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PtSiIRCCD器件用长焦距Si微透镜阵列的制作研究(英文)
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作者 何苗 易新建 +1 位作者 张新宇 刘鲁勤 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期94-98,共5页
为了改善 Pt Si IRCCD器件的红外响应特性 ,需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光 ,本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作 .扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测... 为了改善 Pt Si IRCCD器件的红外响应特性 ,需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光 ,本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作 .扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜阵列表面光滑 ,单元重复性好 ,其焦距可达到 685.51 μm.微透镜阵列器件与 Pt Si IRCCD器件在红外显微镜下对准胶合 ,显著改善了 IRCCD器件的光响应特性 . 展开更多
关键词 微透镜阵列 氩离子束刻蚀 红外响应特性 硅化铂 irccd器件
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