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PtSiIRCCD器件用长焦距Si微透镜阵列的制作研究(英文)
1
作者
何苗
易新建
+1 位作者
张新宇
刘鲁勤
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期94-98,共5页
为了改善 Pt Si IRCCD器件的红外响应特性 ,需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光 ,本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作 .扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测...
为了改善 Pt Si IRCCD器件的红外响应特性 ,需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光 ,本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作 .扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜阵列表面光滑 ,单元重复性好 ,其焦距可达到 685.51 μm.微透镜阵列器件与 Pt Si IRCCD器件在红外显微镜下对准胶合 ,显著改善了 IRCCD器件的光响应特性 .
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关键词
微透镜阵列
氩离子束刻蚀
红外响应特性
硅化铂
irccd器件
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职称材料
题名
PtSiIRCCD器件用长焦距Si微透镜阵列的制作研究(英文)
1
作者
何苗
易新建
张新宇
刘鲁勤
机构
华中理工大学光电子工程系
中国航天总公司二院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期94-98,共5页
基金
The projectsupported by the National Defence Technology Key Laboratory Fundation of China( 99JS1 1 .2 .0 JW0 50 5) and the N
文摘
为了改善 Pt Si IRCCD器件的红外响应特性 ,需要添加长焦距微透镜阵列进行焦平面集光 ,本文提出了一种新的方法—曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作 .扫描电子显微镜 (SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜阵列表面光滑 ,单元重复性好 ,其焦距可达到 685.51 μm.微透镜阵列器件与 Pt Si IRCCD器件在红外显微镜下对准胶合 ,显著改善了 IRCCD器件的光响应特性 .
关键词
微透镜阵列
氩离子束刻蚀
红外响应特性
硅化铂
irccd器件
Keywords
Microlenses array
Ar ion beam milling
Hybrid device
PtSi
irccd
device
分类号
TN214 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
PtSiIRCCD器件用长焦距Si微透镜阵列的制作研究(英文)
何苗
易新建
张新宇
刘鲁勤
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
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