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室温直流反应磁控溅射制备透明导电In_2O_3∶Mo薄膜 被引量：5
1
作者 缪维娜 李喜峰 +4 位作者 张群 黄丽 章壮健 张莉 严学俭 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期301-305,共5页
在室温条件下采用直流反应磁控溅射法制备了新型透明导电In2O3:Mo薄膜.研究了溅射压强中氧气百分含量[P(O2)]为8.0%～18.0%时对薄膜光电特性以及表面形貌结构的影响.结果表明,薄膜的光电性能对溅射压强中P(O2)非常敏感.分析显示P(O2)决... 在室温条件下采用直流反应磁控溅射法制备了新型透明导电In2O3:Mo薄膜.研究了溅射压强中氧气百分含量[P(O2)]为8.0%～18.0%时对薄膜光电特性以及表面形貌结构的影响.结果表明,薄膜的光电性能对溅射压强中P(O2)非常敏感.分析显示P(O2)决定了薄膜中的氧空位含量和载流子浓度,从而影响了薄膜的光电特性.原子力显微镜观察表明,适量的P(O2)条件下可以获得平均粗糙度为0.3 nm、颗粒均匀、表面平整的薄膜.室温制备的IMO薄膜在可见光区域的平均透射率(含玻璃基底)高达82.1%,电阻率低至5.9×10-4 Ω·cm. 展开更多
关键词 透明导电氧化物 in2o3:mo薄膜 直流反应磁控溅射法 室温
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高迁移率透明导电In_2O_3:Mo薄膜 被引量：11
2
作者 李喜峰 缪维娜 +3 位作者 张群 黄丽 章壮健 华中一 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期142-145,149,共5页
用直流磁控溅射法成功制备了高价态差掺钼氧化铟(IMO)透明导电薄膜。研究了氧分压,基板温度以及溅射电流对IMO薄膜结构和性能的影响。获得的IMO薄膜的最低电阻率为3.65×10-4Ω·cm,载流子迁移率高达50cm2V-1s-1,可见光区域的... 用直流磁控溅射法成功制备了高价态差掺钼氧化铟(IMO)透明导电薄膜。研究了氧分压,基板温度以及溅射电流对IMO薄膜结构和性能的影响。获得的IMO薄膜的最低电阻率为3.65×10-4Ω·cm,载流子迁移率高达50cm2V-1s-1,可见光区域的平均透射率(含玻璃基底)高于80%。X ray衍射(XRD)研究表明IMO薄膜具有良好的结晶性。分析认为IMO薄膜的载流子迁移率主要受晶界散射的控制。 展开更多
关键词 in2o3 载流子迁移率 直流磁控溅射法 mo 透明导电薄膜 掺钼氧化铟 结构和性能 Imo 基板温度 低电阻率 玻璃基底 可见光区 氧分压 透射率 结晶性 cm 散射
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靶功率对射频磁控溅射制备MoS_2-Sb_2O_3复合薄膜结构和性能的影响 被引量：4
3
作者 张延帅 周晖 +2 位作者 万志华 桑瑞鹏 郑军 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2011年第7期70-74,共5页
采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜,研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构,用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力,通过承载力试验测试薄膜的承载性能,使用真空球-盘摩擦试验机测试真空... 采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜,研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构,用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力,通过承载力试验测试薄膜的承载性能,使用真空球-盘摩擦试验机测试真空和大气下薄膜的摩擦因数及耐磨寿命。结果表明:使用射频磁控溅射制备的MoS2-Sb2O3复合薄膜具有准非晶结构,其薄膜结构和成分受沉积时的靶功率影响;MoS2-Sb2O3复合薄膜在真空下具有比大气下更稳定的摩擦学性能,更长的耐磨寿命;提高溅射原子能量能有效地提高MoS2-Sb2O3复合薄膜的承载性能,减少薄膜的内应力,提高薄膜的附着力,提高薄膜的耐磨寿命。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 moS2-Sb2o3 复合薄膜 靶功率 结构和性能
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In_2O_3:W薄膜的制备及光电性能研究 被引量：5
4
作者 李渊 王文文 张俊英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1457-1460,共4页
采用直流磁控溅射法制备了掺钨氧化铟(In2O3:W,IWO)薄膜,研究了制备工艺对薄膜表面形貌和光电性能的影响。结果表明薄膜的表面形貌与其光电性能有着紧密联系。氧分压显著影响薄膜的表面形貌进而对薄膜的光电性能产生影响,同时溅射时间... 采用直流磁控溅射法制备了掺钨氧化铟(In2O3:W,IWO)薄膜,研究了制备工艺对薄膜表面形貌和光电性能的影响。结果表明薄膜的表面形貌与其光电性能有着紧密联系。氧分压显著影响薄膜的表面形貌进而对薄膜的光电性能产生影响,同时溅射时间的变化也显著影响薄膜的光电性能:随着氧分压以及溅射时间的升高,薄膜的电阻率均呈现先减小后增大的变化规律,在氧分压为2.4×10-1Pa条件下,制备样品的表面晶粒排布最细密,其电阻率达到6.3×10-4Ω.cm,载流子浓度为2.9×1020cm-3,载流子迁移率为34cm2/(V.s),可见光平均透射率约为85%,近红外光平均透射率>80%。 展开更多
关键词 in2o3∶W薄膜 直流磁控溅射 氧分压 溅射时间 表面形貌 光电性能
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正交相Y_2Mo_3O_(12)薄膜的制备及光吸收性能研究
5
作者 程慧 晁明举 +2 位作者 梁二军 姜雅丽 刘志锋 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第18期8-11,共4页
采用磁控溅射法在Si(100)和石英衬底上沉积Y2Mo3O12,并经退火处理获得正交相Y2Mo3O12薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪、变温拉曼光谱仪和紫外-可见光谱计研究了薄膜的表面形貌、结晶特性、吸湿性和光吸收性能。结果表明,磁控溅射沉积Y2... 采用磁控溅射法在Si(100)和石英衬底上沉积Y2Mo3O12,并经退火处理获得正交相Y2Mo3O12薄膜。采用扫描电镜、X射线衍射仪、变温拉曼光谱仪和紫外-可见光谱计研究了薄膜的表面形貌、结晶特性、吸湿性和光吸收性能。结果表明,磁控溅射沉积Y2Mo3O12薄膜为非晶态,退火后结晶为正交相结构。正交相Y2Mo3O12薄膜表面平整、晶粒细小,具有可逆的脱水吸水性能,其光学带隙宽度为4.58eV,对近紫外光(波长286～270nm)具有很好的吸收性能,可应用于日盲探测器中。 展开更多
关键词 磁控溅射 Y2mo3o12薄膜 拉曼光谱 光吸收性能
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La_2Mo_3O_(12)薄膜的制备和光学性能研究
6
作者 姜雅丽 晁明举 +3 位作者 袁斌 程慧 梁二军 钱华丽 《郑州大学学报（理学版）》 CAS 北大核心 2010年第4期56-60,共5页
采用射频磁控溅射法制备La2Mo3O12薄膜并退火处理,用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计、椭偏谱仪研究了薄膜的结晶特性、表面形貌和光学性能.结果表明,射频磁控溅射制备的La2Mo3O12薄膜为非晶态,退火后La2Mo3O12薄膜结晶主... 采用射频磁控溅射法制备La2Mo3O12薄膜并退火处理,用X射线衍射仪、扫描电镜、紫外-可见分光光度计、椭偏谱仪研究了薄膜的结晶特性、表面形貌和光学性能.结果表明,射频磁控溅射制备的La2Mo3O12薄膜为非晶态,退火后La2Mo3O12薄膜结晶主要为四面体结构和少量单斜结构,且薄膜表面平整,晶粒均匀.其光学带隙为3.63 eV,对近紫外光(200～280 nm)有良好的吸收性能,折射率在1.8到2.15之间,消光系数符合正常色散关系. 展开更多
关键词 La2mo3o12薄膜 磁控溅射 光学性能
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MOCVD方法制备In2O3薄膜的性质研究
7
作者 杨帆 马瑾 +2 位作者 冯先进 孔今沂 张凯 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A01期292-293,共2页
用金属有机化学气相淀积（MOCVD）方法以三甲基铟为源材料，以O2为氧化气体，在蓝宝石衬底（0001）面上生长出了高质量的立方相In2O3薄膜。研究了In2O3薄膜的结构、表面形貌和光电性质。结果表明制备样品具有In2O3体心立方结构和（222... 用金属有机化学气相淀积（MOCVD）方法以三甲基铟为源材料，以O2为氧化气体，在蓝宝石衬底（0001）面上生长出了高质量的立方相In2O3薄膜。研究了In2O3薄膜的结构、表面形貌和光电性质。结果表明制备样品具有In2O3体心立方结构和（222）方向择优取向生长，电阻率～6．40×10^-3Ω·cm，在可见光区域的平均透过率达到了90％以上。 展开更多
关键词 moCVD in2o3薄膜 结构性质 光电性质
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沟道层厚度对室温制备的In_2O_3薄膜晶体管器件性能的影响(英文) 被引量：1
8
作者 焦洋 张新安 +3 位作者 翟俊霞 喻先坤 丁玲红 张伟风 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期324-328,共5页
在室温下采用直流磁控溅射以SiO2/Si为衬底制备了不同沟道层厚度的底栅式In2O3薄膜晶体管,讨论了沟道层厚度对底栅In2O3薄膜晶体管的电学性能的影响。实验结果表明:器件的特性与沟道层厚度有关,最优沟道层厚度的In2O3薄膜晶体管为增强型... 在室温下采用直流磁控溅射以SiO2/Si为衬底制备了不同沟道层厚度的底栅式In2O3薄膜晶体管,讨论了沟道层厚度对底栅In2O3薄膜晶体管的电学性能的影响。实验结果表明:器件的特性与沟道层厚度有关,最优沟道层厚度的In2O3薄膜晶体管为增强型,其阈值电压为2.5 V,开关电流比约为106,场效应迁移率为6.2 cm2·V-1·s-1。 展开更多
关键词 in2o3薄膜 薄膜晶体管 沟道层厚度 电学特性
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In_2O_3薄膜/锡掺杂玻璃光波导元件及其气敏性研究 被引量：7
9
作者 姑丽各娜.买买提依明 海日沙.阿不来提 阿布力孜.伊米提 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期107-111,126,共6页
本文提出利用金属氧化物半导体材料制备光波导气敏元件,检测挥发性有机物蒸汽的新方法。通过溶胶凝胶法制备了In2O3粉末并用X-衍射对样品进行表征。采用提拉法在锡掺杂玻璃光波导表面制备In2O3薄膜,研制了In2O3薄膜/锡掺杂玻璃光波导传... 本文提出利用金属氧化物半导体材料制备光波导气敏元件,检测挥发性有机物蒸汽的新方法。通过溶胶凝胶法制备了In2O3粉末并用X-衍射对样品进行表征。采用提拉法在锡掺杂玻璃光波导表面制备In2O3薄膜,研制了In2O3薄膜/锡掺杂玻璃光波导传感元件,并对挥发性有机蒸汽进行检测。实验结果表明该元件对二甲苯具有较好的气敏性,在常温下该敏感元件对于浓度为1×10-6(体积分数)的二甲苯蒸汽有比较明显响应。 展开更多
关键词 光波导气敏元件 溶胶凝胶法 in2o3纳米薄膜
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Fe_2O_3-In_2O_3复合薄膜光波导传感元件检测二甲苯气体的研究 被引量：1
10
作者 姑丽各娜.买买提依明 阿布力孜.伊米提 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期462-466,共5页
采用溶胶-凝胶法(sol-gel)制备出氧化铁-氧化铟复合材料,利用提拉法将复合材料固定在锡掺杂玻璃光波导表面研究出能够检测二甲苯气体的Fe2O3-In2O3复合薄膜/锡掺杂玻璃光波导气敏元件。将气敏元件固定在气体检测系统中对挥发性有机气体... 采用溶胶-凝胶法(sol-gel)制备出氧化铁-氧化铟复合材料,利用提拉法将复合材料固定在锡掺杂玻璃光波导表面研究出能够检测二甲苯气体的Fe2O3-In2O3复合薄膜/锡掺杂玻璃光波导气敏元件。将气敏元件固定在气体检测系统中对挥发性有机气体进行检测。实验结果表明,Fe2O3-In2O3复合薄膜/锡掺杂玻璃光波导气敏元件对二甲苯气体具有较好的响应,其响应浓度范围为1×10-3～1×10-5(V/V)。在常温下该敏感元件对于浓度为1×10-5(V/V)的二甲苯蒸汽有比较明显响应,其响应和恢复时间分别为5s和20s。Fe2O3-In2O3复合薄膜/锡掺杂玻璃光波导气敏元件具有灵敏度高、响应速度快、制作工艺简单和可逆性好等特点。 展开更多
关键词 气体传感器1 玻璃光波导2 溶胶凝胶法3 Fe2o3-in2o3复合薄膜4 二甲苯5
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Fe/Sn共掺杂In_2O_3稀磁半导体薄膜的磁性和输运性质
11
作者 仝瑞雪 周国伟 +1 位作者 马文睿 江凤仙 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期3159-3162,3167,共5页
采用脉冲激光沉积方法在Al_2O_3衬底上制备了Fe/Sn共掺杂的(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜,研究了沉积过程的氧气分压对薄膜结构、磁性和输运性质的影响,以揭示其铁磁性来源和机制。(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜为... 采用脉冲激光沉积方法在Al_2O_3衬底上制备了Fe/Sn共掺杂的(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜,研究了沉积过程的氧气分压对薄膜结构、磁性和输运性质的影响,以揭示其铁磁性来源和机制。(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜为单相立方In2O3结构,Fe和Sn取代了In2O3中In的位置。在不同氧气分压下制备的(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜具有明显的室温铁磁性,随着氧气分压的增加,薄膜的铁磁性减小。输运测量表明,(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜为n型半导体,载流子浓度约为1020 cm-3,在低温时具有明显的磁电阻效应。研究结果表明(In_(0.93)Fe_(0.05)Sn_(0.02))_2O_3薄膜的铁磁性是本征的,载流子浓度对薄膜的铁磁性有重要影响。 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 稀磁半导体 in2o3薄膜 掺杂 磁性
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Eu^3＋激活的La2Mo2O9红色荧光粉的制备与性能 被引量：20
12
作者 李旭 杨勇 +2 位作者 杨志平 关丽 刘冲 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期93-96,共4页
利用高温固相法制备了Eu3+掺杂的La2Mo2O9红色荧光粉,并对这种荧光粉的结构及发光性质进行了研究。XRD结果表明,实验合成了单一立方相的La2Mo2O9荧光粉体。该荧光粉的激发光谱由一宽带和一系列的锐峰组成;发射光谱由一系列锐峰组成,这... 利用高温固相法制备了Eu3+掺杂的La2Mo2O9红色荧光粉,并对这种荧光粉的结构及发光性质进行了研究。XRD结果表明,实验合成了单一立方相的La2Mo2O9荧光粉体。该荧光粉的激发光谱由一宽带和一系列的锐峰组成;发射光谱由一系列锐峰组成,这些都与Eu3+的特征跃迁5DJ(J=0,1)和7FJ(J=1~4)相对应。结果表明该荧光粉可被395nm的紫外光和470nm的可见光有效激发,并发出峰值位于620nm左右的红光,亮度可达到传统红色荧光粉Y2O2S∶Eu3+的1.5倍以上,这表明它可以作为'蓝+黄'模式白光LED的红色补光粉,也可以作为UV-LED激发三基色荧光粉体系中的红色荧光粉。研究了Eu3+的掺杂浓度以及不同助熔剂对样品发光性质的影响。Eu3+的摩尔分数为0.3时,发光强度达到最强。质量分数为3%的NH4Cl作为助熔剂时效果最好。 展开更多
关键词 La2mo2o9 EU^3+ 固相法 白光LED
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Gd_2O_3:Eu^(3+)溶胶-凝胶薄膜发光特性研究 被引量：12
13
作者 顾牡 邱隆清 +2 位作者 刘小林 张睿 徐昕 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1190-1194,共5页
以无机稀土氧化物为原料制备了Gd2O3:Eu3+溶胶-凝胶薄膜,通过对不同Eu3+离子掺杂浓度、不同烧结温度薄膜发光强度的研究,得出Gd2O3薄膜中Eu3+离子的最佳掺杂浓度为10%、最佳热处理工艺为800℃下烧结2h;由薄膜和粉末激发谱的比较发现:薄... 以无机稀土氧化物为原料制备了Gd2O3:Eu3+溶胶-凝胶薄膜,通过对不同Eu3+离子掺杂浓度、不同烧结温度薄膜发光强度的研究,得出Gd2O3薄膜中Eu3+离子的最佳掺杂浓度为10%、最佳热处理工艺为800℃下烧结2h;由薄膜和粉末激发谱的比较发现:薄膜中存在着比粉末更有效的能量传递,从而更有利于高能射线激发发光;首次观察到薄膜经过1000℃烧结2h后发光消失,并通过SEM和XRD的实验分析对这一现象进行了解释。 展开更多
关键词 Gd2o3:Eu^3+薄膜 溶胶-凝胶法 发光特性 X射线成像 溶胶-凝胶薄膜 EU^3+离子 GD2o3 发光强度 特性研究 最佳掺杂浓度
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泡沫镍负载TiO_2和TiO_2／Al_2O_3薄膜的光催化性能研究 被引量：13
14
作者 胡海 肖文浚 +2 位作者 袁坚 施建伟 上官文峰 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期363-368,共6页
以泡沫镍为载体,Al2O3作为过渡中间层,用溶胶-凝胶法在泡沫镍上负载锐钛矿相的TiO2薄膜,制成泡沫金属基的TiO2和TiO2／Al2O3光催化剂,利用XRD和FE-SEM等测试手段对其性质进行表征,用乙醛气体的光催化降解测试其活性．研究表明:泡沫镍负... 以泡沫镍为载体,Al2O3作为过渡中间层,用溶胶-凝胶法在泡沫镍上负载锐钛矿相的TiO2薄膜,制成泡沫金属基的TiO2和TiO2／Al2O3光催化剂,利用XRD和FE-SEM等测试手段对其性质进行表征,用乙醛气体的光催化降解测试其活性．研究表明:泡沫镍负载的TiO2和TiO2／Al2O3薄膜具有良好的光催化活性,特别是TiO2／Al2O3薄膜具有更高的催化活性．这是由于负载的Al2O3过渡中间层增大了载体的比表面积,具有吸附浓缩作用,同时也增加了负载光催化剂的活性位数量．实验表明: TiO2／Al2O3薄膜的光催化活性和稳定性较单一的TiO2薄膜有非常显著的提高． 展开更多
关键词 光催化 泡沫镍 Tio2/Al2o3薄膜 乙醛降解
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二苯并噻吩和4-甲基二苯并噻吩在Mo和CoMo/γ-Al_2O_3催化剂上加氢脱硫的反应机理 被引量：16
15
作者 徐永强 赵瑞玉 +2 位作者 商红岩 赵会吉 刘晨光 《石油学报（石油加工）》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期14-21,共8页
研究了二苯并噻吩(DBT)和4-甲基二苯并噻吩(4-MDBT)在Mo/γ-Al_2O3和CoMo/γ-Al_2O_3上加氢脱硫反应的产物分布及其可能的反应网络,并通过反应压力和温度对产物分布的影响,揭示了加氢脱硫反应的可能机理。DBT在Mo/γ-Al_2O_3上的加氢脱... 研究了二苯并噻吩(DBT)和4-甲基二苯并噻吩(4-MDBT)在Mo/γ-Al_2O3和CoMo/γ-Al_2O_3上加氢脱硫反应的产物分布及其可能的反应网络,并通过反应压力和温度对产物分布的影响,揭示了加氢脱硫反应的可能机理。DBT在Mo/γ-Al_2O_3上的加氢脱硫反应主要通过直接氢解路径和加氢路径进行,两种途径的作用相近;在CoMo/γ-Al_2O_3催化剂上的加氢脱硫主要通过直接氢解路径进行。4-MDBT在Mo/γ-Al_2O_3和CoMo/γ-Al_2O_3上的加氢脱硫反应主要通过加氢路径进行。Co的加入有助于提高Mo/γ-Al_2O_3催化剂的加氢脱硫活性,尤其是直接氢解脱硫活性。4-MDBT加氢脱硫反应中加氢路径的相对作用显著大于DBT加氢脱硫反应的加氢路径,间接证明4-MDBT的加氢脱硫过程存在对“端连吸附”的空间位阻。4-MDBT分子中甲基的供电子作用有利于促进苯环的加氢反应,从而有助于缩小与DBT分子间加氢脱硫活性的差别。在DBT和4-MDBT加氢脱硫反应中,反应压力和温度对加氢路径的影响大于对氢解路径的影响。 展开更多
关键词 二苯并噻吩 4-甲基二苯并噻吩 钼 氧化铝 钴 mo/γ-Al2o3 Como/γ-Al2o3 催化剂 加氢脱硫 反应机理
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Fe_2O_3掺杂TiO_2薄膜对甲基紫溶液光催化降解 被引量：19
16
作者 崔斌 韩欢牛 +2 位作者 李淑妮 唐宗薰 史启祯 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2001年第12期958-961,共4页
甲基紫是一种相当稳定的有机物 ,能被 Ti O2 光催化降解 .本文采用 sol-gel工艺在玻璃表面制得了均匀透明的 Ti O2 薄膜 ,研究了热处理温度、涂覆层数、掺杂 Fe2 O3 等制备工艺 ,以及溶液 p H值和助催化剂H2 O2 等因素对 Ti O2 薄膜的... 甲基紫是一种相当稳定的有机物 ,能被 Ti O2 光催化降解 .本文采用 sol-gel工艺在玻璃表面制得了均匀透明的 Ti O2 薄膜 ,研究了热处理温度、涂覆层数、掺杂 Fe2 O3 等制备工艺 ,以及溶液 p H值和助催化剂H2 O2 等因素对 Ti O2 薄膜的光催化性能和稳定性的影响 .结果表明 ,掺 Fe2 O3 的 Ti O2 薄膜对甲基紫的降解率明显优于未掺 Fe2 O3 的 Ti O2 薄膜 . 展开更多
关键词 甲基紫 光降解 TIo2薄膜 FE2o3 掺杂 污水处理 二氧化钛薄膜 有机污染物 光催化 光催化剂
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α-Bi_2Mo_3O_(12)和γ-Bi_2MoO_6的水热合成及可见光催化性能 被引量：25
17
作者 李红花 李坤威 汪浩 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第3期512-516,共5页
采用水热法经调控nBi/nMo比和pH值,制备了α-Bi2Mo3O12钠米板和γ-Bi2MoO6纳米片2种钼酸铋材料。结果表明:在低pH值和较高的钼浓度下可合成α-Bi2Mo3O12,高pH值和低的钼浓度导致了γ-Bi2MoO6的形成,并对其形成机理进行了探讨;光物理和... 采用水热法经调控nBi/nMo比和pH值,制备了α-Bi2Mo3O12钠米板和γ-Bi2MoO6纳米片2种钼酸铋材料。结果表明:在低pH值和较高的钼浓度下可合成α-Bi2Mo3O12,高pH值和低的钼浓度导致了γ-Bi2MoO6的形成,并对其形成机理进行了探讨;光物理和光催化性能研究表明,Aurivillius结构的γ-Bi2MoO6在可见光区有较强的吸收和较高的光催化性能,同时对影响2种钼酸铋光催化活性的因素进行了讨论。 展开更多
关键词 α-Bi2mo3o12 γ-Bi2moo6 水热合成 光催化 可见光
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稀土Sm_2O_3对Mo_2NiB_2基金属陶瓷微观组织和力学性能的影响 被引量：10
18
作者 杨林 潘应君 +2 位作者 柯德庆 徐源源 王盼 《武汉科技大学学报》 CAS 北大核心 2017年第2期105-109,共5页
以NiB、Mo、Cr、V、Ni等几种粉末为基本原料,并以稀土Sm_2O_3为添加剂,采用真空液相烧结法制备Mo_2NiB_2基金属陶瓷。利用XRD、SEM、EDS、洛氏硬度计和电子万能试验机等研究添加Sm_2O_3对Mo_2NiB_2基金属陶瓷微观组织和力学性能的影响... 以NiB、Mo、Cr、V、Ni等几种粉末为基本原料,并以稀土Sm_2O_3为添加剂,采用真空液相烧结法制备Mo_2NiB_2基金属陶瓷。利用XRD、SEM、EDS、洛氏硬度计和电子万能试验机等研究添加Sm_2O_3对Mo_2NiB_2基金属陶瓷微观组织和力学性能的影响。结果表明,添加0.3%~0.9%的Sm_2O_3后,金属陶瓷晶粒明显细化,组织分布更加均匀,材料的硬度和抗弯强度也得到提高。当Sm_2O_3添加量为0.6%时,所得试样的晶粒最为细小,晶粒尺寸大致在0.8~3.0μm,材料的力学性能最佳,其硬度和抗弯强度分别达到HRA88.7和1550 MPa。 展开更多
关键词 金属陶瓷 mo2NiB2 稀土添加剂 SM2o3 真空液相烧结 微观组织 力学性能
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共沉淀法制备α-Bi_2Mo_3O_(12)和γ-Bi_2MoO_6及可见光催化性能 被引量：8
19
作者 杜永芳 宋继梅 +2 位作者 王红 赵绍娟 胡海琴 《合肥工业大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2012年第11期1500-1505,共6页
文章采用共沉淀法经调控pH值,在400℃煅烧下,制备了α-Bi2Mo3O12和γ-Bi2MoO62种钼酸铋材料,并对不同产物的形成机理进行了探讨,同时讨论了影响α-Bi2Mo3O12和γ-Bi2MoO62种钼酸铋光催化活性的因素。结果表明:当nBi/nMo=1∶2时,在低的pH... 文章采用共沉淀法经调控pH值,在400℃煅烧下,制备了α-Bi2Mo3O12和γ-Bi2MoO62种钼酸铋材料,并对不同产物的形成机理进行了探讨,同时讨论了影响α-Bi2Mo3O12和γ-Bi2MoO62种钼酸铋光催化活性的因素。结果表明:当nBi/nMo=1∶2时,在低的pH值(3和5)时产物为α-Bi2Mo3O12;pH=7时,产物为β-Bi2Mo2O9和γ-Bi2MoO6两相的混合物;pH=9时,产物为γ-Bi2MoO6。光催化性能研究表明,Aurivillius结构的γ-Bi2MoO6在可见光区有较强的吸收和较高的光催化性能。 展开更多
关键词 α-Bi2mo3o12 γ-Bi2moo6 共沉淀法 光催化
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中频反应磁控溅射Al_2O_3薄膜的光学性质 被引量：10
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作者 廖国进 闻立时 +1 位作者 巴德纯 刘斯明 《东北大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期687-691,共5页
采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长... 采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400-1100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式. 展开更多
关键词 AL2o3薄膜 光学性质 折射率 吸收系数 膜厚度
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