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H_2及H^+对C_xH_(1-x)薄膜表面状态的影响
被引量：
29
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作者
吴卫东
罗江山
+7 位作者
黄勇
张占文
许华
郑永铭
陆晓明
唐永建
赵纯培
陈红
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期593-596,共4页
系统研究了 H2 流量和 H+原位处理 Cx H1-x薄膜的时间对 Cx H1-x薄膜的稳定时间、表面悬挂键密度和表面电子局域化程度的影响 ,表明 Cx H1-x薄膜的长时间 H+ 原位处理是减小 Cx H1-x薄膜表面悬挂键密度的有效途径。
关键词
薄膜
icf靶涂层技术
氢分子
氢离子
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职称材料
题名
H_2及H^+对C_xH_(1-x)薄膜表面状态的影响
被引量：
29
1
作者
吴卫东
罗江山
黄勇
张占文
许华
郑永铭
陆晓明
唐永建
赵纯培
陈红
机构
中国工程物理研究院核物理与化学研究所
四川大学分析测试中心
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期593-596,共4页
基金
国家自然科学基金资助课题!( 199895 0 1)
中国工程物理研究院院基金资助课题
高温高密度等离子体国家重点实验室基金重点项目资助
文摘
系统研究了 H2 流量和 H+原位处理 Cx H1-x薄膜的时间对 Cx H1-x薄膜的稳定时间、表面悬挂键密度和表面电子局域化程度的影响 ,表明 Cx H1-x薄膜的长时间 H+ 原位处理是减小 Cx H1-x薄膜表面悬挂键密度的有效途径。
关键词
薄膜
icf靶涂层技术
氢分子
氢离子
Keywords
C xH 1-x film
the surface dangling band density
localization
icf
coa ting layer
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TL639 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
H_2及H^+对C_xH_(1-x)薄膜表面状态的影响
吴卫东
罗江山
黄勇
张占文
许华
郑永铭
陆晓明
唐永建
赵纯培
陈红
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
29
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