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1064 nm和532 nm激光对HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反膜的激光诱导损伤研究
1
作者
邓小红
苏俊宏
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第8期617-622,共6页
规整膜系是常见的薄膜结构,但往往无法满足理想激光传输效果和仪器使用效果,由此在满足激光系统及传输的窗口要求下,以规整膜系为设计基础优化得到非规整膜系,以获得良好的激光传输效果。采用电子束热蒸发法制备了HfO_(2)/SiO_(2)非规...
规整膜系是常见的薄膜结构,但往往无法满足理想激光传输效果和仪器使用效果,由此在满足激光系统及传输的窗口要求下,以规整膜系为设计基础优化得到非规整膜系,以获得良好的激光传输效果。采用电子束热蒸发法制备了HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反射率薄膜,该薄膜的激光诱导损伤分别通过1064 nm、10 ns脉冲和532 nm、10 ns脉冲进行测试。损伤形貌分别使用尼康L150光学显微镜和ZYGO白光干涉仪进行表征。对两种波长下的激光诱导损伤阈值和损伤形貌进行比较。得到以下结果:两种波长下激光诱导损伤的典型损伤形貌在低能量脉冲辐照下表现出凹坑,周围有一定面积的烧蚀区域,在高能量脉冲辐照下表现出材料分层现象;两个波长对薄膜损伤测试过程中,1064 nm激光损伤阈值为5.64 J/cm^(2),532 nm激光损伤阈值为1.54 J/cm^(2),损伤通常起始于电场的峰值附近;不同波长下损伤形貌可能与缺陷吸收引起的热应力有关,1064 nm损伤测试中损伤形貌近似圆形,532 nm损伤形貌不规则。分析可得以下结论:该薄膜于1064 nm激光下的薄膜抗激光损伤能力优于532nm激光;1064 nm和532 nm激光下损伤形貌均为凹陷状损伤;1064 nm激光下薄膜界面场强值和峰值场强均高于532 nm激光。
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关键词
hfo
_(
2
)
/sio
_(
2
)非规整高反射率薄膜
激光诱导损伤
波长
损伤机理
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职称材料
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
被引量：
1
2
作者
张寅辉
任玲玲
+1 位作者
高慧芳
刘小萍
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期375-382,共8页
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚...
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值。利用光谱椭偏仪测量Hf O_2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数。研究了以Al2O_3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄Hf O_2薄膜厚度对光学性质的影响。实验结果表明,随着Hf O_2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度Hf O_2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收。
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关键词
纳米尺度
hfo
2
薄膜
掠入射X射线反射技术
光谱椭偏
厚度和光学表征
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职称材料
题名
1064 nm和532 nm激光对HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反膜的激光诱导损伤研究
1
作者
邓小红
苏俊宏
机构
西安工业大学光电工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第8期617-622,共6页
基金
国家自然科学基金项目(61378050)
陕西省重点研发计划项目(2018KWZ-02)。
文摘
规整膜系是常见的薄膜结构,但往往无法满足理想激光传输效果和仪器使用效果,由此在满足激光系统及传输的窗口要求下,以规整膜系为设计基础优化得到非规整膜系,以获得良好的激光传输效果。采用电子束热蒸发法制备了HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反射率薄膜,该薄膜的激光诱导损伤分别通过1064 nm、10 ns脉冲和532 nm、10 ns脉冲进行测试。损伤形貌分别使用尼康L150光学显微镜和ZYGO白光干涉仪进行表征。对两种波长下的激光诱导损伤阈值和损伤形貌进行比较。得到以下结果:两种波长下激光诱导损伤的典型损伤形貌在低能量脉冲辐照下表现出凹坑,周围有一定面积的烧蚀区域,在高能量脉冲辐照下表现出材料分层现象;两个波长对薄膜损伤测试过程中,1064 nm激光损伤阈值为5.64 J/cm^(2),532 nm激光损伤阈值为1.54 J/cm^(2),损伤通常起始于电场的峰值附近;不同波长下损伤形貌可能与缺陷吸收引起的热应力有关,1064 nm损伤测试中损伤形貌近似圆形,532 nm损伤形貌不规则。分析可得以下结论:该薄膜于1064 nm激光下的薄膜抗激光损伤能力优于532nm激光;1064 nm和532 nm激光下损伤形貌均为凹陷状损伤;1064 nm激光下薄膜界面场强值和峰值场强均高于532 nm激光。
关键词
hfo
_(
2
)
/sio
_(
2
)非规整高反射率薄膜
激光诱导损伤
波长
损伤机理
Keywords
hfo
_(2)
/sio
_(2)irregular
high
reflect
ivity
film
Laser-induced damage
Wavelength
Damage mechanism
分类号
TN249 [电子电信—物理电子学]
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
被引量：
1
2
作者
张寅辉
任玲玲
高慧芳
刘小萍
机构
中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所
太原理工大学表面工程研究所
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期375-382,共8页
基金
国家重点研发计划"国家质量基础的共性技术研究与应用"重点专项(2016YFF0204301)资助~~
文摘
Hf O_2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化。光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠。本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度Hf O_2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值。利用光谱椭偏仪测量Hf O_2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数。研究了以Al2O_3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄Hf O_2薄膜厚度对光学性质的影响。实验结果表明,随着Hf O_2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度Hf O_2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收。
关键词
纳米尺度
hfo
2
薄膜
掠入射X射线反射技术
光谱椭偏
厚度和光学表征
Keywords
nanoscale
hfo
2
thin
film
s
grazing incidence X-ray
reflect
ivity
spectroscopic ellipsometry
characterization of thickness and optical properties
分类号
O434.19 [机械工程—光学工程]
TB39 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
1064 nm和532 nm激光对HfO_(2)/SiO_(2)非规整高反膜的激光诱导损伤研究
邓小红
苏俊宏
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
0
在线阅读
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职称材料
2
纳米尺度HfO_2薄膜不同厚度对光学性质的影响
张寅辉
任玲玲
高慧芳
刘小萍
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
1
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职称材料
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