GHz,最大振荡频率fmax达到了299 GHz。该器件可应用于太赫兹单片集成放大器和其他电路中。 展开更多
关键词 铟磷高电子迁移率晶体管(inp HEMTs) ingaas/inalas 电流增益截止频率(f_(T)) 最大振荡频率(f_(max)) 栅槽
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InGaAs(InAlAs)/InP和InP/InAlAs湿法选择腐蚀研究
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作者 赵永林 蔡道明 +2 位作者 周州 郭亚娜 刘跳 《微纳电子技术》 CAS 2005年第11期515-517,共3页
介绍了两种选择腐蚀液对InGaAs(InAlAs)I/nP和InPI/nAlAs异质结构材料选择腐蚀的实验结果,重点介绍在InAlAs上面生长InP的湿法选择腐蚀,用HClH∶3PO4C∶H3COOH系列腐蚀液,InPI/nAlAs选择比大于300。InPI/nAlAs湿法选择腐蚀的结果可以很... 介绍了两种选择腐蚀液对InGaAs(InAlAs)I/nP和InPI/nAlAs异质结构材料选择腐蚀的实验结果,重点介绍在InAlAs上面生长InP的湿法选择腐蚀,用HClH∶3PO4C∶H3COOH系列腐蚀液,InPI/nAlAs选择比大于300。InPI/nAlAs湿法选择腐蚀的结果可以很好应用到OEIC芯片制作中,并取得了较好的器件及电路结果。 展开更多
关键词 湿法选择腐蚀 选择比 inp/inalas 光电子集成电路
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太赫兹InP基InAlAs/InGaAs PHEMTs的研制(英文) 被引量:3
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作者 王志明 黄辉 +6 位作者 胡志富 赵卓彬 崔玉兴 孙希国 李亮 付兴昌 吕昕 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期135-139,共5页
研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 64... 研制了一种T型栅长为90 nm的InP基In_(0.52)Al_(0.48)As/In_(0.65)Ga_(0.35)As赝配高电子迁移率晶体管(PHEMTs).该器件的总栅宽为2×25μm,展现了极好的DC直流和RF射频特性,其最大饱和电流密度和最大有效跨导分别为894 m A/mm和1 640 m S/mm.采用LRM+(Line-Reflect-Reflect-Match)校准方法实现系统在1~110 GHz全频段内一次性校准,减小了传统的分段测试多次校准带来的误差,且测试数据的连续性较好.在国内完成了器件的1~110 GHz全频段在片测试,基于1~110 GHz在片测试的S参数外推获得的截止频率ft和最大振荡频率f_(max)分别为252 GHz和394 GHz.与传统的测试到40 GHz外推相比,本文外推获得的f_(max)更加准确.这些结果的获得是由于栅长的缩短,寄生效应的减小以及1~110 GHz全频段在片测试的实现.器件的欧姆接触电阻率减小为0.035Ω·mm. 展开更多
关键词 磷化铟 赝配高电子迁移率晶体管 inalas/ingaas 在片测试 单片集成电路
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InP衬底上InAlAs异变缓冲层和高铟组分InGaAs的生长温度优化(英文) 被引量:1
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作者 张见 陈星佑 +6 位作者 顾溢 龚谦 黄卫国 杜奔 黄华 马英杰 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第6期699-703,710,共6页
利用气态源分子束外延技术在InP衬底上生长了包含InAlAs异变缓冲层的In0.83Ga0.17As外延层.使用不同生长温度方案生长的高铟InGaAs和InAlAs异变缓冲层的特性分别通过高分辨X射线衍射倒易空间图、原子力显微镜、光致发光和霍尔等测量手... 利用气态源分子束外延技术在InP衬底上生长了包含InAlAs异变缓冲层的In0.83Ga0.17As外延层.使用不同生长温度方案生长的高铟InGaAs和InAlAs异变缓冲层的特性分别通过高分辨X射线衍射倒易空间图、原子力显微镜、光致发光和霍尔等测量手段进行了表征.结果表明,InAlAs异变缓冲层的生长温度越低,X射线衍射倒易空间图(004)反射面沿Qx方向的衍射峰半峰宽就越宽,外延层和衬底之间的倾角就越大,同时样品表面粗糙度越高.这意味着材料的缺陷增加,弛豫不充分.对于生长在具有相同生长温度的InAlAs异变缓冲层上的In0.83Ga0.17As外延层,采用较高的生长温度时,X射线衍射倒易空间图(004)反射面沿Qx方向的衍射峰半峰宽较小,77K下有更强的光致发光,但是表面粗糙度会有所增加.这说明生长温度提高后,材料中的缺陷得到抑制. 展开更多
关键词 分子束外延 ingaas inalas异变缓冲层 生长温度
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Effects of proton irradiation at different incident angles on InAlAs/InGaAs InP-based HEMTs 被引量:1
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作者 孙树祥 魏志超 +6 位作者 夏鹏辉 王文斌 段智勇 李玉晓 钟英辉 丁芃 金智 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第2期625-629,共5页
InP-based high electron mobility transistors(HEMTs) will be affected by protons from different directions in space radiation applications. The proton irradiation effects on InAlAs/InGaAs hetero-junction structures o... InP-based high electron mobility transistors(HEMTs) will be affected by protons from different directions in space radiation applications. The proton irradiation effects on InAlAs/InGaAs hetero-junction structures of InP-based HEMTs are studied at incident angles ranging from 0 to 89.9° by SRIM software. With the increase of proton incident angle, the change trend of induced vacancy defects in the InAlAs/InGaAs hetero-junction region is consistent with the vacancy energy loss trend of incident protons. Namely, they both have shown an initial increase, followed by a decrease after incident angle has reached 30°. Besides, the average range and ultimate stopping positions of incident protons shift gradually from buffer layer to hetero-junction region, and then go up to gate metal. Finally, the electrical characteristics of InP-based HEMTs are investigated after proton irradiation at different incident angles by Sentaurus-TCAD. The induced vacancy defects are considered self-consistently through solving Poisson's and current continuity equations. Consequently, the extrinsic transconductance, pinch-off voltage and channel current demonstrate the most serious degradation at the incident angle of 30?, which can be accounted for the most severe carrier sheet density reduction under this condition. 展开更多
关键词 proton irradiation inp-based HEMTs inalas/ingaas hetero-junction incident angle
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采用InGaAs或InAlAs缓冲层的高In组分InGaAs探测器结构材料特性(英文) 被引量:3
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作者 顾溢 王凯 +3 位作者 李成 方祥 曹远迎 张永刚 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期481-485,共5页
利用气态源分子束外延在InP衬底上生长了具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs连续递变缓冲层的高In组分In0.78Ga0.22As探测器结构.通过原子力显微镜、X射线衍射、透射电子显微镜和光致发光对它们的特性进行了表征和比较.结果表明,具有InxGa1-xAs... 利用气态源分子束外延在InP衬底上生长了具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs连续递变缓冲层的高In组分In0.78Ga0.22As探测器结构.通过原子力显微镜、X射线衍射、透射电子显微镜和光致发光对它们的特性进行了表征和比较.结果表明,具有InxGa1-xAs或InxAl1-xAs缓冲层的结构都能获得较平整的表面;具有InxGa1-xAs缓冲层的探测器结构表现出更大的剩余应力;具有InxAl1-xAs缓冲层的探测器结构所观察到的光学特性更优. 展开更多
关键词 光电探测器 高In组分 缓冲层 ingaas inalas
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Impact of gate offset in gate recess on DC and RF performance of InAlAs/InGaAs InP-based HEMTs
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作者 Shurui Cao Ruize Feng +3 位作者 Bo Wang Tong Liu Peng Ding Zhi Jin 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第5期720-724,共5页
A set of 100-nm gate-length In P-based high electron mobility transistors(HEMTs)were designed and fabricated with different gate offsets in gate recess.A novel technology was proposed for independent definition of gat... A set of 100-nm gate-length In P-based high electron mobility transistors(HEMTs)were designed and fabricated with different gate offsets in gate recess.A novel technology was proposed for independent definition of gate recess and T-shaped gate by electron beam lithography.DC and RF measurement was conducted.With the gate offset varying from drain side to source side,the maximum drain current(I_(ds,max))and transconductance(g_(m,max))increased.In the meantime,fTdecreased while f;increased,and the highest fmax of 1096 GHz was obtained.It can be explained by the increase of gate-source capacitance and the decrease of gate-drain capacitance and source resistance.Output conductance was also suppressed by gate offset toward source side.This provides simple and flexible device parameter selection for HEMTs of different usages. 展开更多
关键词 inp HEMT ingaas/inalas cut-off frequency(fT) maximum oscillation frequency(fmax) asymmetric gate recess
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GaAs基InAlAs/InGaAsMHEMT直流特性研究 被引量:2
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作者 李献杰 敖金平 +4 位作者 曾庆明 刘伟吉 徐晓春 刘式墉 梁春广 《固体电子学研究与进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期235-237,共3页
报道了用 MBE技术生长的 Ga As基 In Al As/In Ga As改变结构高电子迁移率晶体管 (MHEMT)的制作过程和器件的直流性能。对于栅长为 0 .8μm的器件 ,最大非本征跨导和饱和电流密度分别为 3 5 0 m S/mm和1 90 m A/mm。源漏击穿电压和栅反... 报道了用 MBE技术生长的 Ga As基 In Al As/In Ga As改变结构高电子迁移率晶体管 (MHEMT)的制作过程和器件的直流性能。对于栅长为 0 .8μm的器件 ,最大非本征跨导和饱和电流密度分别为 3 5 0 m S/mm和1 90 m A/mm。源漏击穿电压和栅反向击穿电压分别为 4V和 7.5 V。这些直流特性超过了相同的材料和工艺条件下 Ga As基 PHEMT的水平 ,与 In P基 In Al As/In Ga As 展开更多
关键词 MHEMT 直流特性 砷化镓 铟铝砷 铟镓砷 电子迁移率晶体管
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掺杂InGaAs/InAlAs单量子阱中电子对称态和反对称态磁输运研究 被引量:1
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作者 仇志军 桂永胜 +6 位作者 崔利杰 曾一平 黄志明 疏小舟 戴宁 郭少令 禇君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期329-332,共4页
利用变温Hall测量研究了重掺杂InGaAs/InAlAs单量子阱中二维电子气 ,发现在量子阱中由于存在电子对称态和反对称态导致纵向电阻出现拍频现象。通过分析拍频节点位置 ,得到电子对称态和反对称态之间的能级间距为 4meV。此外 ,通过迁移率... 利用变温Hall测量研究了重掺杂InGaAs/InAlAs单量子阱中二维电子气 ,发现在量子阱中由于存在电子对称态和反对称态导致纵向电阻出现拍频现象。通过分析拍频节点位置 ,得到电子对称态和反对称态之间的能级间距为 4meV。此外 ,通过迁移率谱方法和多载流子拟合过程研究了不同迁移率电子的浓度和迁移率随温度的变化关系 . 展开更多
关键词 单量子阱 二维电子气 输运 迁移率 载流子 拍频现象 掺杂 电子对 对称 能级
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InGaAs/InAlAs量子级联激光器研究 被引量:1
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作者 张权生 刘峰奇 +3 位作者 张永照 王占国 Honghai Gao A.Krier 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期41-43,共3页
简要报道了自行研制的 In Ga As/ In Al As量子级联激光器的制备及其主要特性 .该器件具有增强型脊型波导结构 ,在 80 K时阈值电流为 0 .5 A,相应的阈值电流密度为 5 KA/ cm2 .
关键词 量子级联 激光器 制备 V-I特性 光功率/电流特性 发光特性 ingaas inalas 半导体激光器
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MBE脱氧条件与InGaAs/InP APD性能的相关性
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作者 郭子路 王文娟 +7 位作者 曲会丹 范柳燕 诸毅诚 王亚杰 郑长林 王兴军 陈平平 陆卫 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期63-69,共7页
InP基InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)对近红外光具有高敏感度,使其成为微弱信号和单光子探测的理想光电器件。然而随着先进器件结构越来越复杂,厚度尺寸从量子点到几微米不等,性能越来越受材料中晶格缺陷的影响和工艺条件的制约。采用... InP基InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)对近红外光具有高敏感度,使其成为微弱信号和单光子探测的理想光电器件。然而随着先进器件结构越来越复杂,厚度尺寸从量子点到几微米不等,性能越来越受材料中晶格缺陷的影响和工艺条件的制约。采用固态源分子束外延(MBE)技术分别在As和P气氛保护下对InP衬底进行脱氧处理并外延生长晶格匹配的In_(0.53)Ga_(0.47)As薄膜和APD结构材料。实验结果表明,As脱氧在MBE材料质量方面比P脱氧具有明显的优势,可获得陡直明锐的异质结界面,降低载流子浓度,提高霍尔迁移率,延长少子寿命,并抑制器件中点缺陷或杂质缺陷引起的暗电流。因此,As脱氧可以有效提高MBE材料的质量,这项工作优化了InP衬底InGaAs/InP外延生长参数和器件制造条件。 展开更多
关键词 分子束外延 P/As切换 异质界面扩散 ingaas/inp雪崩光电二极管
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低温InGaAs/InAlAs多量子阱的分子束外延生长与表征
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作者 万文坚 尹嵘 +3 位作者 韩英军 王丰 郭旭光 曹俊诚 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1523-1526,共4页
采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电... 采用气源分子束外延(GSMBE)生长了低温InGaAs材料,研究了生长温度及As压对InGaAs材料性质的影响,得到优化的生长条件为:生长温度为300℃、As压为77.3kPa。通过Be掺杂,并采用In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As多量子阱结构,将材料的方块电阻提高到1.632×106Ω/Sq,载流子数密度降低至1.058×1014 cm-3。X射线衍射结果表明:InGaAs多量子阱材料具有较高的晶体质量。这种Be掺杂InGaAs多量子阱材料缺陷密度大且电阻率高,是制作太赫兹光电导天线较理想的基质材料。 展开更多
关键词 低温ingaas ingaas inalas 多量子阱 分子束外延
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Research on the correlation between the dual diffusion behavior of zinc in InGaAs/InP single-photon avalanche photodiodes and device performance
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作者 LIU Mao-Fan YU Chun-Lei +7 位作者 MA Ying-Jie YU Yi-Zhen YANG Bo TIAN Yu BAO Peng-Fei CAO Jia-Sheng LIU Yi LI Xue 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期595-602,共8页
The development of InGaAs/InP single-photon avalanche photodiodes(SPADs)necessitates the utiliza-tion of a two-element diffusion technique to achieve accurate manipulation of the multiplication width and the dis-tribu... The development of InGaAs/InP single-photon avalanche photodiodes(SPADs)necessitates the utiliza-tion of a two-element diffusion technique to achieve accurate manipulation of the multiplication width and the dis-tribution of its electric field.Regarding the issue of accurately predicting the depth of diffusion in InGaAs/InP SPAD,simulation analysis and device development were carried out,focusing on the dual diffusion behavior of zinc atoms.A formula of X_(j)=k√t-t_(0)+c to quantitatively predict the diffusion depth is obtained by fitting the simulated twice-diffusion depths based on a two-dimensional(2D)model.The 2D impurity morphologies and the one-dimensional impurity profiles for the dual-diffused region are characterized by using scanning electron micros-copy and secondary ion mass spectrometry as a function of the diffusion depth,respectively.InGaAs/InP SPAD devices with different dual-diffusion conditions are also fabricated,which show breakdown behaviors well consis-tent with the simulated results under the same junction geometries.The dark count rate(DCR)of the device de-creased as the multiplication width increased,as indicated by the results.DCRs of 2×10^(6),1×10^(5),4×10^(4),and 2×10^(4) were achieved at temperatures of 300 K,273 K,263 K,and 253 K,respectively,with a bias voltage of 3 V,when the multiplication width was 1.5µm.These results demonstrate an effective prediction route for accu-rately controlling the dual-diffused zinc junction geometry in InP-based planar device processing. 展开更多
关键词 ingaas/inp single-photon avalanche photodiode diffusion depth Znic diffusion dark count rate
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InGaAs/InAlAs多量子阱电吸收光调制器
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作者 金峰 孙可 +5 位作者 俞谦 王健华 李德杰 蔡丽红 黄绮 周钧铭 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 1997年第6期24-26,共3页
在国内首次设计并制作了脊波导结构的In(0.53)Ga(0.47)As/In(0.52)Al(0.48)AS多量子阱电吸收型光调制器,并对它的工作特性进行了测试。在3.0V的驱动电压下实现了20dB以上的消光比,光3dB带宽达到了3GHz。对限制光调制器带宽的主要原... 在国内首次设计并制作了脊波导结构的In(0.53)Ga(0.47)As/In(0.52)Al(0.48)AS多量子阱电吸收型光调制器,并对它的工作特性进行了测试。在3.0V的驱动电压下实现了20dB以上的消光比,光3dB带宽达到了3GHz。对限制光调制器带宽的主要原因进行了分析,结果表明器件电容限制了带宽的提高,这主要是由于SiO2刻蚀液的钻蚀导致SiO2绝缘层厚度减小造成的。改进制作工艺可望大大改善调制器的工作带宽。 展开更多
关键词 光调制器 电吸收 多量子阱 ingaas/inalas
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InGaAs/InAlAs光电导太赫兹发射天线的制备与表征
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作者 陈益航 杨延召 +11 位作者 张桂铭 徐建星 苏向斌 王天放 余红光 石建美 吴斌 杨成奥 张宇 徐应强 倪海桥 牛智川 《太赫兹科学与电子信息学报》 2023年第12期1403-1409,1416,共8页
光电导天线作为太赫兹时域光谱仪产生与探测太赫兹辐射的关键部件,具有重要的科研与工业价值。本文采用分子束外延(MBE)方法制备InGaAs/InAlAs超晶格作为1550 nm光电导天线的光吸收材料,使用原子力显微镜、光致发光、高分辨X射线衍射等... 光电导天线作为太赫兹时域光谱仪产生与探测太赫兹辐射的关键部件,具有重要的科研与工业价值。本文采用分子束外延(MBE)方法制备InGaAs/InAlAs超晶格作为1550 nm光电导天线的光吸收材料,使用原子力显微镜、光致发光、高分辨X射线衍射等方式验证了材料的高生长质量;通过优化制备条件得到了侧面平整的台面结构光电导天线。制备的光电导太赫兹发射天线在太赫兹时域光谱系统中实现了4.5 THz的频谱宽度,动态范围为45 dB。 展开更多
关键词 太赫兹时域光谱仪 光电导天线 分子束外延 ingaas/inalas超晶格
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InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点发光性质的影响
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作者 张子旸 金鹏 +5 位作者 曲胜春 李成明 孟宪权 徐波 叶小玲 王占国 《微纳电子技术》 CAS 2003年第2期14-16,共3页
系统研究了InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点光学性质的影响;发现InAs量子点的基态发光峰位、半高宽以及基态与第一激发态的能级间距都强烈地依赖于InAlAs薄层的厚度和In的组分;得到了室温发光波长在1.35μm,基态与第一激发态的能... 系统研究了InAlAs/InGaAs复合限制层对InAs量子点光学性质的影响;发现InAs量子点的基态发光峰位、半高宽以及基态与第一激发态的能级间距都强烈地依赖于InAlAs薄层的厚度和In的组分;得到了室温发光波长在1.35μm,基态与第一激发态的能级间距高达103 meV的InAs量子点的发光特性。这一结果对实现高T_0的长波长InAs量子点激光器的室温激射具有重要意义。 展开更多
关键词 量子点 光致发光 能级间距 inalas/ingaas复合限制层
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InAlAs/InGaAs Quantum Well Infrared Photodetectors with 3-5μm Band Grown by Gas Source Molecular Beam Epitaxy
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作者 ZHANG Yong-gang LI Ai-zhen +1 位作者 CHEN Jian-xin REN Yao-cheng 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1997年第6期443-445,共3页
The relationship between well width and subband energy as well as response wavelength of the InAlAs/InGaAs multi-quantum well structures have been calculated for the design of the devices by using Kronig-Penney model.... The relationship between well width and subband energy as well as response wavelength of the InAlAs/InGaAs multi-quantum well structures have been calculated for the design of the devices by using Kronig-Penney model.By using gas source molecular beam epitaxy grown InAlAs/InGaAs quantum well infrared photodetector(QWIP)materials have been used to fabricate QWIP devices with 3-5μm band.Ⅰ-Ⅴ characteristics and response spectra of the devices have been measured.Results show that the devices have peak response at 4.0μm with full width of half maximum of about 29.5meV. 展开更多
关键词 inalas/ingaas EPITAXY INFRARED
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Observation of the Third Subband Population in Modulation-Doped InGaAs/InAlAs Heterostructure
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作者 LI Han-xuan WANG Zhan-guo +7 位作者 LIANG Ji-ben XU Bo LU Mei WU Ju GONG Qian JIANG Chao LIU Feng-qi ZHOU Wei 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1998年第1期57-59,共3页
The population of the third(n=3)two-dimensional electron subband of InGaAs/InAlAs modulation-doped structures has been observed by means of Fourier transform photoluminescence(PL).Three well resolved PL peaks centred ... The population of the third(n=3)two-dimensional electron subband of InGaAs/InAlAs modulation-doped structures has been observed by means of Fourier transform photoluminescence(PL).Three well resolved PL peaks centred at 0.737,0.908,and 0.980eV are observed,which are attributed to the transitions from the lowest three electron subbands to the n=1 heavy-hole subband.The subband separations clearly exhibiting the features of the stepped quantum well with triangle and square potentials are consistent with numerical calculation.Thanks to the presence of Fermi cutoff,the population ratio of these three subbands can be estimated.Temperature and excitation-dependent luminescences are also analyzed. 展开更多
关键词 ingaas/inalas TRIANGLE excitation
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