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ITO/AgNWs/ITO薄膜的制备及其性能研究: 1; 作者杨涛陈彩明 +4 位作者黄瑜佳吴少平徐华蕊汪坤喆朱归胜《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第7期1150-1159,共10页; 随着显示面板向超大尺寸、超高清、可触控的方向发展,单一的氧化铟锡(ITO)薄膜难以满足显示器件越来越高的光电性能要求,因此复合导电薄膜得以发展。本文制备了以二维银纳米线(AgNWs)导电网络嵌入ITO薄膜形成的ITO(222)/AgNWs/ITO(400)... 展开更多; 关键词 ito薄膜磁控溅射 AgNWs 导电网络复合薄膜光电性能溅射温度; 在线阅读下载PDF 职称材料

ITO/Al_2O_3复合透明导电膜的制备及光电性能被引量：3: 2; 作者季振国王超刘坤《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第3期173-175,172,共4页; 采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度... 展开更多; 关键词 ito al2O3 复合膜磁控溅射; 在线阅读下载PDF 职称材料

Al-C-Ni组分的变化对Al-C-Ni与ITO层接触电阻的影响(英文): 3; 作者金原奭金聖雄 +3 位作者崔大林柳在一李禹奉李貞烈《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期424-427,共4页; 为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题,采用低阻栅线是十分有益的,同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程。然而,由于Al较高的氧化速度,铝合金和ITO材料接触性能并不太好。文章介绍了在室温ITO沉积过程中,通过增加ACX(Al-C-... 展开更多; 关键词 ito al-C—N 接触电阻组分; 在线阅读下载PDF 职称材料

ITO/Al复合透明导电薄膜对紫外LED光电性能的提升被引量：2: 4; 作者王雪崔志勇 +5 位作者王兵薛建凯张向鹏段瑞飞曾一平李晋闽《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第9期680-684,共5页; 通过在氧化铟锡(ITO)薄膜上蒸镀金属Al,获得ITO/Al复合透明导电薄膜,研究了不同退火条件下不同Al金属层厚度的复合透明导电薄膜的方块电阻和在紫外波段的透过率。结果表明,在ITO薄膜上蒸镀2 nm厚的Al层,经550℃退火后,金属Al在ITO薄膜... 展开更多; 关键词氧化铟锡(ito) ito/al 透明导电膜紫外发光二极管(LED) 光电性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

ITO薄膜的微结构表征及其组分特性被引量：24: 5; 作者蔡琪曹春斌 +2 位作者江锡顺宋学萍孙兆奇《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期195-199,共5页; 用直流磁控溅射法制备了氧铟锡(ITO)薄膜。采用XRD、TEM、XPS对薄膜的微结构和化学组分进行了测试分析。分析结果表明:制备的薄膜中,Sn元素已固溶到In2O3晶格形成了多晶ITO。延长退火时间,薄膜的结晶度增加,SnO被氧化为SnO2并逐渐达到饱... 展开更多; 关键词 ito薄膜直流磁控溅射微结构组分; 在线阅读下载PDF 职称材料

溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能的影响被引量：1: 6; 作者程媛媛黄瑜佳 +4 位作者朱归胜徐华蕊万乐焦培文汪坤喆《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1028-1033,共6页; 本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm... 展开更多; 关键词磁控溅射分层溅射复合薄膜 ito薄膜 Ag薄膜溅射温度; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于ITO/Al/ITO结构的红外-可见光兼容隐身薄膜制备与性能研究: 7; 作者谷东董玲 +4 位作者杨季薇李海平李杰朱归胜徐华蕊《人工晶体学报》 2025年第9期1607-1613,共7页; 红外-可见光兼容隐身材料因突破单波段隐身材料的局限,能够应对多波段侦察技术而备受关注。本文利用直流磁控溅射制备了具有不同厚度Al间隔层的ITO/Al/ITO复合薄膜。通过多膜层间的表面和界面效应及多波段光学耦合等光学效应协同作用,... 展开更多; 关键词 ito/al/ito复合薄膜磁控溅射红外-可见光兼容隐身高透过率载流子迁移率; 在线阅读下载PDF 职称材料

热控涂层电子辐照效应被引量：1: 8; 作者刘宇明郑慧奇 +2 位作者丁义刚姜利祥沈自才《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期76-79,共4页; 研究防静电Kapton二次表面镜(ITO/Kapton/Al)、S781白漆两种典型热控涂层,在不同能量电子辐照后太阳吸收比退化情况,并利用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对样品表面的成分和形貌进行了分析。结果表明:相同电子注量下,不同能量电子对... 展开更多; 关键词电子辐照防静电Kapton二次表面镜 S781白漆太阳吸收比; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名ITO/AgNWs/ITO薄膜的制备及其性能研究: 1; 作者杨涛陈彩明黄瑜佳吴少平徐华蕊汪坤喆朱归胜; 机构桂林电子科技大学材料科学与工程学院广西中沛光电科技有限公司; 出处《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第7期1150-1159,共10页; 基金国家自然科学基金(62364007,U21A2065) 广西科技计划(桂科AA21077018,桂科AD23023013,桂科AB23075218) +1 种基金电子信息材料与器件教育部工程研究中心重点基金(EIMD-AA202001)。; 文摘随着显示面板向超大尺寸、超高清、可触控的方向发展,单一的氧化铟锡(ITO)薄膜难以满足显示器件越来越高的光电性能要求,因此复合导电薄膜得以发展。本文制备了以二维银纳米线(AgNWs)导电网络嵌入ITO薄膜形成的ITO(222)/AgNWs/ITO(400)复合薄膜结构,系统研究了AgNWs添加量和上层ITO薄膜溅射温度对复合薄膜结构与光电性能的影响,AgNWs金属导电网络不仅提升了薄膜的电学性能,还保持了优良的光学性能。结果表明,在旋涂600μL的AgNWs分散液、上层ITO薄膜的溅射温度为175℃时,制备的复合ITO薄膜方阻为7.13Ω/□,在550 nm处透过率为91.52%,且品质因数为57.82×10^(-3)Ω^(-1),实现了超低电阻率和高可见光透过率复合ITO薄膜的制备。; 关键词 ito薄膜磁控溅射 AgNWs 导电网络复合薄膜光电性能溅射温度; Keywords ito film magnetron sputtering AgNWs conductive network composite film photoelectric property sputtering temperature; 分类号 O78 [理学—晶体学] O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名ITO/Al_2O_3复合透明导电膜的制备及光电性能被引量：3: 2; 作者季振国王超刘坤; 机构浙江大学硅材料国家重点实验室; 出处《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第3期173-175,172,共4页; 基金国家基础研究发展规划专项 (973 )资助No G2 0 0 0 0 683; 文摘采用磁控溅射技术 ,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜。通过高温热处理 ,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2 O3 复合透明导电膜。研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结构及其光、电性能 ,结果表明 ,当预沉积Al层厚度为 4 0nm左右时 ,ITO的结晶质量得到提高 ,取向性能变好 ,电阻降低 ,而且在 4 0 0 - 80 0nm范围内具有很高的可见光透过率。实验表明 ,通过改变预沉积Al膜的厚度 ,可以改变ITO薄膜最大透过率对应的波长。; 关键词 ito al2O3 复合膜磁控溅射; Keywords ito,al 2O 3,composite films,Magnetron sputtering; 分类号 TN304.21 [电子电信—物理电子学] TN304.055 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Al-C-Ni组分的变化对Al-C-Ni与ITO层接触电阻的影响(英文): 3; 作者金原奭金聖雄崔大林柳在一李禹奉李貞烈; 机构京东方科技集团股份有限公司中央研究院; 出处《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期424-427,共4页; 基金 Supported by Key Itemof Beijing Scientific and Technical Project(No .D0304002); 文摘为克服大尺寸显示面板中反应时间的延迟问题,采用低阻栅线是十分有益的,同样在小尺寸面板上也存在这种相互匹配的过程。然而,由于Al较高的氧化速度,铝合金和ITO材料接触性能并不太好。文章介绍了在室温ITO沉积过程中,通过增加ACX(Al-C-Ni)中Ni含量来减少ACX-ITO接触电阻。经室温ITO沉积后,接触电阻成功地减少到300Ω,而且没有ACX引起的问题出现。; 关键词 ito al-C—N 接触电阻组分; Keywords ito al-C-Ni contact resistance composition; 分类号 O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名ITO/Al复合透明导电薄膜对紫外LED光电性能的提升被引量：2: 4; 作者王雪崔志勇王兵薛建凯张向鹏段瑞飞曾一平李晋闽; 机构北京中科优唯科技有限公司; 出处《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第9期680-684,共5页; 基金国家重点研发计划资助项目(2017YFB0404202)。; 文摘通过在氧化铟锡(ITO)薄膜上蒸镀金属Al,获得ITO/Al复合透明导电薄膜,研究了不同退火条件下不同Al金属层厚度的复合透明导电薄膜的方块电阻和在紫外波段的透过率。结果表明,在ITO薄膜上蒸镀2 nm厚的Al层,经550℃退火后,金属Al在ITO薄膜上形成粒径约为10 nm的颗粒,增加了薄膜表面的粗糙度,得到的复合透明导电薄膜的方块电阻和在紫外波段透过率的综合性能最佳,在360~410 nm波长的平均透过率大于95%,且方块电阻为22.8Ω/□。采用ITO/Al(100 nm/2 nm)复合透明导电薄膜制备了390 nm紫外发光二极管(LED)芯片(尺寸为325μm×275μm),与用ITO薄膜制备的LED芯片相比,其光电转换效率提升了约3%,饱和电流提升了15.00%,饱和光功率提升了15.04%。研究结果表明,采用ITO/Al复合透明导电薄膜可有效提升紫外LED的光电性能。; 关键词氧化铟锡(ito) ito/al 透明导电膜紫外发光二极管(LED) 光电性能; Keywords indium tin oxide(ito) ito/al transparent conductive films ultraviolet light emitting diode(LED) optoelectronic property; 分类号 TN312.8 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名ITO薄膜的微结构表征及其组分特性被引量：24: 5; 作者蔡琪曹春斌江锡顺宋学萍孙兆奇; 机构安徽大学物理与材料科学学院安徽农业大学理学院滁州学院电子信息工程系; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期195-199,共5页; 基金国家自然科学基金(No.50642038) 教育部博士点专项基金(No.20060357003) +1 种基金安徽大学人才队伍建设基金资助课题(No.05025103); 文摘用直流磁控溅射法制备了氧铟锡(ITO)薄膜。采用XRD、TEM、XPS对薄膜的微结构和化学组分进行了测试分析。分析结果表明:制备的薄膜中,Sn元素已固溶到In2O3晶格形成了多晶ITO。延长退火时间,薄膜的结晶度增加,SnO被氧化为SnO2并逐渐达到饱和,薄膜表面先失氧后附氧,膜中氧空位含量先增加后减少。退火1h后,薄膜具有最低电阻率(6×10-4Ω.cm)和高可见光平均透射率(93.2%)。; 关键词 ito薄膜直流磁控溅射微结构组分; Keywords ito films, DC magnetron sputtering, Microstructure, composition; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能的影响被引量：1: 6; 作者程媛媛黄瑜佳朱归胜徐华蕊万乐焦培文汪坤喆; 机构桂林电子科技大学材料科学与工程学院广西中沛光电科技有限公司; 出处《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1028-1033,共6页; 基金广西科技计划项目(桂科AA21077018,桂科AB20297053) 国家自然科学基金重点项目(U21A2065) +1 种基金广西信息材料重点实验室基金(201002-Z)。; 文摘本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm)靶材分层溅射,使ITO薄膜和Ag薄膜依次沉积在钠-钙玻璃基片上。结果表明,溅射温度对该薄膜的形貌和结构具有显著的影响。在中间Ag薄膜和顶层ITO薄膜的溅射温度均为120℃时,薄膜表面晶粒形貌由类球形转变为菱形,此时薄膜方阻为3.68Ω/Sq,在488 nm处透射率为88.98%,且品质因数为0.03Ω^(-1),实现了低方阻高可见光透射率ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的制备。; 关键词磁控溅射分层溅射复合薄膜 ito薄膜 Ag薄膜溅射温度; Keywords megnetron sputtering hierarchical sputtering composite film ito thin film Ag thin film sputtering temperature; 分类号 TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于ITO/Al/ITO结构的红外-可见光兼容隐身薄膜制备与性能研究: 7; 作者谷东董玲杨季薇李海平李杰朱归胜徐华蕊; 机构桂林电子科技大学材料科学与工程学院; 出处《人工晶体学报》 2025年第9期1607-1613,共7页; 基金国家自然科学基金(62354007,U21A2065) 广西科技计划项目(AD23023013,AA21077018) 桂林市创新平台和人才计划(20220120-1)。; 文摘红外-可见光兼容隐身材料因突破单波段隐身材料的局限,能够应对多波段侦察技术而备受关注。本文利用直流磁控溅射制备了具有不同厚度Al间隔层的ITO/Al/ITO复合薄膜。通过多膜层间的表面和界面效应及多波段光学耦合等光学效应协同作用,获得了一种可见光高透过与红外高反射的ITO/Al/ITO复合薄膜。XRD表征结果显示,Al层的插入改善了ITO薄膜的结晶性。良好的晶体结构有助于载流子的运动,与载流子迁移率为11.1 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)的双层ITO薄膜相比,复合薄膜的载流子迁移率提升到24.2 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)。Al层溅射时间9和12 s的复合薄膜的可见光透过率和红外光反射率均大于80%。; 关键词 ito/al/ito复合薄膜磁控溅射红外-可见光兼容隐身高透过率载流子迁移率; Keywords ito/al/ito composite film magnetron sputtering infrared-visible compatible stealth high transmittance carrier mobility; 分类号 O78 [理学] O484 [理学—晶体学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名热控涂层电子辐照效应被引量：1: 8; 作者刘宇明郑慧奇丁义刚姜利祥沈自才; 机构北京卫星环境工程研究所; 出处《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期76-79,共4页; 基金国家高新技术研究发展计划("836"计划) 编号:2006AA04Z414; 文摘研究防静电Kapton二次表面镜(ITO/Kapton/Al)、S781白漆两种典型热控涂层,在不同能量电子辐照后太阳吸收比退化情况,并利用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对样品表面的成分和形貌进行了分析。结果表明:相同电子注量下,不同能量电子对样品的太阳吸收比退化作用程度是有区别的。而样品光谱反射率、表面形貌、表面成分的损伤效应类似,说明不同能量电子辐照下,样品的退化机理是一致的。; 关键词电子辐照防静电Kapton二次表面镜 S781白漆太阳吸收比; Keywords Electron irradiation ito/Kapton/al films S781 white coatings Solar absorptance; 分类号 V261.933 [航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	ITO/AgNWs/ITO薄膜的制备及其性能研究	杨涛陈彩明黄瑜佳吴少平徐华蕊汪坤喆朱归胜	《人工晶体学报》 CAS 北大核心	2024	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	ITO/Al_2O_3复合透明导电膜的制备及光电性能	季振国王超刘坤	《真空科学与技术》 CSCD 北大核心	2003	3	在线阅读下载PDF 职称材料
3	Al-C-Ni组分的变化对Al-C-Ni与ITO层接触电阻的影响(英文)	金原奭金聖雄崔大林柳在一李禹奉李貞烈	《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心	2006	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	ITO/Al复合透明导电薄膜对紫外LED光电性能的提升	王雪崔志勇王兵薛建凯张向鹏段瑞飞曾一平李晋闽	《半导体技术》 CAS 北大核心	2020	2	在线阅读下载PDF 职称材料
5	ITO薄膜的微结构表征及其组分特性	蔡琪曹春斌江锡顺宋学萍孙兆奇	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	24	在线阅读下载PDF 职称材料
6	溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能的影响	程媛媛黄瑜佳朱归胜徐华蕊万乐焦培文汪坤喆	《人工晶体学报》 CAS 北大核心	2022	1	在线阅读下载PDF 职称材料
7	基于ITO/Al/ITO结构的红外-可见光兼容隐身薄膜制备与性能研究	谷东董玲杨季薇李海平李杰朱归胜徐华蕊	《人工晶体学报》	2025		在线阅读下载PDF 职称材料
8	热控涂层电子辐照效应	刘宇明郑慧奇丁义刚姜利祥沈自才	《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心	2010	1	在线阅读下载PDF 职称材料